【課題】ナノインプリント用のメサ型のモールドの洗浄においてモールドの破損を抑制する。
【解決手段】ナノインプリントに使用したレジストの残渣が付着した状態のナノインプリントモールドに施される洗浄方法において、平板状の支持部１１と、該支持部の一面にありかつ該一面から所定の高さを有するメサ部１２を有するモールド１が凹凸パターン領域Ｒ１上にフッ素化合物を含有する離型層１４を備えた状態で、上記モールド１を洗浄液に浸漬して超音波洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】テンプレートに付けたパターンを印写可能媒体に印写することによってパターンを基板に転写する印写リソグラフィで、この印写可能媒体として熱可塑性または熱硬化性樹脂を使うとき、それだけを必要な温度に迅速に加熱する装置・方法を提供する。
【解決手段】テンプレート３０の転写すべきパターンの上に薄い金属層３５が設けてあり、このテンプレート３０を印写可能媒体３４に接触させ、それとそれを保持するホルダ３１を通してレーザ３６のビーム３７で照射する。このビーム３７を金属層３５が効率的に吸収し、この金属層からの熱を印写可能媒体３４へ効率的に伝達するので、印写可能媒体３４の加熱が迅速であり、熱が基板３２に入って基板を歪めることがない。 （もっと読む）

【課題】４０ｎｍ以下のパターンピッチのナノインプリント金型を簡便に製造できる方法を提供する。
【解決手段】
本発明によるナノインプリント金型の製造では、ＳｉＯ_２層を設けたＳｉ基板に、集束イオンビームを用いて所望の位置に金属を堆積し、この基板を加熱して、堆積した金属を凝集させて、ナノインプリント金型のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】型を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部を設けてマスター型を製造するマスター型製造装置において、マスター型での不良の発生を防止する。
【解決手段】型Ｍ１を複数回繰り返して使用することにより、平板状の基板Ｗ１の面に硬化した成型材料で構成された複数の凸部Ｗ２を設けて、マスター型Ｍ２を製造するマスター型製造装置１において、凸部Ｗ２を形成するための型Ｍ１の凹部Ｍ３に供給された硬化前の成型材料を観察する硬化前観察カメラ１７を有する。 （もっと読む）

【課題】 金属表面に形成された凹状又は凸状のパターンを有する印刷版面を短時間で、かつ、高精度に再現できるパターン形成体を提供する。
【解決手段】 第一の金属原版の凹状又は凸状パターンを転写するためのパターン形成体において、金属板上に形成される光硬化性のパターン形成材料と光硬化性のパターン形成材料中に埋没させるパターン形成材料を補強し、光硬化効率を高めるための光透過性の補強板と、光硬化性パターン形成材料の中に光透過性の補強板が第一の金属原版に接触しないように配置された支持体から成るパターン形成体及び複製方法である。 （もっと読む）

【課題】気泡の除去を容易にするとともに変形を抑えた転写印刷用スタンプの製造方法および電子デバイスを提供する。
【解決手段】転写印刷用スタンプ５は、通気性シート３に樹脂を含浸させて通気性シート３を第１樹脂層１００中に含まれるように構成させている。これにより、第１樹脂層１００中に含まれる気泡を通気性シート３の隙間を通して容易に脱気させることができる。そのため、気泡によるパターン欠損などの問題を解消することができる。また、通気性シート３は、第１樹脂層１００中で骨格として機能するので、転写印刷用スタンプ５の強度を高めることができ、変形を抑えることができる。そのため、転写の寸法精度を高めることができ、大面積化させることができる。 （もっと読む）

【課題】 添加剤を含有するエチレン系共重合体樹脂シートの成形においても、ラバーとられが発生せず、生産性を低下させないうえ、エンボス加工性などに優れた押出成形用エンボス型ロール、及びそれを用いたエチレン系共重合体樹脂シートの製造方法を提供する。
【解決手段】 エチレン系共重合体樹脂シートの押出成形用エンボス型ロールであって、軸芯部の外周にシリコーンゴム層、接着層およびフッ素樹脂層が順次積層されてなり、かつ、算術平均粗さ（Ｒａ）が５．０μｍ以上であり、最大高さ粗さ（Ｒｚ）が２５〜４０μｍであることを特徴とする。このとき、シリコーンゴムのＪＩＳ Ｋ ６２５３ デュロメータ タイプＡによるゴム硬度が３０〜８０であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】表面修飾が可能な、基材との密着性に優れ、転写材樹脂との離型性に優れ、繰り返しの使用に耐えうる樹脂モールドの提供。
【解決手段】第一面と該第一面と反対側に位置する第二面とを有するフィルム基材の該第一面に微細凹凸構造を有するナノインプリント用の樹脂モールドであって、該樹脂モールドを構成する樹脂中の平均フッ素元素濃度（Ｅｂ）に対する該樹脂モールドの微細凹凸構造の表面部のフッ素元素濃度（Ｅｓ）の比が、下記式（１）：
１＜Ｅｓ／Ｅｂ≦３００００ （１）
を満たし、かつ、該樹脂モールドを構成する樹脂中にシリコン元素を含有することを特徴とする前記樹脂モールド。 （もっと読む）

【課題】表面上に、少なくとも２つの異なる方向それぞれに複数の光学的構造体が配置され、そのそれぞれの方向において複数の光学的構造体が０．１ｍｍ未満の間隔をもって配置されるように光学シートを形成する光学シート用の金型について、均一な外観品質を得る。
【解決手段】光学シート用金型１０は、表面上に、少なくとも２つの異なる方向それぞれに複数の光学的構造体が配置され、かつそのそれぞれの方向において前記複数の光学的構造体が０．１ｍｍ未満の間隔をもって配置されるように光学シートを形成する光学シート用の金型であって、円筒形状をなし、その外周面に光学的構造体を形成するための光学的構造体形成部１２が形成され、かつビッカース硬度が５００Ｈｖ以上から６００Ｈｖ以下の範囲とされて形成されており、複数の光学的構造体は、光学シートの表面に前記外周面が押し付けられて光学的構造体形成部１２が転写されることにより形成される。 （もっと読む）

【課題】転写の際に、被成形品に気泡が発生することを防止することができ、転写のための押圧力を小さくすることができ、さらに、被成形品と型との型離れがよい転写装置を提供する。
【解決手段】基板テーブル１０３と、基板テーブル１０３に対して相対的に移動自在な型保持体１０５と、型保持体１０５をＹ軸方向で基板テーブル１０３に対して相対的に移動位置決めするための駆動手段と、型保持体１０５をＺ軸方向で基板テーブル１０３に対し接近・離反する方向で相対的に移動位置決めするための駆動手段と、型保持体１０５に保持されている型５５の転写パターンが形成されている面に、薄膜状の被成形層１６を設ける被成形層設置手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板１上に、ハフニウムおよびジルコニウムのうちの少なくとも一方の元素を含有する材料で形成された下層３と、該下層の酸化を抑制する材料で形成された上層４の積層膜からなる薄膜を有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をエッチング加工して薄膜のパターンを形成する工程と、該薄膜のパターンをマスクとして透光性基板１をエッチング加工してモールドパターンを形成する工程と、該モールドパターンを形成した後、薄膜の下層を、塩素、臭素、ヨウ素、およびキセノンのうちいずれかの元素とフッ素との化合物を含む非励起状態の物質に接触させて除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細な転写パターンが外周に形成されている転写ロールに付着している不要物を除去するときに、前記転写ロールの微細な転写パターンに傷がつくことを防止する。
【解決手段】外周に微細な転写パターン１１が形成されている転写ロール９を、粘着剤４３を用いて掃除するように構成されている転写ロール清掃装置５である。 （もっと読む）

【課題】熱分解後の酸化銅（Ｉ）の再酸化を抑制可能な熱反応型レジスト材料を提供すること。
【解決手段】本発明の熱反応型レジスト材料は、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム、チタン、鉄、コバルト、亜鉛、ガリウム、シリコン、ゲルマニウム、鉛、ビスマス、及びテルル、並びにその酸化物、塩化物、フッ化物、及び炭酸化物からなる群から選択された少なくとも１つの再酸化防止剤と、酸化銅（Ｉ）と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い離型性を有し、かつ簡単に再現可能であるとともに、微細パターンの形状保持性に優れたインプリント用モールドおよびその製造方法、並びに微細構造の製造方法を提供することである。
【解決手段】微細パターン２を表面１ａに有する表面層１と、この表面層１の裏面１ｂを支持する支持層５とを備え、表面層１が紫外線硬化性官能基を有する紫外線硬化型側鎖結晶性ポリマーからなるインプリント用モールド１０およびその製造方法である。モールド１０を用いて微細構造を製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】 複雑な形状のエンボスロールを容易に製作することが可能であり、メンテナンスも容易であり、また製作コストも低くすることが可能なエンボスロールを提供することを課題とする。
【解決手段】 ロール軸に複数のエンボスリングが嵌め込まれており、前記エンボスリングは基体リングと前記基体リングの外周面に配置されたエンボス部材とからなり、前記エンボス部材の外周面に凸部及び／又は凹部が形成されていることを特徴とするエンボスロール。 （もっと読む）

【課題】公衆及び医療専門家に有効な選択肢を与える導管、特に呼吸回路の枝管を提供すること、このような導管の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の導管を連続的に製造する方法は、薄いプラスチックの犠牲層１７をオーバーラップするパターンで、導管を回転させ且つ前進させるフォーマ１の周りにつける工程と、オーバーラップしている層を互いに接合しながら、フォーマ上で犠牲層を覆って導管６を形成する工程と、接合後に犠牲層を導管の内側から除去する工程と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が２次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】曲面、傾斜および段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが０．１μｍ〜１００００μｍである表面が一部若しくは全部である基板上に形成する、粒子が２次元に最密充填した単粒子膜であって、
下記式（１）で定義される粒子の配列のずれＤ（％）が１０％以下であることを特徴とする単粒子膜。
Ｄ（％）＝｜Ｂ−Ａ｜×１００／Ａ・・・（１）
（式（１）中、Ａは前記粒子の平均粒径、Ｂは前記単粒子膜における前記粒子間の平均ピッチを示す。） （もっと読む）

【課題】微細な転写用凹凸構造と、当該転写用凹凸構造の凹部の深さ（凸部の高さ）を正確に測定するための測定用凹凸構造とを備えているにもかかわらず、ステップ・アンド・リピート法により転写用凹凸構造のみを被加工物に転写することのできるナノインプリント用モールド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の基部上及び凸構造部上にエッチング用マスク材料膜を形成し、基部上のマスク材料膜に測定用凹部形成用の第１開口パターンを形成し、凸構造部上のマスク材料膜に転写用凹部形成用の第２開口パターンを形成し、第１及び第２開口パターンが形成されたマスク材料膜をマスクとしてエッチングして、基部における凸構造部側の面への測定用凹部の形成及び凸構造部への転写用凹部の形成を行う。この測定用凹部の開口面の短手方向長さは、非破壊式測定装置を用いて測定用凹部の深さを測定可能な長さである。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンを用いたナノインプリント方法においても、インプリント後のレジスト膜の厚みムラを解消することを可能とする。
【解決手段】基板の表面に微細な凹凸パターンを形成することにより製造されたナノインプリントモールド１０において、上記基板として、離型処理が施された後かつ凹凸パターンが形成される前の上記表面の表面形状であって、高低差分布に関する３σ値が１〜３ｎｍである表面形状を有する基板１２を用いて製造する。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜しつつ、テンプレート処理のスループットを向上させる。
【解決手段】テンプレートの表面に離型剤を成膜するテンプレート処理では、先ず、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面に紫外線を照射し、当該テンプレートの表面を洗浄する（工程Ａ２）。続いて、塗布ユニットにおいて、テンプレートの表面にテンプレートの表面に紫外線を照射しながら、当該テンプレートの表面に離型剤を塗布する（工程Ａ３）。その後、リンスユニットにおいて、離型剤をリンスして、当該離型剤の未反応部を除去する（工程Ａ４）。こうしてテンプレートの表面に離型剤が所定の膜厚で成膜される。 （もっと読む）