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Fターム[4G030AA36]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 成分 (15,407) | 第3b〜6b族元素酸化物 (4,166) | 酸化アルミニウム (1,403)

Fターム[4G030AA36]に分類される特許

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【課題】本発明の目的は、高強度を有し、耐用性と耐消化性に優れたアルミナ−カーボン質スライドゲートプレートを提供することにある。
【解決手段】本発明のアルミナ−カーボン質スライドゲートプレートは、アルミナ質耐火骨材及びカーボン含有原料を炭素含量として1〜10質量%よりなる耐火性原料に対して外掛けで1〜15質量%のAl−Si合金を含有してなり、1000℃を超え、1500℃までの温度範囲で焼成処理されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、燃焼ガスなどCO2を多く含む混合ガスの中から、高い処理速度でCO2を分離することを可能にする新規な多孔質セラミックフィルタを提供することを目的とする。
【解決手段】多孔質セラミックフィルタの細孔の平均細孔径を分離対象ガスの平均自由行程と同程度のサイズにするとともに、細孔表面を分離対象ガスに対して親和性を有するように改質することによって、ガス透過性と分離能を同時に最適化する。本発明の多孔質セラミックフィルタは、これまでCCS実用化の障壁となっていた遅い処理速度を大幅に改善することができる。 (もっと読む)


【課題】低温焼結が可能で、高周波領域での誘電損失が低く、メッキ耐食性に優れたセラミックス焼結体を得ることが可能なセラミックス組成物、該組成物から得られるセラミックス焼結体、及び該焼結体を用いた電子部品を提供する。
【解決手段】固相反応法により合成されたディオプサイド結晶粉末100質量部に対し、SrTiO粉末を6〜19質量部、Al成分を酸化物換算で1.4〜6質量部、Li成分を酸化物換算で0.3〜0.9質量部、B成分を酸化物換算で1.6〜3.2質量部、Zn成分を酸化物換算で3.2〜5.1質量部、Cu成分を酸化物換算で0.5〜0.9質量部、Ag成分を酸化物換算で0〜3質量部、Co成分を酸化物換算で0〜4.5質量部含有するセラミックス組成物。該組成物を用いて、セラミックス焼結体及び電子部品を得る。 (もっと読む)


【課題】イオン導電性を向上させ、長期間の使用に耐え得る化学的安定性を賦与させることが可能なアパタイトセラミックスの製造方法と、このアパタイトセラミックス用いた燃料電池を提供する。
【解決手段】ランタノイドとSi(ケイ素)とを含む原料を反応させてランタノイドシリケートからなるアパタイトセラミックスを合成する際に、下記組成式(1)のアパタイトセラミックスが生成されるようAl又はMgの少なくとも一方をドープすると共に、遷移金属を添加することを特徴とするアパタイトセラミックスの製造方法。(1−α){Ln9.333+x(Si6-yu+y)O26+1.5x-(2-0.5u)y}−α(MOγ)…(1)(但し、Ln;ランタノイド、T;Al又はMgの少なくとも一方の元素、M;遷移金属、0.3<x<0.867、0.1≦y≦0.4、0.002≦α<0.05、γ;遷移金属Mの価数に応じて決定される変数) (もっと読む)


【課題】調湿性能や強度を改善することができ、製造も容易な調湿建材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水酸化アルミニウムとベントナイト及び/又はモンモリロナイトとを含む原料を成形し、700〜1100℃で焼成してなる調湿建材。該原料は、水酸化アルミニウムを30〜97重量%、ベントナイト及び/又はモンモリロナイトを3〜70重量%含むか、又は水酸化アルミニウムを30〜90重量%、ベントナイト及び/又はモンモリロナイトを1〜30重量%、粘土を5〜69重量%含む。 (もっと読む)


【課題】調湿性能や強度を改善することができ、製造も容易な調湿建材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水酸化アルミニウムとタルクとを含む原料を成形し、700〜1100℃で焼成してなる調湿建材。該原料は、水酸化アルミニウムを20〜95重量%、タルクを5〜80重量%含む。原料はさらにベントナイト及び/又はモンモリロナイトと粘土との少なくとも一方を含んでもよい。 (もっと読む)


【課題】肉厚が6mm以上の肉厚品を得る場合に、乾燥工程に長い時間をかけることなく、焼成時の爆発、割れ、クラック等が生じることなく、かつ寒冷地で利用する際にも問題にならない程度に吸水率の小さな陶磁器板を提供すること。
【解決手段】0.1mm以上0.5mm以下の骨材と、アノーサイトとを含有し、吸水率が2.5%未満の、1160℃未満の温度で焼成することにより得られる、陶磁器板。 (もっと読む)


【課題】焼結体組織が均一であり加工性に優れ、焼結体本来の呈色が保持された酸化アルミニウム焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶粒子と粒界相とからなる酸化アルミニウム焼結体であって、結晶粒子中に酸化チタンが0.08質量%以上0.30質量%以下固溶している。このように結晶格子中に酸化チタンが固溶し、粒成長が促進されているため、焼結体組織が均一になり、加工性が良好となる。また、チタン酸アルミニウムの生成や酸化チタンの酸素欠損が生じ難い。 (もっと読む)


【課題】セラミックス原料から作製した成形体を乾燥したときの収縮の度合いを予測可能にする技術を提供する。
【解決手段】坏土についてのプロトン(H)を観察核とするH−NMRのT緩和時間と、この坏土から作製した成形体および乾燥体についての乾燥割り掛け(=成形体の寸法/乾燥体の寸法)との相関関係を求めておき、前記坏土の作製に用いたセラミックス原料と略同一組成のセラミックス原料から別の坏土Aを作製し、該坏土から乾燥体Cを作製する場合に、前記相関関係に基づいて坏土AについてのH−NMRのT緩和時間または乾燥体Cについての乾燥割り掛けを予測するセラミックスの乾燥割り掛けの評価方法。 (もっと読む)


【課題】軽量磁器の製造には、可塑性・焼成結晶性・耐火性などに優れた軽量磁器を、長期的に安定供給することが必要である。火山岩分類の流紋岩を微粉砕した中空発泡ガラス球体を人工的に超軽量磁器粘土へと容易に変換・生成できる製造方法を提供する。
【解決手段】嵩密度(タップ)が0.20〜0.41範囲の火山岩分類の流紋岩にある微粉小球状中空発泡ガラス球体の軽量骨材(タイセツバルーン)を主体に配合した磁器坏土泥漿を石膏鋳型に鋳込み成型した成型物を完全乾燥し、4ミクロン以下の無機中空多孔質に還元焼成して超軽量磁器を製造する。さらに耐火性と熱量性を高める目的で、タイセツバルーン表面を酸化アルミニウムで被覆すること、また高強度化の目的でカリ長石をさらに配合することも有効である。 (もっと読む)


【課題】比抵抗値を広い範囲内で調整することができると共に、比抵抗値の温度依存性を調整することが可能な導電性セラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】導電性セラミックス焼結体は、ドーパントを含む半導体セラミックスの第一相10と、非導電性セラミックスの第二相20とを具備し、第二相が第一相に取り囲まれて散在している海島構造を有する。上記構成において、第一相は、第一相全体におけるドーパントの平均濃度よりドーパントの濃度が高く、第二相を被覆しているD高濃度相11と、第一相全体におけるドーパントの平均濃度よりドーパントの濃度が低いD低濃度相12とからなるものとすることができる。 (もっと読む)


【課題】表示装置用酸化物半導体膜の製造に好適に用いられる酸化物焼結体およびスパッタリングターゲットであって、高い導電性と相対密度を兼ね備えており、高いキャリア移動度を有する酸化物半導体膜を成膜可能であり、特に、直流スパッタリング法で製造しても長時間安定して放電することが可能な直流放電安定性に優れた酸化物焼結体およびスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と;酸化スズと;Al、Hf、Ni、Si、Ga、In、およびTaよりなる群から選択される少なくとも1種の金属(M金属)の酸化物と、を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であって、面内方向および深さ方向の比抵抗をガウス分布で近似したとき、上記比抵抗の分散係数σが0.02以下である。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム及び/又はアルミニウム合金からなる鱗片状のフレーク粉末(アルミフレーク)を耐火原料中に含有させた、工業窯炉に使用される耐火物、特に鉄鋼業の製銑、製鋼プロセスに使用される耐火物の強度のばらつきを小さくすること。
【解決手段】ノンリーフィングタイプのアルミニウム及び/又はアルミニウム合金からなる燐片状のノンリーフィングアルミフレークを耐火原料中に含有させた。 (もっと読む)


【課題】熱伝導率が高く、効率のよい放熱性を達成でき、電子機器等の発熱部位における冷却用途に利用でき、しかも機械的強度や耐熱衝撃性にも優れる、アルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの製造方法、および上記の機能が発揮できる結晶粒の成長を抑えたアルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの提供。
【解決手段】アルミナ(Al23)の含有量が99.5質量%以上で、かつ、平均粒子径が0.2〜1μmであるアルミナ粉末を原料として用い、該粉末を50〜100μmの顆粒状にする顆粒化工程と、該顆粒化工程で得られた顆粒状のアルミナを含む原料を加圧成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体を大気雰囲気中で加熱して、1,480〜1,600℃の焼成温度で焼成して焼結体を得る焼成工程とを有する熱放射部材用セラミックスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】表示装置用酸化物半導体膜の製造に好適に用いられる酸化物焼結体およびスパッタリングターゲットであって、高い導電性と相対密度を兼ね備えており、高いキャリア移動度を有する酸化物半導体膜を成膜可能であり、特に、直流スパッタリング法で製造してもノジュールが発生し難く、長時間安定して放電することが可能な直流放電安定性に優れた酸化物焼結体およびスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】本発明の酸化物焼結体は、酸化亜鉛と;酸化スズと;Al、Hf、Ni、Si、Ga、In、およびTaよりなる群から選択される少なくとも1種の金属(M金属)の酸化物と、を混合および焼結して得られる酸化物焼結体であって、ビッカース硬度が400Hv以上である。 (もっと読む)


【課題】六方晶系窒化ホウ素を快削性付与剤として含み、比較的低温で、かつ、無加圧下でも製造が可能な快削性セラミックス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の快削性セラミックスは、快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、焼結助剤としてのアルミノケイ酸塩粉体と、基材としてのセラミックス粉体(ただし六方晶系窒化ホウ素及びアルミノケイ酸塩は除く)との混合物の焼結体からなり、前記六方晶系窒化ホウ素粉体の粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低抵抗な透明導電膜を得ることが可能で、耐異常放電性を有する焼結密度の高いZnO系焼結ターゲットを提供すること。
【解決手段】
Ga及び/又はAlを含むZnO系粉体に、Bを0.4wt%以下を添加したことを特徴とするZnO系ターゲット。Ga及び/又はAlを含むZnO粉体にB粉体を混合した後、700〜1000℃で仮焼結し、仮焼結体を粉砕後プレス成形した後、1200℃超の温度で焼結することを特徴とするZnO系焼結ターゲットの製造方法。 (もっと読む)


【課題】加熱効率のよいマイクロ波加熱用断熱材を提供する。
【解決手段】無機酸化物を基材とするマイクロ波加熱用の断熱材であって、微細なカーボン粒子を断熱材に分散させたことにある。カーボンの割合は、0.001〜6wt%であることが好ましい。また、断熱材の密度を2〜6g/cm3とすることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】予備スパッタ工程に要する時間を短縮化し、そのばらつきも小さくなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、酸化亜鉛を主成分とする焼結体からなり、焼結体の表面の水との接触角が80°以下である。これは、アセトン又はアルコールを用いて表面が洗浄されることによる。そして、この洗浄後、湿度が40〜80%、温度が室温から100℃以下の環境化で1時間以上静置されることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 熱膨張係数が小さくかつ誘電正接の小さいムライト質焼結体とこれを絶縁層とする多層配線基板ならびにプローブカードを提供する。
【解決手段】 ムライト質焼結体がムライトを主結晶相とし、チタン酸アルミニウムマグネシウムを含有してなるものであり、また、このムライト質焼結体を多層配線基板やプローブカードの絶縁層として適用する。 (もっと読む)


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