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Fターム[4G030AA36]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 成分 (15,407) | 第3b〜6b族元素酸化物 (4,166) | 酸化アルミニウム (1,403)

Fターム[4G030AA36]に分類される特許

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【課題】色度バラツキがなく、安定的に発光する白色又は有色LEDを得るために、青色光を均一に波長変換することができ、発光分布のバラツキが抑制されたセラミックス複合体を提供する。
【解決手段】セラミックス複合体を、Al23で構成されるマトリックス相2と、前記マトリックス相2内に形成され、一般式A3512:Ce(AはY、Gd、Tb、Yb及びLuのうちから選ばれる少なくとも1種であり、BはAl、Ga及びScのうちから選ばれる少なくとも1種である。)で表される物質で構成される主蛍光体相3と、前記マトリックス相2及び前記主蛍光体相3中に混在しているCeAl1118相4とを備えた構成とする。 (もっと読む)


【課題】比較的低コストで製造でき、低い静電正接を有し、加工性に優れた酸化アルミニウム焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウムの純度が99.0重量%以上の酸化アルミニウム焼結体であって、酸化チタンおよび二酸化ケイ素が合計で0.2重量%以上0.8重量%以下含有され、酸化アルミニウム粒子の長尺方向の平均粒径が20μm以上である。このように、酸化チタンが含有されることで、酸化アルミニウム粒子が粗大化し、酸化アルミニウム粒子同士の粒界が少なくなるため、誘電正接を低下させることができる。一方で、二酸化ケイ素が含有されるため、安定的に誘電正接を低下させることができる。また、粒子が粗大化することによって加工性を向上させることができる。また、極端に高い酸化アルミニウムの純度は不要であり、低コスト化できる。 (もっと読む)


【課題】セラミック立体リソグラフィ法を利用してセラミック物品を生産する方法において、寸法的に正確なセラミック立体リソグラフィ物品を製造するためセラミック物品の異方性収縮を補償する方法を提供する。
【解決手段】三次元座標系に関連して物品45をその寸法を含めて表示する工程にして、該物品はセラミック粒子を含む光重合性材料50,51,52,53から立体リソグラフィ装置500において生のセラミック物品として形成されるよう適合された、工程と、該生のセラミック物品を焼結した時の、該座標系の軸と関連した該生のセラミック物品の異方性収縮を補償するため、少なくとも2つの等しくない倍率を該寸法に適用する工程と、前記適用する工程の後、該立体リソグラフィ装置において該生のセラミック物品を組立てる工程と、該寸法と実質的に一致する焼結セラミック物品を形成するため該生のセラミック物品を加熱する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】使用中のAlCの酸化を抑制でき、AlCの効果を長時間持続させることができるアルミニウムオキシカーバイド組成物を提供すること。
【解決手段】AlCの結晶を有するアルミニウムオキシカーバイド組成物において、当該アルミニウムオキシカーバイド組成物を任意の断面で見たときに、AlCの結晶の断面積を円に換算したときの平均直径が20μm以上である。このアルミニウムオキシカーバイド組成物は、炭素質原料とアルミナ質原料とをアーク炉で溶融後、当該アーク炉内で冷却することで製造できる。 (もっと読む)


【課題】硬さおよび靱性をバランスよく兼ね備え、かつクラックの発生および進行を抑制することができる複合セラミックスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】第1のセラミックス原料からなる第1の粒子11aの表面上に、第1の粒子よりも小さい粒径を有し、かつ当該第1のセラミックス原料とは硬さおよび靱性が異なる原料からなる第2の粒子12aを局在させて形成させた複合体からなる原料粉体2を成形した後、焼結させる。これにより、第1のセラミックス原料からなる粗大結晶粒11が、第2の粒子12a同士が結合して形成された3次元網目構造12の網目内部に充填された状態で保持された複合セラミックス1を形成させる。 (もっと読む)


【課題】高温焼成してもクラックが入らず、故人の遺体と一緒に火葬して故人の魂が乗り移った遺品として祀ることができるようにした供養仏を提供する。
【解決手段】棺に遺体と一緒に納められて火葬され、火葬後に故人を供養するために祀られる供養仏10において、本体部分は耐火材料を用い、表面と内面とが実質的に同一の温度変化となるような肉厚の中空状で内外を連通する挿通穴を有する合掌した仏像形状に造型されて焼成され、該本体部分の表面には装飾層が形成され、該装飾層が火葬によって消失して上記本体部分の素地が露出されるようになっている。 (もっと読む)


【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適なスパッタリングターゲット及びその製造方法、並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シートを提供する。
【解決手段】本発明のスパッタリングターゲットは、酸化亜鉛(ZnO)と酸化アルミニウム(Al23)とを主成分とする焼結体からなり、焼結体の相対密度が95%以上であり、酸化亜鉛(ZnO)と酸化アルミニウム(Al23)のモル比が50:50〜95:5であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】外部の機械的影響から保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えている改善されたガラスセラミックを提供する。
【解決手段】外部の機械的影響に対して保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えているガラスセラミックであって、その際、− 硬質材料層が、並んで存在しており、かつ互いに混合されている少なくとも2つの相を含有し、− 少なくとも1つのナノ結晶相及び1つの非晶相が存在し、− 硬質材料層が、少なくとも26GPaの強度及び少なくとも0.5μmの層厚を有し、− 硬質材料層が、200℃〜1000℃の温度範囲内で耐化学薬品性であり、かつ− ガラスセラミックの熱膨張係数αが、硬質材料層の熱膨張係数αから20%を超えて相違しないガラスセラミックによって解決される。 (もっと読む)


【課題】高い耐食性を兼ね備えた安定化ジルコニア焼結耐火物、特に溶融ガラスに対する耐食性を高めた焼結耐火物を提供する。
【解決手段】化学成分として、質量%でZrOを60〜92%、SiOを2.5〜12%、Alを0.3〜4%、CaOを0.1〜10%、Yを0〜18%、CeOを0〜18%含有し、かつ、Al/SiOで表わされる質量比が0.05〜0.8の範囲である焼結耐火物であって、ZrOがY、CaO及びCeOから選ばれる少なくとも1種の成分を含んだ安定化ジルコニアとして存在し、焼結耐火物の気孔率が3〜50%である安定化ジルコニア焼結耐火物。 (もっと読む)


【課題】1200℃以下で焼成される焼結体であり、適度に高い熱膨張性と高い耐熱衝撃性を有するマイクロ波を吸収して発熱する白色セラミックスからなる陶磁器を提供する。
【解決手段】釉層が焼結体の表面に形成された陶磁器であり、当該焼結体は、全成分に対して(a)70〜92質量%のZnO、(b)5〜19質量%のSiO2及び(c)3〜18質量%のAl23を含有し、(a)〜(c)成分の全成分に対する配合割合の合計は98質量%以上であり、当該焼結体の平均線膨張係数は4.0×10-6〜5.7×10-6/Kである。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングターゲットや蒸着用タブレットとして利用され、成膜中にクラック等が発生し難いZn−Sn−O系酸化物焼結体とその製法を提供する。
【解決手段】上記酸化物焼結体は、錫がSn/(Zn+Sn)の原子数比として0.01〜0.6含有され、焼結体中における平均結晶粒径が4.5μm以下で、CuKα線を使用したX線回折によるZnSnO相における(222)面、(400)面の積分強度をそれぞれI(222)、I(400)としたとき、I(222)/[I(222)+I(400)]で表される配向度が0.52以上であることを特徴とする。この酸化物焼結体は機械的強度が改善されているため、焼結体を加工する際に破損が起こり難く、スパッタリングターゲット若しくは蒸着用タブレットとして使用された際においても透明導電膜の成膜中に焼結体の破損やクラック発生が起こり難い。 (もっと読む)


【課題】高い熱伝導特性と高い強度特性を有する、半導体装置用アルミナジルコニア焼結基板と、それを有利に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】焼結助剤が添加されていない原料組成物を焼成して得られた、ZrO2 :2〜15重量%、Y2 3 :0.01〜1重量%及びAl2 3 :残部からなる焼結基板であって、Al2 3 の平均結晶粒子径が2μmよりも大きく、7μm以下であると共に、Al2 3 粒界長さが粒界総長さの60%以上となるように構成して、熱伝導率が30W/m・K以上であり且つ曲げ強度が500MPa以上である特性を付与した。 (もっと読む)


【課題】溶融状態において好適な流動性が生じるセラミック射出成形用材料を安定的に供給できるセラミック射出成形用材料の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、セラミック製品を射出成形により製造するために用いられるセラミック射出成形用材料を製造する方法である。この製造方法は、セラミック射出成形用材料を構成する、セラミック粉末と熱可塑性樹脂からなるバインダとを少なくとも含む混合材料を用意すること;混合材料を、バインダが溶融する温度域まで加熱して溶融状態にすること;溶融状態の混合材料について、所定の温度域における流体力学形状係数を算出すること;得られた流体力学形状係数を予め定めた許容値と対比し、許容値を下回る流体力学形状係数を有する混合材料をセラミック射出成形用材料として選択すること;を包含する。 (もっと読む)


【課題】加工性と耐薬品性に優れ、原料コストや脱脂、焼成等の製造コストを低減できるアルミナ質焼結体を提供する。
【解決手段】アルミナ結晶1およびマンガンスピネル結晶2からなり、該マンガンスピネル結晶2の含有量が0.2〜5.0体積%であることにより、構造部材として必要な強度を有し、耐薬品性に優れるとともに、粒径の大きい安価なアルミナ原料を用いても低温における焼成が可能で加工性にも優れた、低コストで製造可能なアルミナ質焼結体。 (もっと読む)


【課題】高温で焼成してもクラックが生じることがなく、外観の見栄えが良好な状態で、故人の霊魂の分身たる形見の品としてお祀りすることができる供養像を提供する。
【解決手段】故人の遺体と一緒に棺に収めて火葬し、該火葬後に取り出して故人の分身たる形見の品としてお祀りする供養像18であって、該供養像18は、耐火材料を用いて、一定の肉厚で中空状に形成されて、内側と外側とを連通する連通孔20を有して、適宜の像形状に造形されてから、焼成されたものであり、更に、供養像18は、素地に対してメッキ層が形成されており、該メッキ層が火葬によって喪失して、素地が露出するようになっている。 (もっと読む)


【課題】主成分として有害物質鉛元素を含まずに、強誘電性を示しかつ外部磁場によって分極の大きさを制御可能な新規なマンガン酸化物、およびそのメモリへの利用を提供する。
【解決手段】マンガン酸化物は、ペロブスカイト構造を有する、式(1)Sr1−xBaMnO(1≧x>0.4)・・・(1)で表されるマンガン酸化物である。単位格子1の対称中心には磁性イオンであるMnイオン3が存在する。単位格子1の対称中心をMnサイトとする。単位格子1が有する8個の頂点には、SrイオンおよびBaイオンのうちいずれか一方が存在している。単位格子1が有する頂点をSrサイト2とする。単位格子1が有する6面の面心には、Oイオン4が存在する。 (もっと読む)


【課題】マイカを必須成分としないディスクロール及びその基材を提供する。
【解決手段】セラミック繊維25〜50重量%と、木節粘土5〜30重量%と、ベントナイト2〜20重量%と、アルミナ、ワラストナイト、コージェライト、焼成カオリンから選択される充填剤25〜45重量%等を含む水性スラリーを調整し、このスラリーを成形、乾燥し、ディスクロール用基材を得る。セラミック繊維は、アルミナ40〜99重量%、シリカ20〜60重量%を含む繊維。 (もっと読む)


【課題】低熱膨張で耐熱衝撃性に優れたコーディエライト質の磁器焼結体、特に磁器食器を提供すると共に、Li系の低膨張釉薬を施釉しても、亀裂の発生のない磁器焼結体を提供する。
【解決手段】素地層の原料に、リチウム元素と、1.1重量%〜2.8重量%のNa2O+K2Oが含まれるよう、タルク、カオリン、アルミナ、長石、リチウム含有原料を秤量・混合し微粉砕する。釉薬層はリチウム元素を含む低熱膨張結晶を生成する釉薬を用いる。素地成形体を素焼き後、施釉し1200℃〜1300℃で本焼成を行う。 (もっと読む)


【課題】耐熱性無機基板上に塗布法で形成された高い仕事関数を有する有機EL用透明導電性基材とその製造方法、有機EL素子を提供する。
【解決手段】基板1上に、主成分として有機インジウム化合物、または有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液、あるいは、主成分として有機錫化合物、または有機錫化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を無機化して、酸化インジウム、またはドーパント金属酸化物を含む酸化インジウムである導電性酸化物を主成分とする無機膜、あるいは酸化錫、またはドーパント金属酸化物を含む酸化錫を主成分とする無機膜を形成する無機化工程の各工程からなる塗布法により透明導電膜3を形成する有機EL用透明導電性基材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高純度にもかかわらず、加工効率が高く、加工中のカケやチッピングが少ないアルミナ質セラミックスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミナ純度が99.5重量%以上のアルミナ質セラミックスであって、長軸長さが10μm以上で、アスペクト比が2以上のアルミナの異方性結晶粒子10を60%以上含む。アルミナ粒子の粒径は、大きくなるほど粒界の抵抗が少なくなるため、アルミナ粒子の長軸の長さが10μm以上であることにより、加工効率が高くなる。また、アルミナ粒子のアスペクト比が2以上であるため、ある一定の向きGに砥石が当たった際に破壊しやすい傾向が顕著に現れる。その結果、高純度にもかかわらず、加工効率が高く、加工中のカケやチッピングが少ないアルミナ質セラミックスが得られる。 (もっと読む)


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