短パルスファイバ増幅器システム（１０）が、互いに補償し合う非線形位相シフトおよび３次分散が意図的に導入されるように設計される。具体的には、増幅器内に蓄積された非線形位相シフトが、ファイバストレッチャ（１２）と回折格子圧縮器（１６）とを組合せたものの３次分散によって補償される。３次分散の存在下では、最適非線形位相シフトが、パルス幅を減少させ、線形伝搬において生成されるパルスとは対照的にピークパワーおよびパルスコントラストを高める。
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【課題】 穴あけ加工や彫刻加工等を高い加工効率で行うのに適した中間領域のパルス幅を持つレーザビームを発生させることができるとともに、そのレーザビームのピーク強度とパルス幅とを任意に制御することができるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザビームを発生させるレーザ発振器において、レーザダイオード及びレーザダイオード電源により、レーザ媒体を励起するために１０マイクロ秒程度の立ち上がり時間を持つ立ち上がりの急峻な励起パルス（符号３１の励起用電流波形参照）によりレーザ媒体を励起する。これにより、パルス幅が１マイクロ秒程度のパルスが数マイクロ秒間隔で並んだ一群の緩和発振パルス列を含むレーザビーム（符号３２のレーザパルス波形参照）が発生される。 （もっと読む）

【課題】光学周波数変換された安定な出力が中で発生するキャビティ内非線形カプラを備えた能動的Ｑスイッチ・レーザを提供する。
【解決手段】利得変動不感性条件が規定され、いくつかの例について述べられる。この条件を満たす結合レベルを備えた非線形カプラは、たとえパルスがＱスイッチによって短縮されるときでさえ最小限のパルス間相互作用を伴った安定なレーザ動作を可能にする。したがって、開示されるレーザの出力パルスの持続時間と繰り返し周波数はレーザの利得レベルおよび変化形態に実質的に関係なく広い範囲にわたって変えることができる。第２および第３高調波の光学周波数変換が実証されるが、しかし開示されるレーザは他の光学周波数変換領域に同様に応用可能である。 （もっと読む）

【課題】共振器全体のサイズを変更することなく、共振器長の変更を実現し、機械安定性が高く、レーザ出力の著しい変化及び共振器内部エネルギーの増加による光学部品の損傷を防止できるパルス幅可変レーザ共振器を提供する。
【解決手段】一対の稜線方向の直交するルーフプリズムを有するレーザ共振器と、レーザ共振器の光軸上に設置されたレーザ媒質と、レーザ媒質を励起する励起光源と励起光源から発生した励起光を閉じ込めるリフレクタを備えたレーザ共振器において、必要なパルス幅に応じて、共振器を１回周回する時のレーザ光がルーフプリズムの稜線を通過する回数が変えられるように、レーザ媒質及び励起光源が固定されたリフレクタをレーザ媒質の端面が傾かないように平行移動を可能にした。 （もっと読む）

【課題】 微細周期構造を用いた表面改質法において、トライボロジー特性や凝着力特性・膜密着・加飾性・生態親和性などの表面機能の向上と更なる用途拡大を図り得るための、周期構造の構造均一性と空間周期の均一性の改善。
【解決手段】 レーザ照射の１ショットで１発目のパルスレーザの照射からアブレーションプロセスに基づく極短時間のパルス間隔で２発目のパルスレーザを含む複数のパルスレーザを順次照射し、蒸発粒子と２発目以降のパルスレーザを相互作用させ、蒸発粒子の微細化や蒸散速度の増加・材料表面に対する高温・高圧場の作用などの相互作用を利用して、構造均一性を向上させる。また、均一性の高い構造から生ずる表面散乱波と入射レーザの干渉現象とオーバーラップ走査により、周期構造の空間周期の均一性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】レーザ発振器の出力を安定化できるレーザ発振器の出力補正方法を提供する。
【解決手段】コントローラ１５が、ビームスプリッタ８により分光され、パワーモニタ１１と高速ＡＤ変換ユニット１２経由でフィードバックされるレーザ光の波形をレーザショットごとに求める。そして、レーザショットごとにその波形と目標出力波形を比較して相似比（変動量）を求め、その相似比と補正上限値のいずれか小さいほうの値を基に補正された励起電流Ｉ０が励起用光源２へ供給されるよう電圧・電流変換器５を制御する。 （もっと読む）

本発明は、パルスレーザシステムにおけるジッターの効果を低減する方法に関し、この方法は、レーザパルスを発生するための電力システムにトリガ信号を送り、前記トリガ信号を第１の時間だけ遅らせ、前記トリガ信号の前記送信と対応するレーザパルスとの間の時間を検出し、前記検出された時間と要求時間の差を計算し、次に来るレーザパルスの前記第１の時間を前記計算された差だけ訂正する動作を含む。本発明はパルスレーザシステムとレーザパターン発生器とに関する。
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【課題】 ＯＰＳにより分解したパルス光が再び重複することをなるべく避けて、ＯＰＳ出力後の個々のパルスピークパワーを小さくすること。
【解決手段】 レーザ装置１からのパルス光はビームスプリッタ（ＢＳ）１１で分割され、一部の光がＢＳ１１を透過して次段のＯＰＳ２０に入射し、他の光が凹面ミラー１２，１３，１４，１５からなる遅延光路を経て上記光と合成されＯＰＳ２０に入射する。ＯＰＳ２０に入射した光は、上記同様に凹面ミラー２２，２３，２４，２５からなる遅延光路を経た光とＢＳ２１を透過した光が合成され出射光となる。上記ＯＰＳ１０，２０の長い方の遅延光学路長をＬ，短い方の遅延光学路長をＳとしたとき、（ＬとＳ最小公倍数）／Ｓ≧２かつ（ＬとＳ最小公倍数）／Ｌ≧２とする。これにより上記パルス光が重複する周期を長くすることができ、個々のパルスピークパワーを小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】装置全体の規模を大型化することなく、作業性に優れていて利便性がよく、しかもパルスレーザー発振動作の安定度を低下させる恐れのないようにする。
【解決手段】レーザー媒質を配置したレーザー共振器内における光の光路上にＱスイッチとして機能する可飽和吸収体を配置し、上記レーザー共振器内に配置された上記可飽和吸収体を上記光の光路に対して相対的に移動して、上記光が上記可飽和吸収体を通過する際における上記可飽和吸収体の初期透過率を変化させる。 （もっと読む）

本発明は、材料のレーザ処理方法、具体的には周囲の軟もしくは硬生体材料のいずれに対しても損傷を与えないように材料のレーザ除去を行う必要がある医学的用途および歯科用途で特に重要な、材料のレーザ除去のためのレーザ誘導アブレーションプロセスを提供する。そのアブレーションプロセスは、多光子吸収により高反応性および損傷性のイオンを発生しないようなやり方で材料の短寿命振動またはフォノンの直接および特異的励起によるインパルス熱蓄積（ＩＨＤ）によって達成される。レーザ照射のための指定の時間および波長条件下での熱蓄積およびその後のアブレーションプロセスは、音響もしくは熱膨張または熱拡散による周囲組織への熱移動よりも速く行われるが、そうでなければ過剰熱関連損傷が生じるであろう。結果的に、全ての蓄積レーザエネルギーが、アブレーションプロセスに最適に送出され、そこでは光力学的膨張力および熱駆動相転移の両方からの慣性的に制限された応力ならびに関連する体積変化が積極的に干渉して、最も効率的なアブレーションプロセスが駆動され、それにより、電離放射線または熱効果による周囲領域への損傷を最小化することが可能となる。赤外線レーザパルスの特定の波長範囲、空間的および時間的整形を選択することで、付随損傷の低減に関するアブレーションプロセスの効率をさらに高めるように、そのエネルギーを最適に蓄積することができる。
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【課題】エネルギープロファイル及び／又はレーザパルスのパルス幅を制御するレーザ及び方法を提供する。
【解決手段】異なる構造形態を有する複数の副共振器（１２，１４）は、レーザ動作が、異なる各パルスエネルギープロファイル及び／又は副共振器（１２，１４）の形態によって与えられるパルス幅特性を併合するコヒーレントなレーザパルスを提供するために実質的に同期できるように共通共振器区域（１８）を共有する。副共振器（１２，１４）はレーザ媒質（４２）を共通共振器区域（１８）において共有できる。又は、各個別の副共振器区域（２８、３６）はそれ自体のレーザ媒質（４２）を持つことができる。模範的な長短の副共振器（１２，１４）は短い立ち上がり時間及び長いパルス幅を持つ特別に調整されたレーザパルスを、メモリリンク加工を含む種々のレーザ及び微細加工適用に有益である１つ又は２つの異なる波長で発生する。 （もっと読む）

【課題】レーザープリンタが高精細画像形成を行うようになると、複数のレーザービームのドラムへの照射角度の違いによる画像形成の差異が無視できない。この差異を、ＰＷＭ変調による補正を行うことによって、各レーザービームごとの差異をなくし、高精細の画像形成を行うことができるようにする。
【解決手段】複数レーザービームにより複数ラインを走査するマルチビーム画像形成装置において、複数のレーザービームのそれぞれのＰＷＭ出力においてパルス幅を調整する手段と、レーザーのドラムへの照射角度によりＰＷＭ出力においてパルス幅を補正する手段を設け、レーザーの照射角度に各ビームのＰＷＭ出力におけるパルス幅を補正した値に調整することにより、各レーザービーム間の感光体ドラム面における照射角度の違いによる照射面積の差異を補正する。 （もっと読む）

【課題】熱衝撃によるクラックや肌荒れ、剥離、盛り上がりの発生を防止して、加工品質、改質品質を向上させたレーザ誘起改質加工装置及び方法を提供すること。
【解決手段】 パルス幅が１０ｆｓ〜５０ｐｓの超短光パルスレーザを発生するレーザ発生器１と、該レーザ発生器１からの該超短光パルスレーザを被加工材料を改質する閾値以上のフルーエンスで該被加工材料に照射するレーザ照射手段１、２、５と、を有し、該超短光パルスレーザはペデスタル成分をもち、該ペデスタル成分が該超短光パルスレーザのエネルギの５％〜５０％の範囲にあることを特徴とするレーザ誘起改質加工装置。被加工材料にペデスタル成分をもつ超短光パルスレーザを照射することにより、メインパルスによる断熱加工の前後にサブパルスによるプレ及び或いはポスト熱処理作用が加わり、メインパルスによる熱衝撃作用（クラックや肌荒れ、剥離、盛り上がりなど）が緩和・修復され、加工品質、改質品質を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、レーザショックピーニングに関し、より具体的には、レーザショックピーニング中にレーザ発射と動作システムとを同期させる装置及び方法に関する。
【解決手段】 レーザコントローラ（２４）は、レーザビーム（２）を起動することなしにレーザフラッシュランプ（７０）をあるフラッシュレート（７３）で点滅させるスタンバイモードと、レーザビームパルス（７７）の形態のレーザビーム（２）を起動して発射する発射モードとを有する。レーザコントローラ（２４）は、レーザビームパルス（７７）を発射するために電子制御動作コントローラ（２５）によってレーザインターフェースコントローラ（２４）に供給されるトリガー信号（９３）と、フラッシュレート（７３）とを実質的にレーザビームパルス（７７）が発生されることになる時間において同期させる同期手段（２７）を含む。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成により、２種類の特性の異なるパルスレーザを容易、確実に発生させる。
【解決手段】 パルスレーザ発振器１は、対向配置された全反射ミラー２と出力ミラー３との間にレーザ媒質４を設置してなるレーザ共振器５と、前記レーザ媒質４を励起させる半導体レーザ（ＬＤ）６と、全反射ミラー２と出力ミラー３との間に設置されたＥＯ−Ｑスイッチ８およびＡＯ−Ｑスイッチ９と、ＥＯ−Ｑスイッチ８およびＡＯ−Ｑスイッチ９をそれぞれ駆動するＥＯ−Ｑスイッチドライバ１６およびＡＯ−Ｑスイッチドライバ１７と、ＥＯ−Ｑスイッチドライバ１６とＡＯ−Ｑスイッチドライバ１７とを切換スイッチ１８ａによって切り換えて動作させると共に、前記半導体レーザ６を動作させるコントローラ１８とを備えている。 （もっと読む）

本発明では、ビーム切換装置（１１３）によって可変の長さを有するレーザ共振器を備えていることにより、その時点で調整された共振器長に依存して、放出されるレーザ放射のパルス期間を調整できるように構成されたレーザ光源（１１０）を提供する。ビーム切換装置（１１３）は、機械的なミラー系（２１３）によって実現することができる。また、ビーム切換装置（１１３）を電気光学的変調器または音響光学的変調器によって実現することにより、ビーム切換を非常に高速に行えるようにすることも可能である。このような構成により、パルス繰り返しレートが高くても、２つの連続するレーザパルス間で共振器長を切り換えることができる。本発明ではさらに、被加工品（１５０）をパルスレーザ放射によって加工するための次のような方法も提供する。すなわち、レーザビームを偏向ユニット（１３０）によって２次元で偏向し、結像光学系（１４０）を介して被加工品（１５０）に方向決定する方法も提供する。レーザパルスのパルス期間はとりわけ、最適な材料切削が保証されるようにレーザ共振器内でビーム経路を選択することによって調整される。
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高エネルギー粒子パルスの発生装置が提供される。この装置は、１０¹⁸Ｗ／ｃｍ²より大きく、好ましくは１０²⁰Ｗ／ｃｍ²（ワット／平方センチメートル）より大きなピーク強度に集束されることができる、パルス幅が１００ｆｓ（フェムト秒）より短いレーザーパルスを発生させるレーザーシステムと、前記少なくとも１パルスのレーザーパルスに付随する時間的強度プロファイルを、レーザーコントラストが１０⁵以上、好ましくは１０⁷以上、特に１０¹⁰に高まるように整形する装置と、少なくとも１パルスの前記レーザーパルスが照射されると、高エネルギー粒子パルス、特に電子または陽子パルス、を放出することができるターゲットとを備える。この装置を用いた対応する方法も記載される。
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光源と共に使用する光学的遅延線（２００）であって、光源と光学的に結合された入力／出力オプティクスと、遅延線（２００）の縮閉曲線（２１２）の中心に中心があり、縮閉曲線のエッジの接線である遅延線ビームの経路に沿って進行する光を逆反射する反射面を有する、湾曲ミラー（２１６）とを含む。入力／出力オプティクスは、光源からの光を遅延線ビームの経路（２１４）に沿って配向し、遅延線ビームの経路（２１４）からの遅延光を出力ビームの経路に沿って光学的遅延線の外に配向する。入力／出力オプティクス（２０４）および／または湾曲ミラー（２１６）は、縮閉曲線（２１２）のまわりを選択された角速度で回転する。反射面は、入力／出力オプティクスおよび／または湾曲ミラーが回転するのに伴い光学的遅延線（２００）の遅延が所定の関数にしたがって変動するように縮閉曲線から計算されたパラメトリックな曲線に基づく曲率を有する。
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本発明は部分的に反射する第１の出力面（２）と第２の反射面（３）とを有する共振キャビティ（１）を含む希土類イオンの極超短波レーザー源に係るものである。第１の活性材料（４）は第１の固体レーザーポンプ源（６）により放射されるポンプ光束（７）を受ける。
本発明では共振キャビティ（１）はパルスが辿る７．５ｍよりも大きい光路をつくり、そのパルスエネルギーＥ_Ｌは１００ｎＪより大きく、前記の光路は前記の活性材料（４）における少なくとも一つの通路を含んでおり、そして極超短波レーザー源は前記の共振キャビティ（１）を延長する手段を備え、それによりコンパクトなレーザー源の共振キャビティ（１）内で前記の光パルスが辿る光路長を延長し、前記の共振キャビティ（１）のＡＢＣＤ伝播マトリックスが単位マトリックスに接近し、そのため前記の共振キャビティ（１）内で前後に進む光ビームの特徴が変化しないままである。 （もっと読む）

本発明は、再現可能な増幅器原理によって操作する高度に繰り返すレーザーシステムに関する。前記システムは、少なくとも一つの増幅したレーザー媒質（６）と、少なくとも一つの共振ミラー（５）と少なくとも一つの変調器（３）と前記レーザー媒質（６）をポンプするために用いられるポンプ源、特にレーザーダイオード源とを備えたレーザー共振器とからなる。前記高度繰り返しレーザーシステムは、構造又は材料によって高度分散効果を有するパルス拡張器（７）がレーザー共振器に集積化されることのおかげでコンパクトである。
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