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Fターム[4G001BC43]の内容

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Fターム[4G001BC43]に分類される特許

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【課題】窒化珪素製の転動体を用いた電食防止効果に優れる転がり軸受において、更なる長寿命化を図る。
【解決手段】内輪と、外輪と、転動体と、保持器とを備える転がり軸受において、前記転動体が、焼結助剤で緻密化された窒化珪素からなり、表面の焼結助剤の偏析物の最大径が20μm以下であり、かつ、残留焼結影響層の厚さが、該転動体の半径に対して1.0%以下であることを特徴とする転がり軸受。 (もっと読む)


【課題】高密度化された窒化ケイ素を提供する。
【解決手段】高密度化された窒化ケイ素体は、ランタナ系焼結助剤(ランタン、ネオジウム)、アルミニウム化合物系焼結助剤を用いて形成することができる。この窒化珪素と焼結助剤とを混合した組成物は、1750℃の焼結温度において、焼結及び熱間等静圧圧縮成形によって高密度化することができる。 (もっと読む)


【課題】 加工効率が高く、しかも欠けにくい窒化珪素質焼結体およびこれを用いた装飾部品を提供する。
【解決手段】 β−窒化珪素を主成分としてなり、X線回折法を用いて得られる、β−窒化珪素の(101)面および(210)面のそれぞれの回折強度をI(101),I(210)としたとき、内部における回折強度の比I(101)/I(210)は1よりも小さく、研磨された表面における回折強度の比I(101)/I(210)は1よりも大きい窒化珪素質焼結体である。回折強度の比I(101)/I(210)を上述のようにすることによって、内部から表面に向かって結晶の配向性が変化するので、内部および表面における回折強度の比I(101
)/I(210)が1よりも小さい場合に比べて、表面における破壊靱性は低くなり、加工
効率が高くなる。 (もっと読む)


【課題】信頼性や精度の高い複雑な形状も含みうる無機繊維結合セラミックス部品、及び短期間に低コストでクラックや欠け等の欠陥がなく、複雑形状の形成も可能な該部品の製造方法を提供する。
【解決手段】Si、M、C及びOを含む非晶質物質、並びにβ−SiC、MC及びCを含む結晶質微粒子とSiO及びMOを含む非晶質物質との集合体、のうち少なくとも1つからなる無機繊維と、Si及びOを含む非晶質物質、並びに結晶質のSiO及びMOを含む結晶質物質、のうち少なくとも1つからなる無機物質と、Cを主成分とする境界層と、から構成される無機繊維結合セラミックス、及び主としてSiCの焼結構造からなり、0.01〜1質量%のO、及び特定の金属原子を含有する無機繊維と、Cを主成分とする境界層と、から構成される無機繊維結合セラミックスを放電加工する無機繊維結合セラミックス部品の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】熱サイクル時における亀裂の進展が抑制されるとともに、焼結性および接合性に優れたパワーモジュール用基板を提供する。
【解決手段】回路層となる金属板と接合されてパワーモジュール用基板を形成するセラミックス基板であって、繊維状Si粒子と、非晶質Si粒子とが焼結されており、前記繊維状Si粒子が、0.05μm以上3μm以下の短軸径と3以上20以下のアスペクト比を有し、且つ、一つの断面における前記繊維状Si粒子のセラミックス基板に占める割合が、5面積%以上95面積%以下であり、前記非晶質Si粒子の平均粒子径が1nm以上500nm以下であることにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】
低抵抗、高密度窒化ガリウム系成形物、直流スパッタリングを可能とする窒化ガリウム系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】
窒化ガリウムと金属ガリウムが成形物中で別の相として存在しており、かつ前記成形物全体におけるGa/(Ga+N)のモル比が55%以上80%以下であることを特徴とする金属ガリウム浸透窒化ガリウム成形物。 (もっと読む)


【課題】サイアロン粉末を用いて高密度且つ三次元複雑形状のセラミックス製品を射出成形法により製造する方法を提供する。
【解決手段】サイアロン粉末A、焼結助剤B、および有機バインダCを含有する成形材料であって、前記サイアロン粉末Aは、平均粒径0.01μm〜3.0μmの粉末であり、前記焼結助剤Bは、Y、Yb、Al及びZrよりなる群から選択される元素の酸化物であり、サイアロン粉末Aと焼結助剤Bの合計量に占める割合が0.5〜15重量%となる量で含有されており、前記有機バインダCは、成形材料全量に占める割合が30〜70体積%となる量で含有されている、成形材料を調製し、当該成形材料を射出成形して成形体を得、当該成形体を加熱脱脂し、焼結する工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】切削工具の材料として用いた場合に、優れた耐摩耗性および耐欠損性を有する切削工具を得ることのできる焼結体およびその製造方法ならびにその焼結体を用いた切削工具を提供する。
【解決手段】立方晶型サイアロンと、β型サイアロンと、第1化合物および第2化合物の少なくともいずれかとを含む焼結体であって、第1化合物は、鉄、コバルト、ニッケル、周期律表の第4a族元素、第5a族元素、および第6a族元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素であり、第2化合物は、第4a族元素、第5a族元素、および第6a族元素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素と、炭素、窒素および硼素よりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素とからなる少なくとも1種の化合物である。 (もっと読む)


【課題】平均熱膨張係数(23〜150℃)が2〜6ppm/Kの範囲に任意に調節可能で、ヤング率が高くかつ機械的強度が大きく、焼結性に優れる窒化珪素・メリライト複合焼結体を用いた基板を提供する。
【解決手段】ヒーター基板300は、板状の基板310と、ヒートパターン320とを備える。基板310は、窒化珪素結晶相と、メリライト結晶相(Me2Si3O3N4、Meはメリライトを形成する金属元素)と、粒界相とを有する窒化珪素・メリライト複合焼結体を材料として作成されている。窒化珪素・メリライト複合焼結体の切断面におけるメリライト結晶相の占める割合は20面積%以上である。 (もっと読む)


【課題】工具の熱伝導率の低下と工具の硬度の向上とを両立した立方晶窒化硼素焼結体工具を提供する。
【解決手段】本発明の立方晶窒化硼素焼結体工具は、少なくとも工具作用点に立方晶窒化硼素焼結体を用いた立方晶窒化硼素焼結体工具であって、該立方晶窒化硼素焼結体は、立方晶窒化硼素と断熱相と結合相とを含有し、立方晶窒化硼素は、立方晶窒化硼素焼結体中に60体積%以上99体積%未満含まれ、断熱相は、Al、Si、Ti、およびZrからなる群より選択される1種以上の元素と、N、C、O、およびBからなる群より選択される1種以上の元素とからなる第1化合物を1種以上含み、該第1化合物は、立方晶窒化硼素焼結体中に1質量%以上20質量%以下含まれ、かつ100nm未満の平均粒子径を有し、立方晶窒化硼素焼結体は、70W/m・K以下の熱伝導率であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、伸縮性やドレープ性に優れ、高強度、高弾性率で、かつ複雑な形状を有する型に追随できる炭素繊維構造物、及び、衝撃強度、耐摩耗性、耐熱性、軽量性に優れ、厚肉成形品を得るのに適した炭素繊維強化炭化ケイ素複合材料(C/SiC複合材料)を提供することを目的とする。
【解決手段】
炭素繊維強化炭化ケイ素系複合材料において、炭化ケイ素系材料の強化用炭素繊維構造物が、丸編みされてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】クレータ摩耗の発生を低減し、耐チッピング性の向上を図った立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料を工具基体とする立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具、表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】 立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料からなる工具基体を超硬合金母材にろう付け接合した立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具、あるいは、さらに、工具基体と超硬合金母材の表面に硬質膜を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料の構成成分である立方晶窒化ほう素粒子の表面を、該粒子の平均直径の1/2以下の平均被覆厚さの酸化アルミニウムによって均一に切れ間なく被覆しておくことにより、クレータ摩耗発生の低減、耐チッピング性の向上を図り、また、蒸着時の高温によるろう付け部からの刃先の脱落防止を図る。 (もっと読む)


【課題】立方晶窒化ホウ素焼結体の製造において、焼結助剤を使用せず、5GPa,1400℃以上で焼結することにより、均質性、緻密性の高い高硬度立方晶窒化ホウ素焼結体を得る製造方法を提供すること。
【解決手段】メタリン酸ナトリウム水溶液中に立方晶窒化ホウ素原料粉末を分散させ、立方晶窒化ホウ素原料粉末中の二次粒子を解膠した後、この分散液を乾燥して水分を除去した後成形体を作製し、次いで、該成形体を真空中で加熱して残留するメタリン酸ナトリウム除去し、その後、該成形体を超臨界流体源、例えば、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル及びポリエチレンの1種または2種以上、とともに、5GPa以上かつ1400℃以上の高圧高温条件下で焼結することによって、均質性、緻密性の高い高硬度立方晶窒化ホウ素焼結体を得る。 (もっと読む)


【課題】溶融金属めっき浴に浮遊する異物が付着し難い溶融金属めっき浴用の浸漬部材を提供する。
【解決手段】セラミックス複合材の全質量基準で、窒化硼素(BN)を20質量%以上70質量%以下配合した窒化珪素(Si)基セラミックス複合材を用いて溶融金属浴用の浸漬部材742を形成する。この浸漬部材742を溶融金属めっき装置1に付設される異物除去装置(ガスリフトポンプ7)に用いると、浸漬部材742に対する異物(ドロスD)の付着や固着が起こり難くなるので、浸漬部材742の交換頻度を少なくすることができる。 (もっと読む)


【課題】純度が低く安価な窒化けい素原料粉末を使用して形成した場合であっても、助剤成分の分散状態を制御することが可能であり、従来の窒化けい素焼結体と同等以上の機械的強度、耐磨耗性、転がり寿命特性に加え、加工性に優れた転がり軸受け部材として好適な窒化けい素焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】金属窒化法により製造された窒化けい素粉末と焼結助剤とを混合し焼結した窒化けい素焼結体において、焼結助剤成分として希土類元素を2〜5質量%、Al元素を1〜5質量%、Ti,Zr,Hf,W,Mo,Ta,NbおよびCrからなる群より選択される少なくとも1種の元素を0.5〜5質量%含有し、気孔率が1%以下であり、上記窒化けい素焼結体を構成する窒化けい素結晶粒子の最大長さが40μm以下であり、上記窒化けい素焼結体の結晶組織における助剤成分の偏析凝集部の最大径が20μm以下であり、上記窒化けい素焼結体が不純物としてFeを10〜3500ppm含有するとともに、Caを10〜1000ppm含有しており、上記窒化けい素焼結体の破壊靭性値が6MPa・m1/2以上であり、抗折強度が600MPa以上であり、圧砕強度が150N/mm以上であることを特徴とする窒化けい素焼結体である。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットの構成材料として好適な高純度かつ高密度の金属ホウ化物焼結体の製造方法、及び上記性状を有するホウ化ランタン焼結体を提供する。
【解決手段】(a)金属炭化物、金属酸化物、金属−ホウ素複合酸化物、ホウ素炭化物及びホウ素酸化物の中から選ばれる少なくとも一種の不純物を含む金属ホウ化物粉末を、大気中にて600〜800℃の温度で加熱処理して、前記不純物を酸化する工程、(b)前記(a)工程で得られた金属ホウ化物粉末の加熱処理物を無機酸中で処理して酸化した不純物を溶出させ、不純物の除去を行う工程、及び(c)前記(b)工程で得られた金属ホウ化物粉末を加圧焼結する金属ホウ化物焼結体の製造方法、並びにLaB6を主成分とし、La、C、O及びBのうち少なくとも2つ以上の元素から構成されるLaB6以外の不純物含有量が0.3体積%以下、焼結体相対密度が88%以上のホウ化ランタン焼結体である。 (もっと読む)


【課題】窒化ケイ素焼結体からなる耐摩耗性部材において、強度や破壊靭性に加えて、転がり寿命などの摺動特性を向上させる。
【解決手段】耐摩耗性部材は、窒化ケイ素粉末に、希土類化合物を酸化物に換算して0.5〜10質量%、チタン化合物を窒化チタンに換算して0.1〜5質量%、酸化アルミニウムを0.1〜5質量%、および窒化アルミニウムを5質量%以下の範囲で添加した混合原料粉末を成形、焼結してなる窒化ケイ素焼結体を具備する。該窒化ケイ素焼結体は、長軸径が1μm以下の窒化チタン粒子を0.2〜5質量%含有する。該窒化チタン粒子は、アスペクト比が1.0〜1.2の範囲の粒子を80%以上含む。該窒化ケイ素焼結体は気孔率が0.5%以下である。 (もっと読む)


【課題】セラミックス製部品を容易にかつ迅速に、しかも低い製造コストで得ることができる、セラミックス製部品の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化ケイ素またはジルコニアを含有するセラミックス材料を成形し、焼結した中間素材13の少なくとも研削加工を施す部分を超臨界水または亜臨界水に浸漬させ、当該部分を脆くする。浸漬後の中間素材13の前記研削取代を有する部分に研削加工を施す。
これにより、転動面に研削加工が施されたセラミックス製の玉10を得る。 (もっと読む)


【課題】高い発光強度を有するβ型サイアロンの製造方法を提供する。
【解決手段】
Si6−zAl8−zで示されるβ型サイアロンにEu2+を固溶したβ型サイアロンの製造方法である。β型サイアロンの原料を混合する混合工程と、混合工程後の原料を焼成してβ型サイアロンを形成する焼成工程と、焼成工程後のβ型サイアロンにHIP(Hot Isostatic Pressing)処理を行うHIP処理工程と、HIP処理工程後のβ型サイアロンにアニ−ル処理を行うアニ−ル処理工程と、アニール処理工程後のβ型サイアロンに酸処理を行う酸処理工程を有する。 (もっと読む)


【課題】透光性に優れると共に、導電性にも優れ、LED基板や半導体基板として好適に用いることができる透光性セラミックス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】内部に、厚み方向に延びる導電体が、局所的に設けられていることを特徴とする透光性セラミックス基板であって、セラミックス粉末を準備する工程と、内部に線状の導電体が設けられたセラミックス成形体を作製する工程と、セラミックス成形体を焼結して焼結体を作製する工程と、焼結体を導電体に対して直角方向に所定の幅で切断して板状体を作製する工程とを有する製造方法を用いて製造される。 (もっと読む)


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