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Fターム[2H049AA50]の内容

回折格子、偏光要素、ホログラム光学素子 (44,531) | 回折格子 (6,153) | 装置内での配置 (131)

Fターム[2H049AA50]に分類される特許

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【課題】 色収差をはじめとする諸収差を良好に補正することができ、しかも全系が小型で良好なる光学性能を有する光学系を得ること。
【解決手段】物体側より像側へ順に、前群、絞り、後群より構成される光学系において、前記前群は固体材料から成る屈折作用をする固体材料素子を有し、前記後群は回折光学素子を有し、該固体材料素子は、屈折光学素子の少なくとも一方の透過面に形成されており、該固体材料のd線に対するアッベ数、g線とF線に対する部分分散比νd、θgF、該固体材料素子と該屈折光学素子の光軸上の厚さdnom、dgls、該回折光学素子の回折光学部と該固体材料素子の空気中における焦点距離fdoe、fnomを各々適切に設定し、前記固体材料部の材料特性や回折光学素子との条件のバランスを適切に設定することである。 (もっと読む)


【課題】基板厚の異なる2つの光ディスクに対して光源からの光を集光する際に発生する球面収差をより好適に補正できる対物レンズユニット及び対物レンズアクチュエータモジュールを提供する。
【解決手段】半導体レーザからの光をBD3及びHD4に選択的に集光する対物レンズユニット100であって、HD4の開口数の範囲において、BD3とHD4との中間の基板厚を有する光ディスクに対して半導体レーザからの光を集光する非球面形状と、HD4の開口数の範囲より外縁側かつBD3の開口数の範囲において、BD3に対して半導体レーザからの光を集光する非球面形状と、を有する対物レンズ1と、HD4の開口数の範囲において、透過光に対して略(j/k)λの位相差を与える液晶素子2と、を備え、液晶素子2は、BD3又はHD4に半導体レーザからの光を集光する際、前記位相差の符号を変えて、当該位相差を加えるように構成した。 (もっと読む)


【課題】 X線タルボ干渉計を構成する位相型回折格子及び振幅型回折格子を安定的に供給可能な製造方法を提供する。
【解決手段】基板6に形成されているネガ型のX線感光性樹脂30に、X線透過部とX線吸収部とを備えるX線マスク31を用いてX線を照射する。そして、前記X線透過部を通過したX線、及び、前記X線吸収部を通過することによって通過前の1/50以上1/10以下となるように強度が低下したX線によって、X線感光性樹脂30を露光する(露光工程)。そして、非露光部分34を除去することによって、基板上に樹脂壁36を形成するとともに、隣り合う樹脂壁36の先端同士を接続する膜状の架橋部35を形成する(現像工程)。その後、前記架橋部35を除去するとともに(除去工程)、電鋳法により、前記樹脂壁と樹脂壁との間にX線吸収金属部11を形成する(電解メッキ工程)。 (もっと読む)


【課題】製造過程を簡素化することが可能なワイヤーグリッド偏光素子の製造方法及び液
晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】ワイヤーの構成材料を含むワイヤー材料層を基体上に形成するワイヤー材料
層形成工程と、第1波長に感度を有する酸発生剤と前記第1波長よりも大きい第2波長に
感度を有する酸発生剤とを含む化学増幅型レジスト層を前記ワイヤー材料層上に形成する
レジスト層形成工程と、前記レジスト層の第1領域を前記第1波長の光によって干渉露光
する干渉露光工程と、前記レジスト層の第2領域を前記第2波長の光によって結像露光す
る結像露光工程と、前記干渉露光工程及び前記結像露光工程を行った後、前記レジスト層
を現像して部分的に剥離する現像剥離工程と、前記ワイヤー材料層のうち前記現像剥離工
程によって露出した部分をエッチングするエッチング工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】光走査装置において、ビームスポット径を小さく保ちつつ深度余裕を拡大し、同時に、環境変化に起因する結像位置の変動を有効に抑制する。
【解決手段】光源、アパーチャ、位相型光学素子、偏向手段および走査レンズを有する光走査装置において、位相型光学素子の1つの光学面を複数の領域:An(n=1,2・・)に分割して光学面を不連続面形状とし、領域:An(n=1,2・・)と形状が異なる構造パターン:Bの位相分布形状BPを設け、複数の領域:Anによる不連続面形状に、環境変動による結像面の位置ずれを補正する機能を持たせ、構造パターン:Bに、光スポットの焦点深度を拡大する機能を持たせた。 (もっと読む)


【課題】レーザ素子の温度変化によりレーザ光の波長が変動した場合にも、回折素子とレーザ素子との距離にかかわらず、レーザ光の回折角度が変動するのを抑制することが可能な光学系、光学装置、光ピックアップおよび光ディスク装置を提供する。
【解決手段】この光学系(光ピックアップ装置100)は、半導体レーザ素子1と、透過型ホログラム素子3と、透過型ホログラム素子3を加熱するヒータ30とを備え、半導体レーザ素子1に流れる電流に基づいてヒータ30の温度を制御するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】より確実にスペックルノイズを低減することが可能な照明装置、画像表示装置及び偏光変換拡散部材を提供すること。
【解決手段】レーザ光を射出するレーザ光源と、該レーザ光源から射出されたレーザ光を複数種の偏光方向に変換して射出させる複数の領域を有する偏光変換部43とを備え、レーザ光源から射出されたレーザ光、あるいは、偏光変換部43から射出されたレーザ光を拡散させ被投射面50を照明することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フォトセンサ素子によって得られる受光データのS/N比を向上する。
【解決手段】回折格子部KKによって回折された回折光を、第1のフォトセンサ素子32aが受光し受光データを生成する。そして、そのフォトセンサ素子によって生成された受光データに基づいて、位置検出部402が被検知体の位置を検出する。 (もっと読む)


【課題】観察者の視軸と光学系の光軸との不一致による回折光学素子からの不要回折次数光(フレア光)の発生を低減する。
【解決手段】画像表示装置は、原画を形成する画像形成素子1と、該画像形成素子からの光束を複数の反射面6,7で反射して射出する第1の光学素子10と、該第1の光学素子から射出した光束を射出瞳2に導く光学系15とを有する。該光学系は回折光学素子3を含み、該光学系のうち回折光学素子よりも射出瞳側の部分21aが負の光学パワーを有する。 (もっと読む)


【課題】回折光学素子を用いる光走査装置において、回折光学素子に対する温度変化の影響を有効に軽減もしくは回避する。
【解決手段】レーザ光源からのレーザ光束を光偏向手段により偏向させ、走査結像光学系により被走査面上に光スポットを形成して光走査を行う光走査装置であって、レーザ光源として面発光型レーザ光源10Aを用いるとともに、この面発光型レーザ光源から放射されるレーザ光束の一部を回折させる回折光学素子1と、この回折光学素子により回折された回折光を検出する回折光検知用光検出器とを有し、回折光学素子は、光走査装置の温度変化範囲内における線膨張率:αが、上記温度変化範囲内における面発光型レーザ光源の発光波長の波長変化率:βに略等しいプラスチック材料により形成されている。 (もっと読む)


【課題】回折光学素子における格子側面への入射光線を減少させて、不要光を低減できる画像観察装置を提供する。
【解決手段】画像観察装置は、画像形成素子9からの光を射出瞳6に導く光学系8と、画像形成素子と光学系との間又は光学系と射出瞳との間に配置された回折光学素子7とを有する。回折光学素子は、互いに異なる材料により形成され、互い間隔をあけて配置された複数の回折格子部を有する。各格子輪帯において、格子側面は、複数の格子輪帯の頂部を通る包絡面3の法線に対して格子面とは反対側に傾いている。j番目の回折格子部におけるk番目の格子輪帯に関し、以下の条件を満足する。
θ(j,k)=sin−1[{n・sinθ(j,k)−m(j,k)・λ/P(j,k)}/n]≦θ(j,k),

M(k)=Σ{m(j,k)}=const.
j=1
θ(j,k)≦θ≦θ(j,k)。 (もっと読む)


【課題】MEMS構造の回転ミラーを用いた可変波長光源において、反射板に力を与えて、共振周波数から離れた周波数で反射板を回動させる場合であっても、反射板の回動中心軸のずれを発生させずに、モードホップを抑制することができる。
【解決手段】回動ミラー30として、フレーム31、反射板32および連結部33、34を有し、反射板32の一面側の連結部間を結ぶ線と重なる部分に規制突起45を接触して、反射板32の一面側へ移動を規制する接触規制体40を設けて、反射板32を接触規制体40に圧接させる方向の力を駆動装置35から与え、連結部33、34を捩れ変形させて反射板32と接触規制体40との接触部を中心に反射板32を回動させる。 (もっと読む)


【課題】 高い回折効率が得られ、しかも透過率が良く、成形時及び成形後の形状安定性に優れた回折光学素子を得ること。
【解決手段】 基板上に中間層を介してベース部、回折格子が形成された素子部を少なくとも1つ有する回折光学素子であって、該ベース部と該回折格子は同じ材料より成り、該回折格子と該中間層の材料の消光係数を各々Ka、Kbを各々適切に設定すること。
なる条件を満たすこと。 (もっと読む)


【課題】小型化と低コスト化を実現することができる光チャネルモニタを提供する。
【解決手段】回折格子43には反射部43bが設けられている。回折格子43の反射部43bにより反射された反射光の光軸上に、レンズ6および受光素子71が設けられている。MEMSミラー52aにより反射された回折光の一部は、回折格子43の反射部43bにより反射され、レンズ6を介して受光素子71に照射される。このような簡便な構成で回折光の反射光の光量を容易に測定することができるので、結果として、小型化と低コスト化を実現するができる。 (もっと読む)


【課題】中心スポット径を小さくすることができ且つ中心スポットへのエネルギー集中度を高くすることができる光源装置および光学マスクを提供する。
【解決手段】光源装置1は、レーザ光源10、凸レンズ11、凸レンズ12、アパーチャ13、透過型の光位相変調素子14、光学マスク15および凸レンズ16を備える。光学マスク15は、所定位置(主光線が通過する位置)を中心とするp個の半径r〜rの各円周によって区分され内側から順に領域A〜Aを設定したときに、領域A(mは0以上p以下の偶数)が光透過領域であり、領域A(nは0以上p以下の奇数)が光遮断領域である。pは偶数であり、「r>rp−1>…>r>r」、かつ、「r−rp−1>rp−1−rp−2>…>r−r>r−r>r」である。 (もっと読む)


【課題】より正確なアライメントを行うことができる波長選択型光スイッチを提供する。
【解決手段】ミラー52aの中心を結ぶ第1の直線、すなわちX軸上にアライメントパタン6を設けることにより、例えば、入力ポートからASE光を入力し、アライメントパタン6で反射された光のスペクトル形状を観察し、スペクトル形状が三角形となるように、MEMSミラーアレイチップ5のY軸方向の位置を調整するという非常に簡単な方向ににより、MEMSミラーアレイチップ5の高精度なアライメントを実現することができる。 (もっと読む)


【解決課題】位相共役光を得るためのミラーとその駆動部を必要とすることなく、位相共役光によって情報の再生を可能とし、かつ、記録密度を低下させない、ホログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】前記干渉パターンが記録される記録層402と、情報の記録時に、記録層を通過した信号光4Bと参照光4Aを吸収する第1の状態と、情報の再生時に、参照光を透過させる第2の状態と、の間で可逆的に変化可能である光吸収/透過層406と、を備え、光吸収/透過層を透過した参照光を反射層410で反射して位相共役光を生成する。 (もっと読む)


【目的】 簡単な構造で光を配光し、平面を略均一に照明するバックライト用回折光学素子及びそれを用いた液晶表示装置を提供する
【構成】 バックライト用回折光学素子であって、光源からの光を回折し、光軸中心よりも周辺部の方が強度の強い環状の強度分布で回折光を射出することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】2方向からの光を同時に観察することが可能な光学装置を提供する。
【解決手段】内視鏡装置は、入射光を平行光にする第1対物光学系(直使用対物レンズ11a)を備える。第1対物光学系とは異なる光軸を有し、入射光を平行光にする第2対物光学系(側視用対物光学系11b)を備える。スリット状の透過領域と遮蔽領域が交互に並べられて構成される遮蔽部15を備える。遮蔽部15を通過した光の光路を所定方向に偏向する回折格子17を備える。第1対物光学系を介して入射された光の一部は、透過領域を通過し、残りは、遮蔽領域で遮光され、第2対物光学系を介して入射された光の一部は、透過領域を通過し、残りは遮蔽領域で遮光される。 (もっと読む)


【課題】理想的なガウス分布から乖離したレーザビームを用いた場合においても、被照射物上(像面位置)に均一な強度分布を有するビームを照射できるビーム照射装置を提供する。
【解決手段】第1のビームL1aを投光する第1の投光部1と、前記第1の投光部1から投光された前記第1のビームL1aが透過する光学素子2と、を備え、前記光学素子2は、前記第1のビームが入射された場合に、出射ビームの被照射物9上での断面強度プロファイルの形状が、フラット部S1−aと前記フラット部より傾きの大きな傾斜部S1−bとを有するように光学設計されており、前記光学素子2を透過した第1のビームのうち、前記断面強度プロファイルにおける前記傾斜部に相当する部分を遮断するマスク4と、前記第1のビームを被照射物9へと導いて照射する第1の照射光学系3と、をさらに備える。 (もっと読む)


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