【課題】異なるパルス幅のパルス光を選択的に同軸上に出力することができるレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置１は、共振器１０、励起エネルギ供給部２０、種光源３０、種光導入部４０等を備える。共振器１０は、レーザ媒質１１、透明媒質１２、光入出力部１３を含む。種光源３０から出力されたパルス種光の共振器１０内への導入が種光導入部４０により設定されているときに、光入出力部１３により共振光路上に取り込んだパルス種光をレーザ媒質１１により光増幅した後に当該光増幅したパルス光を光入出力部１３により共振器１０の外部へ出力する再生増幅動作を行う。種光源３０から出力されたパルス種光の共振器１０内への非導入が種光導入部４０により設定されているときに、レーザ媒質１１により光増幅したパルス光を光入出力部１３により共振器１０の外部へ出力するキャビティダンプ発振動作を行う。 （もっと読む）

【課題】抵抗体のトリミングの精度を向上させる。
【解決手段】比較部１７２は、測定部１３１により測定される抵抗体の抵抗値が切替変更抵抗値に到達したと判定した場合、加工条件の変更を、外部機器インタフェース部１８１を介して励起光源制御部１８２に指令する。励起光源制御部１８２は、ファイバレーザ１１３から出射されるレーザパルスのパルス幅を広げ、ピークパワーを下げるように励起光源を制御する。本発明は、例えば、レーザトリミング装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】より有効にレーザ光を利用しながら、より電気絶縁性に優れたエッジデリーションを行う。
【解決手段】SHGレーザ発振器１１３は、パルス発生器１１１から供給される出射指令信号に同期してSHGパルスを出射し、基本波レーザ発振器１１４は、遅延回路１１２により遅延された出射指令信号に同期して基本波パルスを出射する。SHGパルスおよび基本波パルスは、角形光ファイバ１２０を通過し、２波長コリメータレンズ１２１および２波長結像レンズ１２２により、スリット１２３の入射面において矩形の開口部を含むように結像された後、スリット１２３を通過し、２波長結像レンズ１２４および２波長ｆθレンズ１２６により、薄膜太陽電池パネル１０２の加工面に入射し結像される。本発明は、例えば、エッジデリーションを行うレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】各部材のアライメントが不要になるとともに装置を小型化させ、ディレイを高速に行うことが可能なレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ光発生部と、パルス光をそれぞれ増幅させる光増幅部と、光増幅部により増幅されたパルス光を同軸に重ね合わせるとともに、波長変換光学素子に入射させ波長変換を行う波長変換部を備えたレーザ装置において、入射された方向と異なる方向に反射及び射出させる回転ミラー６４と、回転ミラー６４を回転させるミラー回転部６９と、回転ミラー６４から射出された光を平行光に変換させる第２レンズ６５と、第２レンズ６５を透過した平行光を異なる方向に透過させる透過型回折格子６６と、透過型回折格子６６を透過した光をその光路と同じ光路を反対方向に進むように反射させる平面ミラー６７とを備えた光路長調整部６０が設けられることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、レーザー装置１００に関するものであり、レーザ装置１００は、ハイリフレクターミラー６０とアウトプットカプラーミラー３０との間にレーザ光を照射して増幅および共振するように設置されるパルス発生器１０と、前記アウトプットカプラーミラー３０により入力された増幅および共振されたレーザパルスを出力するパルス出力部７０と、前記パルス発生器１０と前記ハイリフレクターミラー６０との間に形成されるレーザ光の経路と直角方向に進退できるように設置されるＱスイッチ２０からなる。前記アウトプットカプラーミラー３０は、ベース板３３上に配置される第１ミラー３１と第２ミラー３２からなり、前記第１ミラーと第２ミラーはレーザ光の経路へ前記Ｑスイッチ２０の進退状態によって選択的に位置移動するように構成される。
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【課題】小型化が容易なパルス幅変換装置を提供する。
【解決手段】透過型回折格子２０へ一定の入射角で入力された入力光パルスＰｉは、波長毎に分光されて当該波長に応じた出射角で出力され、反射鏡４１，４２，４３により順次に反射された後、透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力されて、透過型回折格子２０から一定の出射角で出力される。透過型回折格子２０から一定の出射角で出力された各波長成分の光は、直角プリズム４０により光路が折り返され、透過型回折格子２０へ一定の入射角で入力されて波長に応じた出射角で出力され、反射鏡４３，４２，４１により順次に反射された後、透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力される。透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力された光は、透過型回折格子２０により合波されて出力光パルスＰｏとして出力される。 （もっと読む）

シードソースとシードソースに結合されている光増幅器とを有している光学システムからの出力パルスは、シードソースからのシード信号のパワーを制御することによって制御できる。シード信号は、シード信号が１つまたは２つ以上のパルスバーストを示すように最小値と最大値との間で変化させることができる。各パルスバーストは１つまたは２つ以上のパルスを含んでもよい。パルスバースト内の連続しているパルスの間、または連続しているパルスバースト間のパルス間期間中に、シード信号のパワーを最小値よりも大きく且つ最大値よりも小さい中間値に調整することができる。中間値はその期間に続くパルスまたはパルスバーストが所望の挙動を示すように光増幅器内の利得を制御するように選択されている。
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【課題】高コントラストを有する高出力パルス光のパルス幅を任意に変化させることのできるパルス光生成装置を提供する
【解決手段】本発明によって、レーザー光を連続出射する連続発振レーザー光源１と、前記連続発振レーザー光源１から出射されたレーザー光の光路上に配置され、印加される駆動電圧に基づいて入射されたレーザー光の伝播方向を電気光学効果により偏向する電気光学ビーム偏向器２と、を備えることを特徴とするパルス光発振器１０が提供される。 （もっと読む）

【課題】高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】このドライバレーザシステムは、ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、単一のレーザ発振器３０１においてレーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数の放電励起式ガスレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステム３と、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステム３の動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

【課題】 高品質の加工を行う。
【解決手段】 レーザパルスを出射するレーザ出射装置と、レーザ出射装置を出射したレーザパルスの時間波形に関するデータを取得する検出装置と、検出装置によって取得されたレーザパルスの時間波形に関するデータに基づいて、レーザ出射装置を出射するレーザパルスのパルス幅を制御する制御装置とを有するレーザ照射装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】パルス光の出力を一時停止して再開した場合の光サージの発生が抑制されたレーザ光源を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザ光源１は、第１の波長の光をパルス光として出力する第１光源１７と、第１の波長とは異なる第２の波長の光を出力する第２光源２１と、第１光源１７から出力されるパルス光と第２光源２１から出力される光とを入力し、第１光源１７から出力されるパルス光及び第２光源２１から出力される光を増幅して出力する光増幅器である光増幅性ファイバ１２と、第１光源１７からの光の出力に応じて前記第２の光源からの光の出力を制御する制御部２２と、を備え、第１光源１７は、パルス光の一定周期での繰り返し出力が開始・継続するＯＮ状態と、パルス光の出力が一定周期以上の間停止するＯＦＦ状態と、を有し、制御部２２は、第１光源１７がＯＦＦ状態である場合に、第２光源から光を出力させることにより、光増幅性ファイバ１２に添加された希土類系元素の反転分布の上昇を抑制する。 （もっと読む）

【課題】広いダイナミックレンジで、高速かつ高精度なレーザエネルギー制御を行う。
【解決手段】シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を出力する再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡと、再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインの範囲において、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光が発振可能で該シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡに入力する半導体レーザ４であるマスタオシレータと、半導体レーザ４から出射されるシングルまたはマルチ縦モードレーザ光の波長が再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインに一致するようにマスタオシレータを波長制御するとともに、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光のパルス波形および／またはパルス出力タイミングを調整する波形制御を行う半導体レーザシステム８と、を備える。 （もっと読む）

ターゲット構造のマイクロマシニングのために、一連のレーザパルスバンドル又はバーストを使用する。各バーストは、時間的パルス幅が約１ナノ秒未満である短レーザパルスを含む。レーザマイクロマシニング方法は、レーザパルスのバーストを生成するステップと、ターゲット箇所を加工するためにレーザパルスのバーストのエンベロープを調整するステップとを有する。この方法は、ターゲット箇所における第１の特徴形状の加工特性に基づいて、バースト内の１つ以上の第１のレーザパルスを第１の振幅に選択的に調整すること、及びターゲット箇所における第２の特徴形状の加工特性に基づいて、バースト内の１つ以上の第２のレーザパルスを第２の振幅に選択的に調整することによって、バーストのエンベロープを調整するステップを含む。この方法は、更に、レーザパルスの振幅が調整されたバーストをターゲット箇所に方向付けるステップを有する。 （もっと読む）

【課題】パルス発振する固体レーザのパルス列を任意の周波数で変調可能であり、且つジャイアントパルスの発生やレーザダイオードの短寿命化を防止する固体レーザ発振装置及び固体レーザ出力パルスの変調方法を提供する。
【解決手段】レーザダイオード電源２と、Ｑスイッチ６をオンオフ制御するＱスイッチドライバ５と、レーザダイオード電源２による電力供給とＱスイッチドライバ５によるＱスイッチドライブ信号の生成とを制御する電源制御器１ａとを備え、電源制御器１ａは、出力パルスを変調させる際に、変調周波数に応じてＱスイッチドライバ５によるＱスイッチドライブ信号の生成を所定期間毎に停止させるとともに、Ｑスイッチドライブ信号の生成停止期間にレーザダイオード電源２からレーザダイオード３に供給される電流の値が０より大きな第１所定値に下がるようにレーザダイオード電源２を制御する。 （もっと読む）

【課題】ＰＩ制御による遅れ動作を解消し、高速なレーザ光の制御を可能とする。
【解決手段】電源１、励起ランプ７、スイッチング素子３、スイッチング素子の駆動回路１６、駆動回路を制御する電力制御回路３０、レーザ出力検出部１１と、電圧及び電流の検出部１２、電力制御回路３０に電力基準信号Ｐ^＊を供給する電力基準信号生成回路を備える。電力基準信号生成回路は、レーザ出力基準回路３２、フィードフォワード信号ＰＦとエラー信号ｅとを加算して電力基準信号Ｐ^＊を求める加算器３５を備える。ＰＩ制御増幅器３６は、レーザ基準信号Ｌ^＊とレーザ光信号ＳＬに基づいてエラー信号ｅを生成する。積分回路３７はエラー信号ｅを積分し、積分回路４０はフィードフォワード信号ＰＦを積分する。演算回路３８は補正分の比率を演算し、演算した補正分の比率が０になるようにフィードフォワード信号ＰＦを補正する。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、熱によって変化する、レーザ光の波面を適切に補正する。
【解決手段】レーザ発振器２０から出力されるレーザ光を増幅させるための増幅システム３０内に、少なくとも一つ以上の波面補正器３４と、センサ３６とを設ける。センサ３６は、レーザ光の角度（方向）や波面の曲率の変化を検出して出力する。波面補正コントローラ（WFC-C）５０は、センサ３６の計測結果に基づいて、波面補正器３４に信号を出力する。波面補正器３４は、波面補正コントローラ（WFC-C）５０からの指示に従って、レーザ光の波面を所定の波面に修正する。チャンバ１０内にレーザ光を供給する集光システム４０内にも、別の波面補正器及びセンサを設けることができる。 （もっと読む）

【課題】小型の構成で１０〜１０００フェムト秒の範囲でパルス幅を連続的に変化させること。
【解決手段】フェムト秒レーザー光（３）の光路上に配置されて内部を前記フェムト秒レーザー光（３）が透過するレーザー光透過素子（１８，１９，２３，２４）と、前記レーザー光透過素子（１８，１９，２３，２４）内を通過する光路に対して傾斜する素子移動方向に前記レーザー光透過素子（１８，１９，２３，２４）を移動可能に支持する素子移動装置（１３）と、前記素子移動装置（１３）の移動量を制御して、前記レーザー光透過素子（１８，１９，２３，２４）内を通過するフェムト秒レーザー光（３）の光路長を制御し、出力されるフェムト秒レーザー光（３）のパルス幅を変化させるパルス幅制御手段（ＰＣ）と、を備えたパルス幅制御装置（１）。 （もっと読む）

レーザで被加工物を加工することは、第１のパルス繰り返し周波数でレーザパルスを発生させることを含む。前記第１のパルス繰り返し周波数は、前記加工物に対してビーム送達座標を位置合わせするために、ビーム位置決めシステムと１つ又は複数の協働するビーム位置補償要素とを調整するための基準タイミングを提供する。本方法はまた、前記第１のパルス繰り返し周波数より低い第２のパルス繰り返し周波数で、選択的に前記レーザパルスのサブセットを増幅することを含む。前記サブセットに含まれるレーザパルスの選択は、前記第１のパルス繰り返し周波数と前記ビーム位置決めシステムから受け取る位置データとに基づく。本方法は、前記加工物上の選択されたターゲットに前記増幅されたレーザパルスを向けるように、前記１つ又は複数の協働するビーム位置補償要素を使用して、前記ビーム送達座標を調整することを更に含む。 （もっと読む）

【課題】レーザ出力を基準波形に一致させることが出来るレーザ発振器の出力補正方法を提供することを目的とする。
【解決手段】励起用ランプ（１）を駆動する投入電流駆動回路（１３）に入力する電流信号：Ｉ（ｎ）を、基準光量値：Ｌｓ（ｎ）とレーザ出力光量値：Ｌｂ（ｎ）との差に応じた量：ΔＰ（ｎ）と、積算基準光量値：ΣＬｂ（ｎ）と積算レーザ出力光量値：ΣＬｓ（ｎ）の差に応じた量：ΔＪ（ｎ）と、あらかじめ定めた形状の基準電流値：Ｉｓ（ｎ＋１）に基づいて演算することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】励起半導体レーザ、ファイバーレーザ、ＳＨＧ結晶（光波長変換素子）からなるＳＨＧレーザをパルス駆動する際、立ち上がり時にファイバーレーザで発生するサージによりＳＨＧ結晶が破損するのを防止すること。
【解決手段】ＳＨＧレーザ２を駆動するＰＷＭ信号の立ち上がりエッジにおいて、半導体レーザ２１が発光を始めるしきい値の前後に相当する信号レベルの区間の立ち上がりに傾斜をつけ、この傾斜の値を立ち上がり制御手段６で調整できるようにする。立ち上がり制御手段６は、光出力検出手段３の光出力を受けて、サージ検出手段４でサージが検出されない時は、調整信号発生手段５で一定周期、一定割合で大きくしていく傾斜値を生成し、サージが検出されるとサージ検出直前の傾斜値を出力するように動作する。 （もっと読む）