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Fターム[5F136DA02]の内容

半導体又は固体装置の冷却等 (35,223) | 冷却対象 (4,540) | 樹脂封止型装置 (813) | チップサイズパッケージ(CSP) (21)

Fターム[5F136DA02]に分類される特許

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【課題】ヒートシンクが設置された半導体装置の冷却効率を向上させる。
【解決手段】半導体装置100は、配線基板120、半導体チップ140、封止樹脂180、及びヒートシンク200を有する。配線基板120は、本実施形態では金属性のリードフレームである。半導体チップ140は、電極パッドが上を向いている状態で、配線基板120上に搭載されている。封止樹脂180は、配線基板120と半導体チップ140を封止するための樹脂である。また、ヒートシンク200は、封止樹脂180の半導体チップ140側に設けられている。ヒートシンク200は、ベース板部220と、少なくとも一つ以上のフィン240を備える。ベース板部220は、封止樹脂180上面とは重なっていない延出領域202を有し、フィン240は、少なくとも延出領域202に設置されている。 (もっと読む)


【課題】WLPのヒートスプレッダによる放熱効率を高める。
【解決手段】半導体装置1が、集積回路を主面11a側に有した半導体基板11と、パッシベーション膜13上の被覆した絶縁膜14上に形成された配線23、及び電極25と、電極25以外を覆う遮光性の封止層26と、半導体基板11の裏面11bに設けられたヒートスプレッダ30と、を備える。ヒートスプレッダ30の縁寄り部分33が半導体基板11の裏面11bの縁からはみ出ている。 (もっと読む)


【課題】バリの発生や突出を抑えること。
【解決手段】放熱板5の方向Yのライン5aの幅の中心5cは、配線基板1の方向Yのライン1aの幅の中心1cに対して、方向Xに設定距離SLだけずれている。工程(S5)では、ブレード6により方向Yのライン5aを切断し、ブレード6により方向Xとは逆方向に向かって、方向Xのライン5aを切断する。工程(S7)では、その厚みがブレード6の厚みよりも薄いブレード9により、方向X、Yのライン1aに従って樹脂封止体(1〜5)を切断する。本発明では、工程(S5、S7)により、配線基板1から放熱板5へのバリやその逆のバリの発生を抑えることができ、ブレード9の厚みをブレード6の厚みよりも薄くして、中心5cを中心1cに対して方向Xに設定距離SLだけずらすことにより、配線基板からバリが突出するのを抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】レーザー光による熱的ダメージを半導体素子に与えないようにする。
【解決手段】基材41上に形成された絶縁膜11にレーザー光を照射することによってビアホール12を形成し、半導体素子3に形成された電極4をビアホール12に位置合わせして、半導体素子3及び電極4を接着剤層13によって絶縁膜11に接着し、基材41を絶縁膜11から除去し、ビアホール12に向けてレーザー光を照射することによって、電極4まで通じる第2ビアホール14を接着剤層13に形成し、絶縁膜11に配線15をパターニングして、配線15の一部をビアホール12及び第2ビアホール14に埋めて電極4に接触させる。 (もっと読む)


【課題】
小型機器中で性能向上または維持の核となる小型CPU,ASICなどの比較的駆動電力の高い半導体集積回路のコア又はパッケージに例えばアルミ板や銅板などの高い熱伝導率を有する伝熱用金属板を介して、赤外領域での高い放射率を有する固体アルミナ材料を接触させ、熱エネルギーを赤外光に変換して放出する放射冷却を利用した冷却装置を提供する。
【解決手段】
半導体集積回路のコア又はパッケージの表面に載置する伝熱用金属板と、前記伝熱用金属板に更に載置する放射冷却用の放射率0.8以上のアルミナ材を主成分とするアルミナ板とから構成される冷却装置であり、前記伝熱板の面積及び前記アルミナ板の面積が、前記コア又はパッケージの表面の面積よりも大きいことを特徴とする半導体集積回路の冷却装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】半導体チップの一方の板面にヒートシンクを熱的に接続し、半導体チップの他方の板面にて半導体チップを基板に接続してなる半導体装置において、放熱性の向上を図る。
【解決手段】ダイシングライン2で区画されるチップ形成領域1を一面に複数個有する半導体ウェハ200を用意し、チップ形成領域1と同じ平面形状をなし、外周端部にて板面直交方向に突起部21を有する板状のヒートシンク20を用意し、半導体ウェハ200におけるダイシングライン2を跨ぐ位置に穴部11を形成し、各チップ形成領域1および穴部11の内面に、同時にはんだ濡れ性を有する金属膜10aを配置し、その上に、はんだ60を配置し、各チップ形成領域1に対して、突起部21を穴部11に挿入した状態でヒートシンク20を搭載した後、はんだ60を溶融させてヒートシンク20をはんだ付けし、次に、半導体ウェハ200をダイシングする。 (もっと読む)


【課題】 回路基板に実装された電子部品を外部応力から保護することができる。
【解決手段】 筐体20Aと、前記筐体に収容された回路基板201と、複数の半田ボール210が設けられた一方の面202aと、この一方の面とは反対側の他方の面202bとを有し、前記半田ボール210を介して前記回路基板201に電気的に接続された半導体パッケージ202と、前記半導体パッケージ202の前記他方の面202bを覆った保護カバー203と、前記半導体パッケージ202の周囲に設けられたことで前記回路基板201と前記保護カバー203とに接合した、柔軟性を有する粘着部材204と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】本発明は、半導体チップへのダメージを回避し、放熱特性の劣化を防止し、カバーフィルム剥離を容易化する半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板の第1の面上に、バンプを介して接合された半導体チップと、上記基板の第1の面上で上記半導体チップの一部を囲うリング部材と、上記リング部材の上面及び下面に配置された第1接着用テープ及び第2接着用テープと、上記リング部材及び第1接着用テープの上部に積層され上記半導体チップの裏面上部の一部を覆うヒートスプレッダー板と、上記半導体チップ裏面と上記ヒートスプレッダー板との間を充填する放熱性樹脂を有する。上記リング部材は、上記第2接着用テープにより上記基板の第1の面上に接着され、上記半導体チップは中空部内に配置され、上記第1接着用テープに一箇所のみ設けられたスリットを介して上記中空部が外部に開放される。 (もっと読む)


【課題】良好な熱伝導性を示すとともに、低コストで製造可能な金属層間に挟まれたダイを有することを特徴とする半導体装置用のフリップチップ型パッケージを提供する。
【解決手段】一方の金属層224は、ハンダボール接点を介してダイ202(例えば、ICパッドあるいはMOSFETのゲートまたはソースパッド)の第1の表面で種々のパッドに電気的かつ熱的に接続されるように構成されたリードフレームの部分を有する。他方の金属層226は、ダイ202の反対側と少なくとも熱的に接続される。本発明に係るパッケージの実施形態は、優れた放熱特性を示し、その上、ワイヤボンドにかかる費用を抑制している。本発明の実施形態は、特に、パワーデバイスのパッケージに適する。 (もっと読む)


【課題】 高温時のウェーハ反りを抑制し、チッピングや欠けを回避した自己発熱を半導体基板裏面から放熱できる放熱特性改善がされた薄型半導体装置及び製造が容易なその製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の素子領域及び当該素子領域を区画する素子分離領域14を有する半導体基板9と、素子領域に形成された半導体素子とを有する。素子分離領域は、DTI(Deep Trench Isolation) 構造であり、その底面は半導体基板9裏面に露出し、その内部は空洞になっている。この半導体基板は半導体素子を形成後に半導体基板裏面を素子分離領域14の底面が露出するまで研磨もしくはエッチングして半導体基板9を薄くすると共に素子分離領域14内部を空洞にする。 (もっと読む)


半導体アセンブリは、ヒートシンクおよびヒートシンクの表面に配置されて、第1の表面の露出部分を画定する第1のパターンポリマー層を備えた第1のサブアセンブリを含む。第1の表面の露出部分は、第1の層からヒートシンク表面に沿って半径方向内側に延びる。サブアセンブリは、第1のパターンポリマー層の半径方向外側部分に配置された第2のパターンポリマー層も含む。第1および第2の層は、パワー半導体ダイを収容するためのセルを画定する。はんだ材料が、セル内のヒートシンク表面の露出部分上に配置される。パワー半導体ダイが、セル内の第1の層の半径方向内側部分に配置され、はんだ材料によりヒートシンクに熱的に結合される。 (もっと読む)


【課題】高放熱性を実現しながら、モールド樹脂の流動による隣接ワイヤの相互接触を防止し、さらに、ワイヤの高さバラツキによるワイヤと放熱板の接触によるショートを防止することを目的とする。
【解決手段】放熱板10の半導体素子3と対向する面に絶縁樹脂9を設け、グラウンドだけでなく、電源や信号端子に接続するワイヤ8を絶縁樹脂9を介して放熱板10と熱的に接触させることにより、高い放熱性を実現することができる。この際、樹脂封止の前にワイヤ8を包含した状態で絶縁樹脂9を硬化させることにより、ワイヤ8を固定することができ、半導体素子3のパッド4のピッチが狭い場合であっても、モールド樹脂12の流動時に、隣接するワイヤ8が相互に接触してショートに到ることを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】放熱のための構成(ヒートシンク)を採用することによる製造工程数の増加を少なく抑えることができる、半導体装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体装置1は、半導体チップ2の裏面に、銅ナノペーストを用いたインクジェット印刷により形成されるヒートシンク4を備えている。したがって、半導体チップ2からの発熱は、ヒートシンク4の全体に速やかに拡散し、ヒートシンク4の表面から放出される。また、ヒートシンク4は、凹凸形状に形成されることにより表面積の拡大が図られている。そのため、ヒートシンク4に拡散(伝播)する熱をヒートシンク4の表面から効率よく放出することができる。よって、半導体装置1は、半導体チップ2からの発熱に対する優れた放熱性を発揮することができる。 (もっと読む)


【課題】内蔵された半導体チップで発生する熱を外部へ効率的に放熱できる構造を備えた部品内蔵多層回路基板を提供する。
【解決手段】コア基板上に複数の配線層と絶縁層とを交互に積層して成り、回路部品として少なくとも半導体チップを内蔵する部品内蔵多層回路基板において、
半導体チップはその回路面を積層方向に対して順方向である上向きにして配置されており、
(1)半導体チップの裏面が伝熱層により直下の層に接合されている構造と、
(2)半導体チップの回路面上に形成された伝熱ビアが、回路基板の上面に露出して設けられた放熱板と熱的に接続されている構造および(3)半導体チップの回路面上に形成された伝熱ビアが、回路基板の側面に露出して設けられた放熱板と熱的に接続されている構造のうちの少なくとも一方と
を組み合わせた構造を備えている。 (もっと読む)


【課題】高い放熱性があり、表面実装型で発熱を伴う高速MPUチップを実装するICパッケージと電子回路基板の端子を接続させるための異方導電性ゴムコネクタ及びこれを用いた電気接続方法を提供する。
【解決手段】回路基板(3)の電極(10)とボールグリッド形状(6)の電極構造の半導体(2)とを圧接接続するための異方導電性ゴムコネクタ(1)であって、ゴムコネクタ(1)は導電ゴム層と電気絶縁ゴム層からなる積層部、及び前記積層部の間に存在する電気絶縁ゴムからなるサポート部を含み、前記電気絶縁ゴム層又は前記電気絶縁ゴムからなるサポート部は、電気絶縁性の熱伝導性粒子を含み、半導体(2)からの発熱を前記電気絶縁ゴム層又は前記電気絶縁ゴムからなるサポート部から放熱する。 (もっと読む)


【課題】本発明はプリント板放熱装置に関し、放熱フィン拡大やファン高回転処理をせずに、プリント板ユニット構造で放熱方法を工夫することにより、放熱効率を上げ、且つ低コスト、低騒音を実現することができるプリント板放熱装置を提供することを目的としている。
【解決手段】高発熱LSI3の上部に接着された第1の放熱フィン4と、高発熱LSI3がその上に搭載されているプリント板1の内部に高発熱LSI3の熱を逃がす内層パターンと、該内層パターンから伝達された熱を放熱するために、プリント板1上に接着された第2の放熱フィン25と、を設けて構成される。この結果、高発熱用LSIの十分な放熱が可能となる。 (もっと読む)


【課題】放熱性が向上された半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置10は、半導体基板11と、半導体基板11の上面(第2主面)に搭載されたヒートシンク(放熱体)と、半導体基板11の下面(第1主面)に形成された配線14等を具備している。ヒートシンク17は、半導体基板11の上面に搭載され、その平面的な大きさは半導体基板11と略同一である。また、ヒートシンク17の厚みは、500μm〜2mmであり、半導体基板11よりも厚く形成されても良い。ヒートシンク17により補強されることで、半導体基板11を例えば50μm程度に薄くすることができるので、結果的に半導体装置10全体を薄くすることができる。 (もっと読む)


【課題】温度上昇を防ぐことができる半導体装置および半導体装置実装基板を提供する。
【解決手段】半導体基板1は、半導体基板1上に設けられた保護膜2と、この保護膜2上に設けられた絶縁層5と、この絶縁層5上に配された導電層8とを備えており、絶縁層5には発生した熱を外部に効率よく放出するための放熱用開口部4が形成され、放熱用開口部4内には伝熱用導電層9と伝熱用導電層9の表面に形成された放熱部6が設けられている。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の放熱性を向上させる。
【解決手段】半導体装置10は、動作時に発熱する高発熱領域13が存在する半導体基板12と、複数の電極パッド16を配列されて露出させるチップ絶縁膜18と、チップ絶縁膜上に設けられている第1絶縁膜20と、高温領域12aaを含んで覆う熱伝導配線部24、及び第1端部が電極パッドに電気的に接続されていて、電極パッドの配列の内側である第1絶縁膜上に存在して延在している複数の配線部を含む再配線層22と、第1絶縁膜上に設けられている第2絶縁膜28と、熱伝導配線部に接続されている熱伝導端子34と、配線部の一部分に電気的に接続されている複数の搭載端子36とを具えている。 (もっと読む)


【課題】 薄片化したチップの機械的強度を向上させたメモリモジュールを提供する。
【解決手段】 情報を格納するためのメモリコアチップ10a〜10dと、データの入出力を制御するインターフェースチップ30と、外部との間でデータを送受信するインターポーザチップ40と、インターポーザチップの最近傍に設けられた外部接続用端子46とを有するメモリモジュールにおいて、インターフェースチップ30の最近傍に放熱板20が設けられ、インターポーザチップ40は、メモリコアチップと同質の半導体材料を基板とし、一方の面に外部接続用端子を保持するためのランド41、外部用接続端子に接続された配線44、および配線を絶縁するための絶縁膜が一体形成されている構成である。 (もっと読む)


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