【課題】原版の露光パターンに対して倍の細密度を有する微細パターンを形成可能なホログラム露光方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のホログラム露光方法は、露光パターンを有する原版と記録層を有するホログラムマスクとの間隔を、記録層に記録光の焦点が結ばれる所定の間隔に対して広がる方向に、一定の距離オフセットして、記録層に露光パターンをホログラム記録する第１の記録工程と、上記間隔を所定の間隔に対して狭まる方向に、一定の距離オフセットして、再びホログラム記録する第２の記録工程と、記録層と感光性材料膜との間隔が所定の間隔となるようにホログラムマスクと基板とを対向配置して、記録光と同一波長の露光光をホログラムマスクを介して基板に照射して感光性材料膜を露光する露光工程とを備え、記録光の波長をλとすると、オフセットする一定の距離を（２ｎ−１）λ／４に設定した。 （もっと読む）

【課題】製造に要する時間を短くでき、簡易な製造工程によって体積ホログラムを製造可能とする体積ホログラムの製造方法、及びその製造方法を用いて製造された体積ホログラムを提供すること。
【解決手段】第１入射光Ｌ１、及び第１入射光Ｌ１とは異なる方向からの第２入射光Ｌ２を用いた露光によって生じる干渉縞が記録材料２０に記録された体積ホログラムの製造方法であって、第１入射光Ｌ１及び第２入射光Ｌ２の少なくとも一方を二以上の光束に分離させる光分離工程と、光分離工程により分離された光束を用いた露光により、複数種類の間隔の干渉縞を記録材料２０に記録する露光工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】信号光用光路と参照光用光路とで光学部品を共有する割合がより多くなる光学系構成を提供する。
【解決手段】光学部品を共有する割合を多くするため、信号光２０６と参照光２１２を略平行光としてＰＢＳプリズム２０７に入射させ、ＰＢＳプリズムを出射した略平行光の参照光に対して凹レンズ２３１を用いて対物レンズ２１０に入射させる。 （もっと読む）

光信号の複数回のフィルタ通過が行われて光信号から目標スペクトル成分を除去することができるノッチフィルタシステムが提供される。有利なことに、このノッチフィルタシステムは調整可能である。カスケードの形に構成された多重ノッチフィルタを含むカスケードノッチフィルタシステムが提供され、フィルタのそれぞれが、スペクトルフィルタリング特性を有し、また、その中を光信号が通るときに目標スペクトル成分が光信号からフィルタ除去されるように、適切なフィルタ角度で光信号の経路内に配置される。光信号がフィルタ中を通過するときに目標スペクトル成分が光信号からフィルタ除去されるように、スペクトルフィルタリング特性を有するノッチフィルタと、光信号が適切な角度でフィルタ中を複数回フィルタ通過するように導くための光学アセンブリとを含むマルチパスノッチフィルタシステムが提供される。
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【課題】 この発明は、一回の露光で２つの記録層（または記録領域）を作製することができる光学素子を提供することを目的とする。
【解決手段】
この発明のホログラム光学素子２０は、第１のホログラム記録層２１と第２のホログラム記録層２１とを備え、第１のホログラム記録層２１のホログラム領域１で回折された光束と回折されない光束とが空間的に分離される距離だけ、第２のホログラム記録層２２が第１のホログラム記録層２１に離れて配置され、露光ビーム３１のうちホログラム領域１００外を通過した光とホログラム原版１０からの１次回折光３２が干渉する位置で第２のホログラム記録層２２が干渉露光され、第２のホログラム領域２が形成される。 （もっと読む）

被変調波の伝搬方向を設定する光波トラッキングシステム（Ｍ１、Ｍ２）を備えたホログラフィック投影システムは、位置制御システム及びアイファインダを使用する。本発明の目的は、特に目の現在位置（Ｐ_Ｅ）に依存して生じる光波の変形を補償する、調整可能な光波補正システムを提供することである。本願では、一般的収差のほかに、変調されかつ条件づけられた波の形状構造の主として動的な変化及び変形を減少させることが意図されている。これらの変化及び変形は、主として、変調され光学的に拡大され、アラインされた合焦表示スクリーンＳ上の波の伝搬方向の変化から結果として生じるものである。本発明によれば、光波補正システムは、調整可能な波形成手段（ＷＦＦ）と、目の現在位置から得られる位置データを用いて波形成手段の光学的挙動を設定するコンピュータ手段（ＣＵ）とを備える。調整可能な波形成手段は、空間光変調手段（ＳＬＭ）用の照明システムと投影システムの表示スクリーン（Ｓ）との間の光路に配置されている。
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【課題】レリーフホログラム、回折格子等に係る微細凹凸パターンを忠実かつ連続的に熱可塑性樹脂フィルムの表面に賦型できるようにした微細凹凸パターンの転写方法と、それによって得られる微細凹凸パターン形成フィルムを一部に具備してなる転写箔の提供を目的とする。
【解決手段】熱可塑性樹脂フィルムの表面に平板状の賦型原版をその微細凹凸パターンが設けられている面が密接するように重ね合わせた状態にしながら、これらを複数のローラーによって支持されながら移動する一対の耐熱性搬送ベルトの間に挟みつけて圧着させながら搬送させると共に、その過程で、加熱手段により加熱することにより賦型原版の微細凹凸パターンを熱可塑性樹脂フィルムに賦型せしめた後、冷却手段により冷却し、しかる後に賦型原版と熱可塑性樹脂フィルムの圧着状態を解放して分離し、賦型原版の微細凹凸パターンを熱可塑性樹脂フィルム面に転写・形成する。 （もっと読む）

【課題】 自然環境に調和し、狭隘な敷地であっても多数の納骨が可能な集合廟の提供を課題とする。
【解決手段】 円筒状の外周壁１０１からなる塔屋であって、外周壁１０１と同心円の第１の内壁１０８ａと、第１の内壁１０８ａの内側に同心円の第２の内壁１０８ｂを備え、外周壁１０１と第１の内壁１０８ａの間に緩やかな登り螺旋通路１１０を設け、第１の内壁１０８ａと第２の内壁１０８ｂの間には緩やかな下り螺旋通路１１０を設け、螺旋通路１１０に沿う前記第１の内壁１０８ａの通路から所定高さに所定間隔ごとにアーチ状に穿設された複数の納骨室１０９を備えたことを特徴とする塔屋状集合廟１００。
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【課題】本発明は、被写体を用意することなく、任意な立体画像を記録することができるホログラフィック記録装置およびホログラフィック記録方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ホログラフィック記録装置１は、光を出射するレーザ装置１１、情報光ＩＢ１，ＩＢ２および参照光ＲＢをホログラフィック記録媒体７０中で干渉させる光学系（第１ビームスプリッタ１２等）、および、各情報変換装置１８，１９からのパルス信号に応じて情報光ＩＢ１，ＩＢ２の光路を遮断・開放する各光量調整フィルタ１６，１７を有する光学系ユニット１０と、ホログラフィック記録媒体７０を左右へ移動自在に支持する記録媒体移動装置３０と、光学系ユニット１０を上下方向へ移動させる光学系ユニット移動装置２０とを備える。 （もっと読む）

【課題】図形を記録した体積型ホログラムの均一の明るさの図形部分においてそのエッジ近傍が他に比べて明るく見えず他の図形内領域と同じ明るさに見える体積型ホログラム。
【解決手段】図形１１、１２を含むパターン画像１が透過型あるいは反射型の体積型ホログラムとして記録されており、パターン画像１として、相対的に暗い背景の中に明るい図形が記録され、かつ、その図形部分の縁辺からその図形の内部に向かって明るさがその縁辺外部の背景の明るさから図形内部の明るさへ徐々に変化するグラデーション帯１３がその縁辺に沿って設けられているパターン画像１が記録されている体積型ホログラム。 （もっと読む）

【課題】導光板中を案内される光あるいは導光板から射出した光で照明する場合に照明光のムラに基づく明るさムラのない体積型ホログラムとその作成方法及びそれを用いた表示装置。
【解決手段】照明光の強度分布を補償する濃度パターンマスク４をパターン画像１を照明する光路５中あるいはパターン画像１からの物体光６射出側に、パターン画像１に近接あるいは密着して配置してパターン画像１を透過型あるいは反射型の体積型ホログラムとして記録した体積型ホログラムであって、ホログラム面で強度分布を持つ再生照明光を照射することで再生される体積型ホログラムにおいて、照明光の強度分布を補償する濃度パターン４が重畳されたパターン画像が記録されている。 （もっと読む）

【課題】 露光前から露光後までにおいてＰＤＬＣ混合物とガラス基板との界面での屈折率差を極めて小さくして反射光量を減らし、高効率な回折効率を得る。
【解決手段】 誘電異方性を有する非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーと、光重合開始剤とからなる混合物５４を一対の基板５３ａ、５３ｂ間に保持し、誘電異方性を有する非重合性液晶の常光と異常光屈折率をそれぞれｎｏ、ｎｅ、重合性モノマーあるいはプレポリマーの屈折率をｎ２とし、非重合性液晶と、重合性モノマーあるいはプレポリマーの体積比をα：（１−α）（ただし、０＜α＜１）としたとき、一対の透明基板の原板から遠いほうの基板屈折率ｎは、ｍｉｎ（ｎｏ，ｎ２）≦ｎ＜α・（２ｎｏ＋ｎｅ）／３＋（１−α）・ｎ２（ただし、ｍｉｎ（ｎｏ，ｎ２）はｎｏとｎ２のうち小さいほうの値）を満たし、ポリマーから成る層と非重合性液晶から成る層との周期的な相分離構造を形成する。 （もっと読む）

【課題】 より早くまた多量にホログラム素子を製造するための方法、装置、金型を提供する。
【解決手段】ホログラム用の加工パターンの形成された金型、ホログラム素子用の素子材料、金型搭載手段と素子材料設置手段と移動させる移動ステージ手段と加熱手段と押圧手段とを有する転写装置、を用意し加工の準備を行なう準備工程と、金型を転写装置の金型搭載手段に搭載する金型搭載工程と、素子材料を転写装置の所定の設定位置に設定する素子材料設定工程と、素子材料設定工程で設定位置に設定された素子材料または金型搭載工程で搭載された金型を移動ステージ手段によって転写可能な位置へ位置決めする位置決め工程と、所定の温度に加熱する過熱工程と、位置決工程で位置決めされた金型を素子材料へ押圧手段により押圧転写する押圧転写工程と、を備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】見る方向により観察される３Ｄ画面が切り替わる画面切替型ホログラムを簡単な構成で作製することができる方法とその方法により作製された画面切替型ホログラム。
【解決手段】見る方向により観察画面が切り替わる画面切替型ホログラム作製方法であって、複数の要素ホログラム記録材料に別々の画面に表示する物体を同一入射角の参照光を用いてホログラム記録し、その複数の要素ホログラム１１₁₁〜１１₁₃を並列配置することで１段階目のホログラム１１として構成し、その構成した１段階目のホログラム１１から各要素ホログラム１１₁₁〜１１₁₃に記録された物体像Ｏ₁ ’〜Ｏ₃ ’を同時に再生させ、その再生物体像Ｏ₁ ’〜Ｏ₃ ’近傍に２段階目のホログラム記録材料２１を配置して反射型あるいは透過型の体積ホログラムとして記録する画面切替型ホログラム作製方法。 （もっと読む）

【課題】携帯電話等の各種家電製品に用いられるガラスディスプレイ板等のホログラム処理方法、及びガラスディスプレイ板を提供する。
【解決手段】本発明のホログラム処理方法は、ガラスディスプレイ板１の裏面に文字や絵柄を施す装飾部２を除いて印刷する第一の工程と、前記装飾部２に透明インキ５を印刷する第二の工程と、８０〜１２０℃で焼き付けした後、２０〜３６時間放置する第三の工程と、１８０〜２５０℃に設定したホットスタンプ機にて前記装飾部と略同一の平面形状にホログラム処理７を行う第四の工程と、からなる。 （もっと読む）

【課題】正確な階調表現が可能なフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板(42)と、この基板に形成された一定ピッチ(P)の複数の溝からなる位相格子と、を備え、この位相格子の各溝の深さ又は幅が露光パターンを担うようにする。そして、このフォトマスクを照射する露光装置の露光光の波長をλ、結像系レンズの入射側開口数をＮＡｉとすると、Ｐ＜λ／ＮＡｉに設定する。それにより、格子が結像されなくなり、位相格子の各溝の深さや幅等で表現された露光パターンが感光材料に転写される。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイの多色フィルタとして用いるホログラフィック多色光学要素および、該要素の製造方法を提供すること。
【解決手段】ホログラフィック多色光学要素は、多色の反射型または透過型フィルタとして使用可能である。この要素は、１、２、３またはそれ以上のホログラフィック記録フィルム層を有することができる。各層は、ホログラフィックミラーを含む少なくとも第１および第２の画素体、および好ましくはさらにホログラフィックミラーを含む第３の画素体を具える。 （もっと読む）

【課題】 高い透明性をもち、スクリーン面内での色収差、輝度ムラがないホログラムスクリーン、および該スクリーンの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るホログラムスクリーン１１は、ホログラムスクリーン記録における参照光ＬＲ、すなわち非拡散光を、映像投影装置に使用される複数枚のレンズからなるズームレンズ（組合せレンズ）９０からの出射光として記録媒体１００に照射することで得られる。 （もっと読む）

【課題】記録時のエネルギー密度に対する回折効率が高く、かつ保存時の厚み変動の拡大を抑制することにより明るさのむらが生じない体積ホログラム積層体を提供する。
【解決手段】２つの基材２，７の間に、光重合可能な化合物を含む記録材料からなる体積ホログラム層５を設けた体積ホログラム積層体１Ａにおいて、前記体積ホログラム層５の２５℃における応力緩和時間が１００〜３００ｓｅｃであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ホログラム搬送時にホログラムを保護し、ホログラムを適切な配置の光源によって鑑賞することを可能とする。
【解決手段】ポストカード５０は、薄板状部材５１ａ、５１ｂが折り畳み自在とされ、２層構造の外装部５１を有する。外装部５１の内面側に位置する支持体角度矯正部５２によって、ホログラム支持板５３が支持される。外装部５１を開いた状態において、支持体角度矯正部５２の上にホログラム支持板５３が位置し、ホログラム支持板５３が開口方向に正対する位置にセットされ、その上にホログラムが配置される。外装部５１の上端部には、光源支持部５５が形成される。光源支持部５５にホログラムを適切な距離および角度で照射するように光源５６が設置される。光源支持部５５は、上方からの外光（不要光）が直接ホログラムに照射するのを防ぐ庇としての機能も果たしている。 （もっと読む）