本発明は、パルスレーザー発振器の分野に関する。それは、レーザー共振器を含み、レーザーパルスを放射するためのパルスレーザー発振器であって、前記レーザー共振器は、少なくとも１つのポンピング放射源（５）から放射されるポンピング放射によってポンピングされることが可能であり、かつレーザー放射を放射可能なレーザー媒質（４）を含み、前記レーザー共振器（１５）は閉塞期間に前記共振器を閉塞可能なシール手段（７）を含むパルスレーザー発信器において、前記シール手段（７）は電気光学のシール手段であり、前記シール手段は供給電圧によって駆動されることが可能であり、前記供給電圧の値が変更されるとき、放射されるパルスの持続時間が変更されることを特徴とするパルスレーザー発信器に関する。
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【課題】従来よりも高いエネルギー、例えば、従来の技術において取り扱うことのできる短パルスレーザー光のエネルギーの数１０倍〜数１００倍程度の高いエネルギー（具体的には、例えば、数１０ｍＪ〜数１００ｍＪである。）の短パルスレーザー光のパルス幅を圧縮する。
【解決手段】２枚の平板を所定の間隙を開けて平行に配置して２枚の平板間に中空コアを形成しかつ中空コア内に希ガスを存在させるとともに中空コア内を短パルスレーザー光が伝搬するようにした中空導波路の中空コア内に、線状に集光された短パルスレーザー光の線状の延長方向が、中空コアの線状に集光された短パルスレーザー光の入射側端面における間隙方向と直交する自由方向に沿うように、線状に集光された短パルスレーザー光を入射して、該入射した短パルスレーザー光を中空コア内で伝搬させて該入射した短パルスレーザー光のスペクトル幅を拡げる。 （もっと読む）

【課題】パルス駆動に用いる回路や光源に負担をかけずに、高い変調周波数で変調することができる光ファイバ変調装置を提供する。
【解決手段】第１変調タイミングを制御する第１パルス制御信号及び第２変調タイミングを制御する第２パルス制御信号を生成することにより、第１変調タイミング及び第２変調タイミングの周波数、発生タイミング及びデューティ比を制御するパルス駆動制御部５と、第１と第２パルス制御信号に応じてオン／オフするパルス状の第１と第２駆動信号を生成する第１パルス駆動部１８、第２パルス駆動部１９と、第１と第２駆動信号に応じてパルス状のレーザ光を発生する第１ファイバアンプ励起用光源１１、第２ファイバアンプ励起用光源１４と、第１レーザ光及び第２レーザ光により変調及び励起されたエネルギーを外部からのシード光に付与して増幅し、第３レーザ光として出力するファイバアンプ１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】平坦な合計の利得が得られ、このため、エネルギーが高く、かつ、ピークパワーの大きい超短パルス光を得ることができる再生増幅器等を得る。
【解決手段】光学的に対向して配置された反射鏡３、４から共振器を構成する再生増幅器であって、反射鏡３、４の間で前記共振器の光軸上に配置され、利得を発生し、入射した光を増幅する２つの固体レーザ媒質２１、２２と、反射鏡３及び固体レーザ媒質２１の間で前記共振器の光軸上に配置された偏光子５と、反射鏡３及び偏光子５の間で前記共振器の光軸上に配置され、電圧印可により偏光方向の制御を行う偏光スイッチ８とを設け、固体レーザ媒質２１、２２がそれぞれ発生するピーク波長が異なる増幅利得を組合せた波長依存性の平坦な増幅利得により、偏光子５から入射した光を増幅する。 （もっと読む）

基体に製造された回路の１つまたはそれ以上のターゲットリンク構造を除去するレーザをベースにした方法およびシステムは、提供される基体の吸収限界値よりも短いあらかじめ決定された波長で、パルスレーザ出力を発生させることを含む。このレーザ出力は、１０ピコ秒から１ナノ秒未満の範囲のパルス期間を有する少なくとも１つのパルスを含む。この方法は、さらに、ターゲットリンク構造の上にレーザ出力を送達し、収束することを含む。収束されたレーザ出力は、ターゲットリンク構造内の位置で十分な電力密度を有し、ターゲットリンク構造の反射率が減少し、収束レーザ出力を、ターゲットリンク構造に効率的に結びつけ、基体を損傷せずにターゲットリンク構造を除去する。 （もっと読む）

【課題】比較的簡易で実用的な光学系をもってパルスレーザのピークパワーを減ずる。
【解決手段】モード同期レーザ装置１１と、このモード同期レーザ装置１１から出力されるレーザ光を波長変換する波長変換部１２と、分散光学系を用いてパルスレーザ光のパルス幅を伸長させるパルス幅伸長部１３とを有する構成とする。パルス周期を変えずにピークパワーを低減化することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 Ｑスイッチパルスのレーザを用いる材料除去加工において加工能力の大幅な向上を実現する。
【解決手段】本発明のＱスイッチング制御においては、１回の加工時間Ｔ_S内に生成されるＱスイッチパルスがそれぞれ独立した持続時間Ａ₁・・Ａ_nを有する複数組のパルス列Ｇ₁・・Ｇ_nで構成され、相前後する２つのパルス列Ｇ_i，Ｇ_i-1の間に休止時間Ｂ_iが挿入される。各パルス列Ｇ_i内の周期τ_iは、レーザ発振器１０内の反転分布が最小値から最大値または飽和値に到達するのに要する基準時間よりも短い値に設定される。一方、各休止時間Ｂ_iは各パルス列Ｇ_i内の周期τ_iよりも大きく、かつ好ましくは基準時間の５倍値よりも小さい値に設定され、最も好ましくは基準時間Ｔ_Rに等しい値に設定される。 （もっと読む）

【課題】ポンプ光源の入力パターンを最適化して、サージパルスを伴わない矩形状パルス
光を生成するファイバレーザーの変調方法及び変調装置を提供する。
【解決手段】パターン発生器２において、電気信号である所定のパターン信号１１を生成
し、該パターン信号１１をポンプ光源である複数の半導体レーザー（ＬＤ）３に入力して
光信号のＬＤ出力光１２を発生させる。出力光１４が、サージパルスを伴わない矩形状の
パルス光となるよう、ファイバレーザー変調装置１では、パターン発生器２で生成するパ
ターン信号１１を、低出力期間、出力上昇期間、高出力期間及び出力低下期間の４期間の
出力レベルで形成するようにしている。 （もっと読む）

【課題】非線形性に起因する歪を最小にして高エネルギーの極めて短いパルスを伝播し、再圧縮するための光ファイバデバイスを提供する。
【解決手段】このデバイスはマルチモードファイバの高次モード（ＨＯＭ）での伝播に基づいている。ＨＯＭへの結合は長周期グレーティングによって達成される。高品質のパルス圧縮のために有用なＨＯＭファイバモードの特徴は、大きな有効断面積、高い分散と低い分散スロープを含む。好ましい事例では長周期グレーティングは動作波長で転回点（ＴＡＰ）を通過する。 （もっと読む）

本発明は、光パルス増幅器（５１）に関連し、該光パルス増幅器は、入力パルスを受信するのに適した第１の光ファイバ増幅器（５２ａ）と、前記第１の光ファイバに接続された、複数の出力を有するスプリッタ（５４ａ、５４ｂ、５４ｃ）と、前記複数の出力の１つに各々が接続され、複数の出力パルス信号を生成する複数の光ファイバ増幅器（５２ｂ、５２ｃ、５２ｄ、５７）と、を含む。そして、本発明の光パルス増幅器は、高ピークと高平均とを保有するパワーを生成できる利点を有している。 （もっと読む）

【課題】コンパクトであり、簡単な構成で出射するレーザ光のパルス幅を変更することができるレーザ装置を提供すること。
【解決手段】レーザ光源１１は、レーザ共振器２１内に波長選択素子３５（複屈折フィルタ）を備えている。波長選択素子３５の回転位置を操作することにより、レーザ媒質３１におけるゲイン（損失）を制御する。これにより、ゲインを低くすることで、レーザ媒質３１から出射される光がレーザ共振器２１のミラー３２，３３間を往復する回数、即ち実質的な共振器長が長くなるとともにその共振器長が変更される。この結果、レーザ共振器２１から出射されるレーザ光Ｌ１のパルス幅が長くなり、そのパルス幅は波長選択素子３５により選択される波長に対応しているため、選択する波長を変更することによりパルス幅が変更される。 （もっと読む）

【課題】動作の安定した自己相似レーザパルスを生成できる線形共振器を有するファイバレーザを生成すること。
【解決手段】本発明は線形共振器を有するファイバレーザに関する。本発明はファイバレーザを提供するが、このファイバレーザは詳細には自己相似パルスを生成するファイバレーザであり、励起光源（６）と線形共振器を含み、前記線形共振器は、２つの反射器（１）と、増幅媒体でドープした偏光維持ファイバ（３）であって、前記増幅媒体により規定される周波数範囲においてゼロより大きい正常分散β_２を有する前記偏光維持ファイバ（３）と、ゼロより小さい異常分散β_２を有する分散補償素子（２）と、ゼロより大きい変調度を有する非線形モード結合素子（１ｃ）と、ファイバ（３）と、分散補償素子（２）と、放射分離素子（８）と、前記共振器（１）によって画定される共通のビームパスにおいて前記２つの反射器（１）の間に配置した非線形モード結合素子（１ｂ、１ｃ）と、を含み、前記共振器の前記ビームパスに配置した構成要素の全体の分散が正常分散であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の性能を向上することが可能な技術を提供する。
【解決手段】半導体基板であるウェハ２５内に、リン等のｎ型不純物やボロン等のｐ型不純物を導入する。そして、ウェハ２５に対してその裏面２５ａ側から入射レーザ光６を照射し、それによってウェハ２５内の不純物を活性化する。入射レーザ光６は、ウェハ２５に対する照射タイミングを互いにずらして重畳された複数のパルスレーザ光１，２から成る。このような入射レーザ光６を使用して不純物の活性化を行うことによって、ウェハ２５の溶融を抑制しつつ、当該ウェハ２５に対して長時間レーザ光を照射することができる。その結果、半導体装置の性能が向上する。 （もっと読む）

【課題】 パルス波形の整形を容易かつ確実に行うことを可能としたファイバレーザ装置を提供する。
【解決手段】 ファイバレーザ１から出力された光を位相変調部２に導いて、所望の位相変調を付与することで、ファイバレーザ１内における位相分散を補償し、パルス圧縮を行う。位相変調部２で付与する位相変調量は、出力光を光分岐部３で分岐し、そのパルス幅をパルス幅評価装置４で評価して、位相変調部２を制御する位相変調量制御部５へと導くことで、フィードバック制御を行うことにより、調整される。 （もっと読む）

【課題】 透明部材内に発生させるクラックの大きさを精度よく調節することのできるマーキング方法およびこれを用いた装置を提供する。
【解決手段】 レーザコントローラ１２により所定の励起準位に蓄積されたエネルギを、光学スイッチ１０のオン・オフの切り換えタイミングを操作することでレーザ光の単一のパルスとしてガラス基板に向けて出力させる。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れた可飽和吸収体ユニットを提供すること。
【解決手段】膜状の可飽和吸収体と、その可飽和吸収体の一面側に積層される反射膜とを有し、前記可飽和吸収体と前記反射膜との間に接着層を有することを特徴とする。ここで、接着層としてはチタン、クロム、白金及びアルミニウムから選択される１以上の元素から選択される。可飽和吸収体ユニットが熱暴走モードに至る機構として、可飽和吸収体ユニットに加わるストレスが大きくなるにつれて可飽和吸収体ユニットの反射光量が漸減することにより、ストレスが加わると内部損失により発熱し更なるストレスが加わり、そのストレスにより更なる内部損失・熱が発生する、といった正帰還ループが形成され、最終的にはストレスにより素子の破壊にいたるものと推測した。接着層を形成することで、この正帰還ループを排除にすることに成功し、素子の破壊を防止できた。 （もっと読む）

【課題】超短フェムト秒レーザパルスをミリジュール（ｍＪ）のエネルギー出力にまで増幅するのに好適なファイバレーザ増幅器を提供すること。
【解決手段】レーザポンプ１０１から光学入力投影を受け取るためのレーザ利得媒体を含むファイバレーザキャビティシステム１００’は、トランスフォームリミテッドパルス形状の出力レーザを生成するために、ファイバレーザキャビティ内において自己位相変調（ＳＰＭ）および分散誘起パルスの広がり−圧縮をバランスさせるため、正味の負の分散を生成するべく正の分散ファイバセグメントおよび負の分散ファイバセグメントを含み、レーザ利得媒体がレーザパルスの増幅と圧縮行う二重クラッド−イッテルビウムドープフォトニック結晶ファイバ（ＤＣＹＤＰＣＦ）１０５を更に備える。ファイバレーザキャビティシステム１００’は、出力レーザを更に整形するために、偏光感受性を有するアイソレータ１３５’および偏光コントローラ１４０−１，１４０−２を更に含む。 （もっと読む）

【課題】波長１．０μｍ帯のフェムト秒モード同期レーザを、構造が簡単、調整が容易、小型化が可能であり、安定した性能の装置を安価に実現すること、および、スーパーコンティニューム光源に替わる対象物への損傷が少ない光源としてスキャニングパルスレーザを実現すること。
【解決手段】光増幅器と可飽和吸収体を光ファイバでリング状に接続するモード同期短パルス光ファイバレーザにおいて、波長１．０μｍ帯で利得を有するゲイン媒体を使用した光増幅器と、波長１．０μｍ帯に可飽和吸収特性を有するカーボンナノチューブを可飽和吸収体とすることにより、波長１．０μｍ帯のフェムト秒パルスを発生するモード同期レーザを実現し、上記レーザ光をシード光とし、スキャニングパルスレーザを安価に実現する。 （もっと読む）

希土類添加ファイバ（１）、レーザダイオードソース（２）、ショートパルスレーザ（１８）、及びコントローラ（９）を有し、希土類添加ファイバ（１）が、レーザダイオードソース（２）によって励起されて光放射（１０）を供給し、この希土類添加ファイバ（１）によって放出された光放射（１０）とショートパルスレーザ（１８）によって放出された光放射（１１）を合成する材料加工用の装置であって、この装置は、コントローラ（９）が、希土類添加ファイバ（１）から放出された光放射（１０）をショートパルスレーザ（１８）によって放出された光放射（１１）と同期化させてプリパルス（２１）とメインパルス（２２）を有する複数のパルス（５）を供給し、プリパルス（２１）の平均ピークパワー（２３）がメインパルス（２２）のピークパワー（２４）を上回っていることを特徴としている。
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【課題】 電力の消費量を抑えることができるとともにレーザ光の光強度を一定にすることができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザ発生手段から出射され集光レンズに至るレーザ光の光路上に配置され、当該レーザ光の遮断と通過とを択一的に行う開閉手段を有し、制御手段は、レーザ光を被加工物に集光させて当該被加工物を加工する加工動作の直前（ｔ１）に、開閉手段を閉鎖した状態で、励起用レーザ光源を駆動して、レーザ媒質が被加工物の加工が可能となる光強度（Ｈ２）のレーザ光を発生する高励起状態となったことを条件として、開閉手段を開放してレーザ光を通過するように制御する。 （もっと読む）