【課題】オートコリメータを使用したレンズの偏心測定精度を改善する。
【解決手段】オートコリメータ１００を用い、かつ光軸を有する光学素子１を回転させて上記光学素子における上記光軸と回転軸との偏心を調整する偏心調整方法であって、光源１３０が発する光束から回折光学素子１１２によりそれぞれ異なる次数の回折光１３１，１３２を上記光学素子の光学作用面１ａ及びフランジ面１ｃに照射し、受光部１２０で検出された検出結果から、上記光学作用面における光軸と上記光学素子の上記回転軸とが一致するように上記光学素子を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、対象物の三次元形状を精度良く測定する三次元測定装置を提案する。
【解決手段】 三次元測定装置（１００）は、試料（Ｔ）の表面からの反射光を結像する結像光学系（１０）と、結像光学系を介して試料の表面を撮像する撮像部（１５）と、結像光学系の焦点位置と試料の位置とを結像光学系の光軸方向に相対的に変化させながら撮像部で撮像して得た複数の画像に基づいて試料の三次元形状を算出する三次元算出部（１７）と、を備える。そして結像光学系は、ｆ＊θ＜ｈ＜ｆ＊ｔａｎθの関係を満たす。
ここで、ｆ：結像光学系の焦点距離、ｈ：結像光学系の光軸から試料の任意の点までの距離、θ：結像光学系の光軸と結像光学系から試料への主光線とのなす角とする。 （もっと読む）

【課題】計測物体の変位分布を高速に計測するとともに小型化が可能な変位分布計測方法、装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】本発明による変位分布計測装置（１）は、所定の波長の光を照射するレーザ光源（１１）と、照射された光を物体光と参照光とに分離するビームスプリッタ（１４）と、参照光の位相を所定量だけシフトさせるミラー付きＰＺＴステージ（２０）と、位相シフトされた参照光を複数に分岐するペリクルビームスプリッタ（１７，１８）と、計測物体（２３）により散乱された物体光と、分岐された参照光との干渉縞を撮影するＣＣＤセンサ（１５，１６）とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】対象物のパターンに依存することなくビームスプリッタの反射率を安定させることが可能な高さ検出装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の高さ検出装置１００は、対象物１０１面に照明光を照明する照明光学系２００と、対象物１０１面から反射された反射光を入射するλ／４板２７０と、λ／４板２７０を通過した反射光を分岐するビームスプリッタ２２２と、ビームスプリッタ２２２によって分岐された反射光の一方を前記反射光の結像点の前側で受光して、光量を検出する光量センサ２５２と、結像点の後側で受光して、光量を検出する光量センサ２５４と、光量センサ２５２，２５４の出力に基づいて対象物１０１面の高さを演算する演算回路２６０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】測定対象の幅方向に対して広範囲で欠陥を検出する。
【解決手段】第１のミラー群１２に入射されたレーザ光の波面は、分割されて反射され、光学フィルム１０の幅方向に配列された状態で光学フィルム１０に照射される。光学フィルム１０に照射されたそれぞれのレーザ光の波面は、光学フィルム１０を介して第２のミラー群１３で反射され、光学フィルム１０を介して、第１のミラー群１２に対して入射される。第１のミラー群１２に入射されたレーザ光は、再び１つの波面が揃い、ウェッジプレート４に入射される。そして、ウェッジプレート４の第１の面Ｓ１で反射されるとともに、第２の面Ｓ２で反射されることにより２つの波面に分割される。２つの波面が干渉することにより、撮像部７において干渉縞が撮像され、撮像された干渉縞の画像データに対して、解析部８による解析が行われる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント成型積層体の欠陥検査や膜厚測定を簡便かつ迅速に、非破壊で行うことが可能な検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明の検査方法は、鋳型モールドを用いるナノインプリント法により成型されたレジスト材料からなる膜層を有する基板に対して、レジスト材料を発光させる励起波長の光を照射し、基板上の成型されたレジスト材料からなる膜層からの発光を発光パターン画像として取得する工程(1)と、該発光パターン画像を、成型に用いた鋳型モールドのパターン画像又は同一鋳型モールドで繰り返し成型した該発光パターン画像と異なる発光パターン画像と比較し、画像の相違点を欠陥として検出する欠陥検出工程(2)及び／又は、該発光パターン画像を発光強度により解析し、発光強度の値から膜厚を測定する膜厚測定工程(3)とを含み、半導体、配線基板、電子デバイス、光学デバイス等の製造における品質管理に有用である。 （もっと読む）

【課題】オブジェクト表面上のポイントの三次元位置情報を測定する好適な装置および方法を提供すること。
【解決手段】一実施形態において、上記方法は、スペクトル分布を有する２つの放射ソースを提供する工程と、上記ソースの各々で上記表面を照射して第１の縞パターンを生成する工程と、上記第１の縞パターンを第２の位置に移動させる工程と、第１のラップされたサイクルマップを生成する工程と、該第１の縞パターン中の縞数を推定する工程と、該第１の縞パターンを変化させる工程と、該第２の縞パターンを第２の位置に移動させる工程と、第２のラップされたサイクルマップを生成する工程と、該第２の縞パターン中の縞数を推定する工程と、上記第２の縞パターンおよび上記第２のラップされたサイクルマップ中の推定された縞数に応答して位置情報を判定する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】対象物の撮影画像に基づいて指定した目的像を対象物に投影する投影システムにおいて、撮影手段と投影手段との光軸差から生じる投影像と目的像とのずれを補正する処理を迅速に行う。
【解決手段】プロジェクタ１０の原像面上にて、目的像を構成する注目点Ｘに対応する原像対応点Ｗを探索する際の探索範囲を、注目点Ｘそれぞれに対応してビデオカメラ８及びプロジェクタ１０に関するエピポーラ幾何により定まる原像面におけるエピポーラ線Ｌpのうち一部区間に限定する。 （もっと読む）

【課題】所定の精度を確保しつつ測定に要する時間を短縮することのできる測定装置を提供する。
【解決手段】撮像素子１７からのライン反射光Ｒｌの取得データに基づいて被測定物の表面形状を計測する測定装置１０である。ライン反射光Ｒｌを撮像素子１７の受光面に結像させる複数の結像光学系（３３、３４）と、ライン光Ｌの延在方向で見て互いに異なる測定位置における被測定物（１６）上でのライン光Ｌの形状を取得させるべくライン反射光Ｒｌを分岐して各結像光学系へと導く光束分岐機構３３とを備え、撮像素子１７は、受光面上において複数のセグメントが設定されているとともに各セグメントが複数の領域に区画され、各セグメントにおける少なくとも１つ以上の領域を受光領域とし、各結像光学系は、分岐されたライン反射光Ｒｌを撮像素子１７の受光面において互いに異なるセグメントの受光領域へと結像させる。 （もっと読む）

【課題】被検出物との距離を、コスト増を抑制しつつ精度よく光学的に検出する。
【解決手段】光学異方性を有する光センサアレイ３と、光センサアレイの検出駆動部６と、高さ検出部７とを有する。検出駆動部６は、光センサアレイ３を駆動して被検出物を撮像し受光異方性に基づいて異なる複数の検出画像Ｐ１,Ｐ２を発生する。高さ検出部７は、複数の検出画像を用いて光センサアレイ３のセンサ受光面から被検出物までの距離（高さ）を検出する。このとき高さ検出部７は、複数の検出画像に含まれる被検出物の影または反射に対応した画像部分に受光異方性の違いにより生じた位置ずれの大きさに基づいて高さを検出する。 （もっと読む）

【課題】部材の角にダレや欠けが発生している箇所と発生していない箇所が混在している部材の外形線を、画像処理を用いて正確に認識する。
【解決手段】平面を有する部材４を平面に垂直な方向から撮像した画像から部材４の外形線を演算する画像処理部３は、撮像部１が撮像した画像で部材の外形線と交差する複数の認識ラインのそれぞれで、部材４の外から内への方向で輝度が明から暗に変化する暗変化端点候補を検出する暗変化端点候補検出部３Ｃ、部材４の外から内への方向で輝度が暗から明に変化する明変化端点候補を検出する明変化端点候補検出部３Ｄ、暗変化端点候補と明変化端点候補とから端点を検出する端点検出部３Ｅ、複数の認識ラインで検出された端点との誤差の和が最小になるように部材の外形線を決定する外形線決定部３Ｆを有する。 （もっと読む）

【課題】被加工物の上面高さを計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】被加工物Ｗに向けて白色光を発光する白色光源６１と、発光した光が有する各波長を回折する回折手段６２と、回折された光の中央部を遮蔽して光を環状に形成するマスク手段６３と、形成された環状の光の像をリレーするリレーレンズ６４と、伝達された環状の光を集光して被加工物に照射する対物レンズ６５と、マスク６３手段とリレーレンズ６４との間に配設され被加工物に照射された光の反射光を分光するビームスプリッター６６と、分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６７と、通過した反射光を回折光に変換する回折格子６８と、回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６９と、波長検出手段６９からの波長信号に基いて被加工物Ｗの高さ位置を求める制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】一つのセンサで同時に正反射面及び乱反射面の傾き角度の測定を行うことができるチルトセンサを提供する。
【解決手段】検出領域に向けて測定用光を出射する投光部、および、検出領域で反射された測定用光を受光する受光部からなる光学系を備え、投光部は、発光素子とコリメータレンズとを具備して構成され、受光部は、正反射光測定部と乱反射光測定部とを備え、正反射光測定部は、受光レンズと受光素子とを具備し、乱反射光測定部は、受光レンズと、受光素子と、乱反射光受光ミラーと、正反射光乱反射光合成ハーフミラーとを具備して構成され、正反射光測定部の受光レンズ及び乱反射光測定部の受光レンズを１枚の受光レンズで兼用し、また正反射光測定部の受光素子及び乱反射光測定部の受光素子を１つの受光素子で兼用する。 （もっと読む）

【課題】対象物体に対して所定の模様が投影されている状態の画像と、所定の模様が投影されていない状態の画像とが撮像されるタイミングのずれを小さくすること。
【解決手段】投影装置は所定の模様を投影する模様投影状態と、投影を行わない模様非投影状態とで繰り返し遷移し、撮像装置は、物体の反射光を受光して電荷を生成する光電変換部と、模様投影状態である間に光電変換部によって生成された電荷を蓄積する模様投影時電荷蓄積部と、模様非投影状態である間に光電変換部によって生成された電荷を蓄積する模様非投影時電荷蓄積部と、模様投影時電荷蓄積部に蓄積された電荷を読み出すことによって所定の模様が投影された物体の画像を生成する模様投影画像生成部と、模様非投影時電荷蓄積部に蓄積された電荷を読み出すことによって所定の模様が投影されていない物体の画像を生成する模様非投影画像生成部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】測定者に負担を掛けることなく、傾斜面や曲面などの測定面を有する被測定物を良好に測定可能な光学式変位測定器を提供。
【解決手段】測定面から反射フォーカシング光に基づいて対物レンズ１７０の焦点位置を測定面に一致させる手段を備えた光学式変位測定器。フォーカシング光とは異なる波長の参照光を発する参照光用光源３１０と、参照光を測定面に照射するとともに測定面からの反射参照光をフォーカシング光と分離する波長分岐型ビームスプリッタ３３０と、分離参照光に基づいて測定面の傾き方向を検出する傾き方向検出手段３４０と、フォーカシング光および参照光の光路中において参照光を透過するとともに、フォーカシング光を遮光するフォーカシング光遮光体４１０と、傾き方向検出手段によって検出された測定面の傾き方向に応じて回転駆動機構４２０を介して遮光体を回転させる制御手段５００を備える。 （もっと読む）

【課題】測定対象となる物体の位置や姿勢を非接触で高精度に計測、制御する位置決め装置を提供する。
【解決手段】位置決め装置１は、参照光としての光周波数コムと測定光としての光周波数コムとを出射する光源１０と、光源１０から出射された測定光を測定対象４０に取り付けられた反射体４２に照射するヘッド部３０と、光源１０から出射された参照光が入射される参照面３１と、反射体４２で反射されヘッド部３０を介して戻された測定光と、参照面３１から戻された参照光との干渉光に基づく干渉信号を検出する検出部２０と、検出部２０により検出した干渉信号に基づいて参照面３１までの距離を基準にした反射体４２までの距離を求める信号処理部６０と、測定対象４０の位置を変化させるアクチュエータ５０と、信号処理部６０で求めた距離に応じてアクチュエータ５０を制御する制御部７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】比較的大きな被測定物に対しても高精度な測定が可能となるプロジェクター式測定装置を提供すること。
【解決手段】プロジェクター式測定装置１は、載置台１０と、照明部１６と、被測定物５を画像として所定倍率で光学的に取得する画像取得部２１と、画像取得部２１から出力される取得画像データに基づいて投写画像データとして出力して制御する画像制御部３１と、光源から射出される光束を、投写画像データに基づいて光変調素子により変調し、投写用光学像に変換して出力する光学変換部５１と、投写用光学像を所定倍率で投写する投写光学部５２と、投写用光学像が投写されて投写画像を形成すると共に、所定倍率で作成された基本形状図シート６を載置するスクリーン４０と、投写画像と基本形状図シート６との変位を変位データとして取得する変位取得部３６と、変位データに基づいて変位量を算出する変位量算出部３７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】エンコーダ等の機構を必要とせずに被検物の表面形状を測定することができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】被検物Ｓの表面形状を測定するための形状測定装置１は、被検物Ｓに対して照射光Ｌ１を射出する光源部１０と、照射光Ｌ１が被検物Ｓの表面で反射された物体光Ｌ２と、照射光Ｌ１から分離された第１参照光との光路差によって得られる干渉縞に基づいて被検物Ｓの所定領域の変位を基準変位として取得する基準変位解析部２０と、物体光Ｌ２と、照射光Ｌ１から分離された第２参照光とが干渉して生じる干渉縞を用いて被検物Ｓの表面形状を参照強度として取得する参照強度解析部３０とを備え、参照強度に基づいて、被検物Ｓの移動量が基準変位に関連付けられることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被測定物の三次元形状の外観を効率良く把握できる三次元形状測定システム及び三次元形状測定方法を提供する。
【解決手段】色が規則的に変化する光パルスをパルス光源５６及びチャープ導入装置６０により生成し、生成された前記光パルスをワーク３０に照射し、該ワーク３０から反射された前記光パルスの反射光像をシャッタユニット４２により取得し、取得された前記反射光像の二次元情報及び色情報を用いてワーク３０の三次元情報をカラー二次元検出器８８により取得する。また、カラー二次元検出器８８により取得されたワーク３０の二次元情報に基づいて所定の箇所を選択し、該所定の箇所における三次元情報を取得する。 （もっと読む）