説明

Fターム[3C058AB04]の内容

仕上研磨、刃砥ぎ、特定研削機構による研削 (42,632) | 装置の構造(ワーク) (2,440) | ワーク保持機構 (1,055)

Fターム[3C058AB04]に分類される特許

81 - 100 / 1,055


【課題】ガラス基板の主平面を、酸化セリウム砥粒を使用することなくかつ高い研磨速度で研磨して、加工の際に生じたキズやクラック等を除去し、平滑な主平面を有する磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、形状付与工程と、主平面研削工程と、主平面研磨工程とを備える。そして、主平面研削工程は、平均粒径0.01μm〜15μmのダイヤモンド砥粒を有する固定砥粒工具を用いて研削する固定砥粒研削工程を有し、主平面研磨工程は、シリカ粒子、ジルコニア粒子等の酸化セリウム粒子以外の平均粒径5nm〜3000nmの砥粒を含む研磨液と、研磨パッドを用いて研磨する第1の研磨工程と、その後平均粒径が5〜50nmのシリカ砥粒を含む研磨液と研磨パッドを用いて研磨する第2の研磨工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】ウエハの研磨を適切に行なうことで圧電振動片の信頼性を向上させる。
【解決手段】研磨装置150を、水晶ウエハ155に接触する上定盤151の表面状態と、水晶ウエハ155に接触する下定盤152の表面状態とが異なるように、かつ、下定盤152による水晶ウエハ155の研磨量が上定盤151による水晶ウエハ151の研磨量よりも大きくなるように構成する。上定盤151の表面を研磨布158により覆い、該研磨布158を介して上定盤151を水晶ウエハ155に接触させ、下定盤152を砥石により構成される砥石定盤とする。研磨時に、上定盤151および下定盤52と、水晶ウエハ155との間に、水(研削水)のみを供給し、研磨剤の供給を禁止している。 (もっと読む)


【課題】簡易な方法で加工精度を高め、真円度および面粗度を向上させて油密性を確保するとともに、装置の簡素化により、生産コストを抑制できるメタルシール部の加工方法および加工装置を実現する。
【解決手段】ボデーB1に設けたテーパ面状のボデーシートB2に、ニードルNの先端に形成したテーパ面状のシート面N3を着座させるメタルシール部の加工を、ボデーB1の中心軸に対してニードルNの中心軸を傾斜させ、ボデーシートB2中心に対してシート面N3中心を偏芯配置して行なう。シート面N3とボデーシートB2の間に遊離砥粒を介在させた状態で、ニードルNに自転運動と、ボデーB1の中心軸周りに偏芯回転させるすりこぎ運動を与えることにより、シート面N3とボデーシートB2を同時に仕上加工する。 (もっと読む)


【課題】ワークを精度よく貼着できるワーク貼着装置を提供する。
【解決手段】押圧テーブル18と、押圧テーブル18の上方に、押圧テーブル18に対して相対的に接離自在に配設された押圧ヘッド42とを備え、押圧テーブル18と押圧ヘッド42とによって押圧することによって、プレート22上にワックスを介してワーク23を貼着するワーク貼着装置10において、押圧テーブル18は、ヒーター31と冷却機構32の双方を備えて成り、押圧テーブル18と押圧ヘッド42とを加熱して、プレート22上に塗布されたワックスを介してワーク23を押圧してワックスを展延させ、しかる後、冷却機構32により押圧テーブル18およびプレート22を冷却することによってワックスを固化させてワーク23をプレート22上に貼着することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被処理物の収納容器が一定の運動を与えられて被処理物の撹拌作用をなす撹拌装置において、蓋体による収納容器の高い密閉性を確保し、蓋体の開閉着脱作業が容易迅速に行える収納容器密閉技術を提供する。
【解決手段】蓋体3により密閉されるバレル槽2を嵌装するバレル槽受け5と、蓋体3を閉止固定する押え金具6と、押え金具6をバレル槽受け5に係合固定する係合固定部7とを備える。押え金具6は、バレル槽受け5に橋絡状に位置決め係合する棒状体の形態とされ、その長手方向中央部に、蓋体3に当接係合可能な締付けボルト部材10を備え、係合固定部7は、押え金具6の係合端部11、11が挿通係合する一対の係合孔25、26を備え、一方の係合孔26は、バレル槽受け5の係合凹部と、バレル槽受け5に弾発的に揺動可能に設けられた仮止め部材30の係合孔部とからなる。 (もっと読む)


【課題】ダイヤモンド粒子を含む固定砥粒を定盤に配置した両面研削装置を使用する場合に適した基板の製造方法を提供する。
【解決手段】定盤の面修正を行うための部材である修正部材53の修正面と、定盤の研削面とを互いに押圧させて摺動させる修正工程を含み、修正工程は、修正部材53の外周端部53aが固定砥粒(研削面)11、21の外周端部11a、21aよりも外周側になるとともに、修正部材53の内周端部53bが固定砥粒(研削面)11、21の外周端部11a、21aよりも内周側になるように、定盤の外周側に前記修正部材53をオーバーハングさせ、かつ修正部材53の外周端部53aが固定砥粒(研削面)11、21の内周端部11b、21bよりも内周側になるとともに、修正部材53の内周端部53bが固定砥粒(研削面)11、21の内周端部11b、21bよりも外周側になるように、定盤の内周側に修正部材53をオーバーハングさせる。 (もっと読む)


【課題】本実施形態は、ウエハのような対象物を処理するのに使用するための方法及びシステム(120)を提供し、ウエハの研磨及び/又は研削を含む。
【解決手段】フロントエンドモジュール(124)は、保管装置(126)を連結し、処理のための対象物を保管する。フロントエンドモジュール(124)は、単一のロボット、搬送ステーション、及び複数のエンドエフェクタを備えることができる。処理モジュール(122)は、単一のロボットが対象物を保管装置から処理モジュール(122)へ供給するように、フロントエンドモジュール(124)と連結される。処理モジュール(122)は、回転テーブル、及び、供給された対象物を取り出しそして対象物を回転テーブル上で処理するキャリアをもつスピンドルを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、板状体の生産性を高めることができる板状体の研磨装置を提供する。
【解決手段】本発明は、ステージ16において、キャンバス14のバックプレート38に貼り付けられた吸着シート39にガラス板Gを貼着させる。次に、このキャンバス14をステージ18に搬送し、キャリア52に水平に保持させる。次いで、キャンバス14と研磨パッド58、60とを相対的に近接させて、ガラス板Gを研磨パッド58、60に圧縮空気の圧力によって押し付けるとともに、キャンバス14及び研磨パッド58、60をガラス板Gの研磨面に沿って相対的に移動させてガラス板Gの研磨面を研磨する。本発明では、膜体を使用せずキャンバス14を使用してガラス板Gを研磨する。よって、ガラス板Gの生産工程から膜体の交換工程を省くことができる。 (もっと読む)


【課題】ワークの反り形状に対応した載置形状を安価なシートに形成してワークを切断可能に把持するワーク吸引治具を提供する。
【解決手段】ワーク50を切断可能に把持するワーク吸引治具であって、ワーク50の真空吸着を行うように構成された治具60と、記治具60の上に載置され、ワーク50の反り形状に対応した載置形状を形成するための孔24を備えたシート14と、シート14の上に載置された吸着ゴムシート40とを有し、治具60、シート14、及び、吸着ゴムシート40のそれぞれに設けられた複数の吸引孔65、30、41を介してワーク50の真空吸着を行うことで、シート14の孔24によりワーク50の反り形状に対応した載置形状が形成される。 (もっと読む)


【課題】製造効率を向上できるとともに、割れや欠け等の発生を抑えて歩留まりを向上できるウエハ外周面の研磨方法、圧電振動片の製造方法、圧電振動片、圧電振動子、発振器、電子機器、及び電波時計を提供する。
【解決手段】一対の研削テーブル205によりウエハWを厚さ方向両面側から挟持するウエハセット工程と、研磨部材202を、長手方向がウエハWの厚さ方向に沿うように配置して、ウエハWの外周面W1に当接させる当接工程と、研削テーブル205によりウエハWを回転させつつ、研磨部材202を長手方向に沿って往復走行させ、ウエハWを研磨する研磨工程と、を有していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フロート法によって製造されたガラス板を、FPD用ガラス基板として最適なガラス板に研磨するガラス板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、フロート法により製造されたガラス板Gであって、厚さが0.7mm以下であり、1辺の長さが1000mm以上、ヤング率が65GPa以上のガラス板Gを研磨対象とする。このガラス板Gの非研磨面をガラス保持部材16によって保持し、ガラス板Gの研磨面にある高さ0.3μm以下のうねりを研磨具26によって研磨することにより0.05μm以下に低減させてフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を製造する。研磨具26は、A硬度が20以上、D硬度が99以下、厚さが1.0〜2.5mm、厚さ分布が±0.05mm以内であることが好ましい。また、ガラス保持部材16は、圧縮率が10〜70%、圧縮弾性率が70〜98、A硬度が2〜20、厚さが0.3〜2.0mm、厚さ分布が±0.05mm以内であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ワーク側面のワイヤ切入り部で飛散し、ワーク保持部の側面からの落下してくるスラリによって、切断されてウエーハ状になったワークの部分が蛇腹運動することを防ぎ、スライスされたウエーハのWarpを改善することができるワイヤソーを提供する。
【解決手段】少なくとも、複数の溝付きローラに巻掛けされ、軸方向に往復走行するワイヤと、スラリを供給するノズルと、当て板と該当て板を保持するワークプレートを介して、ワークを保持しつつワイヤへ送るワーク送り装置を具備し、ノズルからスラリを供給しつつ、ワーク送り装置により保持されたワークをワイヤに押し当てて切り込み送りし、ウエーハ状に切断するワイヤソーであって、前記ワーク送り装置はワーク保持部を有し、該ワーク保持部の下端面の最大幅が、切断されるワークの幅よりも大きいワイヤソー。 (もっと読む)


【課題】EUVL光学基材用での成膜面における凹欠点の発生が抑制されたEUVL光学基材用ガラス基板の研磨方法の提供。
【解決手段】両面研磨装置10の上下定盤12,14の研磨面でキャリア20に保持されたガラス基板22を挟持し、上定盤12に設けられた供給孔から研磨粒子を含む流体を供給しつつ、上下定盤12,14と、キャリア20に保持されたガラス基板22と、を相対的に移動させてガラス基板22の両主表面を研磨するEUVリソグラフィ(EUVL)光学基材用ガラス基板22の研磨方法であって、EUVL光学基材での成膜面が、下定盤14の研磨面と対面するようにガラス基板22を挟持EUVL光学基材用ガラス基板の研磨方法。 (もっと読む)


【課題】つば付き内輪の複数のつば部(面)に対する超仕上加工を、単一(1台)の設備で同時期に一括して自動的に行うことを可能にする超仕上加工ユニットを提供する。
【解決手段】つば付き内輪2の複数のつば部(面)2tに対する超仕上加工を、単一の設備で同時期に一括して自動的に行うことを可能にする超仕上加工ユニットU2であって、つば部用砥石60aを支持するつば部加工ヘッド60と、つば部加工ヘッドを反転可能に支持し、かつ、その反転軸R回りにつば部用砥石を所望の角度で反転させる反転機構62と、反転機構を支持し、かつ、反転機構と共につば部加工ヘッドを所望の方向θに旋回させると共に、微少往復運動(オシレーション)Osさせる作動装置64とを備えている。 (もっと読む)


【課題】被研磨物を保持するワークキャリアと定盤との視認性を向上することにより、被研磨物をワークキャリアに設けられた保持孔にセットする作業性を向上できる基板の研磨装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る基板の研磨装置は、上面に第1の研磨体が配置された下定盤と、該下定盤の上方に上下動自在に支持され、下面に第2の研磨体が配置された上定盤と、第1,第2の研磨体間に配置され、ワークを保持可能な保持孔を有するワークキャリアと、上定盤及び下定盤を、軸線を中心として回転駆動する駆動装置と、ワークキャリアを回転駆動するワークキャリア駆動装置と、を具備し、第1の研磨体は、着色剤により着色されている。 (もっと読む)


【課題】ウェーハの研磨工程時間の増加を抑制しつつ、高平坦にウェーハを安定して研磨することを可能にし、歩留まりを向上できるインサート材及び両面研磨装置を提供することを目的とする。
【解決手段】研磨布が貼付された上下定盤の間にウェーハを挟んでその両面を研磨する両面研磨装置における、前記ウェーハを保持するためのキャリアの保持孔の楔状に形成された内周部に沿って配置され、前記保持孔の楔状に形成された内周部と嵌合する楔状外周部を有し、前記保持されるウェーハの周縁部と内周面で接する樹脂製のリング状のインサート材であって、前記楔状外周部の凸部に切り欠きが設けられたものであることを特徴とするインサート材。 (もっと読む)


【課題】内輪及び外輪に対する超仕上加工を1台の設備で自動的に行えるようにし、内輪に対する超仕上加工のためのセットと、外輪に対する超仕上加工のためのセットとの切り換えを全自動で行うことを可能にする。
【解決手段】軌道輪2,4を回転可能に保持する軌道輪保持機構6と、軌道輪の軌道面2s,4sに超仕上加工を施す軌道面加工機構とを有し、軌道輪保持機構は、加工対象となる軌道輪の種類に応じて、軌道輪搭載用構造体を回転軸Axに対して接離させる構造体移動手段を備え、軌道面加工機構は、内輪及び外輪軌道面用砥石8a,8bの双方を支持する軌道面用砥石ホルダと、軌道面用砥石ホルダを移動、旋回させるホルダ移動旋回手段とを備え、加工対象が内輪の場合、内輪軌道面に内輪軌道面用砥石を押し付け、加工対象が外輪の場合、外輪軌道面に外輪軌道面用砥石を押し付けて、オシレーションさせながらトラバースする。 (もっと読む)


【課題】小径化が急務となっている磁気ディスク用ガラス基板の内周側端面の表面状態を低コストで効率良く高品質に仕上げる研磨ブラシ、研磨方法等を提供する。
【解決手段】中心部に円孔を有する円板状のガラス基板の内周側端面部分に研磨液を供給しつつ、前記ガラス基板の内周側端面に研磨ブラシを接触回転させて研磨する研磨方法に用いる研磨ブラシである。該研磨ブラシ20は、その軸心21に対して毛材22が略直交する方向に突設されてなり、2つの外径D1,D2の異なる部分が軸方向にわたって交互に配列されるとともに、その小径D2となされた部分が大径D1となされた部分よりも毛材の硬度を大きくする。そのため、研磨ブラシ20における小径D2となされた部分の毛材を樹脂で固める。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ラッピング装置、研削装置、または研磨装置の2つの加工盤の間での両面処理のために1つまたは複数の半導体ウェハを受け入れるのに好適な挿入キャリアに関する。
【解決手段】この挿入キャリアは、第1および第2の表面を有する第1の材料から構成されるコアを含み、第1および第2の表面の各々は第2の材料から構成されるコーティングを有し、コーティングは第1および第2の表面を完全にまたは部分的に覆い、挿入キャリアはさらに半導体ウェハを受け入れるための少なくとも1つの開口部を含み、コーティングにおいてコアから離れた側の表面は、凸部と凹部とからなる構造を有し、構造の凸部および凹部の相関長は0.5mm〜25mmの範囲内であり、構造の縦横比は0.0004〜0.4の範囲内である。本発明はさらに、挿入キャリアが用いられる、半導体ウェハの同時両面材料除去処理のための方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】ワークの研磨装置において、研磨レートを高めるとともに、ワークの傷付きを防止する。
【解決手段】この研磨装置1は、機体2と、上下方向の回転軸CT1を中心として機体2に対して回転自在な研磨上面を有する下定盤3と、研磨上面の上側にワークWを保持しうるワーク支持部材9とを備えている。ワーク支持部材9は、ワーク支持部材9に保持されたワークWをワークWの中心から偏心した上下方向の公転軸を中心として機体2に対して公転させうるように構成されている。これにより、ワークWの公転速度が増大しても、遠心力による研磨剤の飛散を抑制することができる。 (もっと読む)


81 - 100 / 1,055