特に、波長範囲が０．１ｎｍと１００ｎｍとの間の波長の電磁放射用の光学デバイス内で使用するための光学グレーティングの横方向パターンを有する多層構造体の製造方法は、（ｉ）多層構造体を提供するステップと、（ｉｉ）この多層構造体内に横方向三次元パターンを配置するステップとを含んでおり、横方向パターンを配置するステップ（ｉｉ）はナノインプリント・リソグラフィ（ＮＩＬ）用の方法によって実現され、この製造方法に基づいて製造されるＢＦ構造体及びＬＭＡＧ構造体が提供される。
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【課題】転写ロールの交換が容易に行えるローラー型インプリント装置、及び、インプリントシートの製造方法を提供する。
【解決手段】表面にパターンが形成された転写ロールを回転させることで被転写シートに上記パターンを転写するローラー型インプリント装置であって、上記インプリント装置は、上記転写ロールの回転軸と一致する、上記転写ロールを回転させるための回転用軸を持たないローラー型インプリント装置。 （もっと読む）

【課題】インプリントテンプレートアライメントマークを改善する。
【解決手段】アライメントマークを備えたインプリントリソグラフィテンプレートが提供される。アライメントマークは、インプリントリソグラフィテンプレートの屈折率とは異なる屈折率を有する誘電体材料から形成され、誘電体材料は、誘電体材料を通過したアライメント放射と誘電体材料を通過しなかったアライメント放射との間に位相差を生じるような厚さを有する。 （もっと読む）

【課題】製造時に転写シートのエンボスパターンを傷めることがなく、被加工材料に対してエンボスパターンを良好に転写できるロール型の製造方法を提供する。
【解決手段】ロール型の製造方法は、転写シート２３１における裏面の一端２３１Ａ側に接着剤Ａｄ１を塗布し、一端２３１Ａ側を回転ロール２３２の外周面に当接させる当接工程と、一端２３１Ａ側を回転ロール２３２に押圧した状態で、一端２３１Ａ側及び回転ロール２３２の間に介在した接着剤Ａｄ１を硬化させる第１接着剤硬化工程と、転写シート２３１の裏面に接着剤Ａｄ２を塗布し、回転ロール２３２を回転させて回転ロール２３２に転写シート２３１を巻き付ける巻き付け工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】微細な格子状突起パターンあるいはそれに類似の突起パターンを表面に有する微細構造体を簡便かつ安価に、しかも高い寸法精度で歩留まりよく製造できるとともに、高い寸法精度及び良好な寸法安定性、特に湿度変化に対する良好な寸法安定性を同時に満足させ得るような可とう性成形型を提供すること。
【解決手段】可とう性成形型が、ポリマー材料及び強化材の複合材料からなる支持体と、前記支持体によって支持された、微細構造表面をその表面に備えた賦形層とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのレーザーを使用して、金属製プレスシート、エンドレスベルト又はエンボスロールの表面構造を製造するための方法、及びその方法を適用した装置を提供する。
【解決手段】表面構造を低費用で製造できると同時に環境を保護する処置を可能にするために、金属製プレスシート１、エンドレスベルト又はエンボスロールの加工するべき表面２の表面構造４全体を部分的に除去するレーザーの使用が提案される。ここでは用意された３Ｄトポグラフィによってレーザーの制御が実行され、その際深さ構造を生成するために、得られたＸ、Ｙ、Ｚ座標を使用してレーザーの制御が行われ、その結果盛り上がった範囲５及び深さのある範囲６が形成される。 （もっと読む）

【課題】 コンピュータを用いて擬似的に、充分な深さを持ち、皺やよれのない、特に綾織りの布地調シートを自由なデザインで作成する。
【解決手段】 布領域のサイズ、基本糸幅、基本糸を構成する微細糸の幅等のパラメータを入力する（Ｓ１１）。各画素について、どのブロックに属するかを特定する（Ｓ１２）。各画素の特定されたブロック内における相対位置を算出する（Ｓ１３）。その糸領域がどのような糸領域であるかを確認し（Ｓ１４）、横糸領域である場合は変数を入れ替え（Ｓ１５）、縦糸領域である場合は、糸方向の位置をずらす（Ｓ１６、Ｓ１７）ことにより、糸領域内における相対位置を算出する。さらに画素の高さを算出する（Ｓ１８）。ステップＳ１２〜Ｓ１８の処理を全画素に対して行って布地立体形状を作成し、これを二値化または多値化した後、エッチングまたは彫刻を行ってエンボスシリンダを作成する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、簡便に、金属加工品、微細部品を製造するための金属膜（金型）のパターンおよびその形成方法を提供することにある。
【解決手段】シード膜２が成膜された基板３上に塗布された硬化性樹脂組成物４と、所定パターンを有するモールド５とを相対移動させて、硬化性樹脂組成物４に所定パターンを転写した状態で、硬化性樹脂組成物４を硬化させることで転写されたパターン形状を有する硬化樹脂４´を得る。硬化樹脂４´よりモールド５を取り外し、金属膜を形成する領域の残渣の硬化樹脂４´´を除去後、電鋳処理を経て金属膜１１を形成し、その後不要となった硬化樹脂４´を除去する工程を経て形成される。この際、プラスチックモールドと特定の重量平均分子量以下である重合性化合物を配合した可視光硬化性樹脂を使用することにより、より簡便な金属膜のパターンの製造プロセスが提供される。 （もっと読む）

【課題】モールドをレジスト層から引き剥がす際にかかる応力を抑制することでレジスト層やモールドの損傷を抑制する剥離板、モールド構造体及びインプリント方法を提供。
【解決手段】本発明のインプリント方法は、加熱すると屈曲する剥離板を備えるモールド構造体を、加工対象物の基板上に形成されたインプリントレジスト組成物からなるレジスト層に押圧して前記モールド構造体に形成された凹凸パターンを転写する転写工程と、剥離板を加熱して第１の金属層を熱膨張させ、前記モールド構造体の端部を押圧方向と反対方向に屈曲させて前記レジスト層と前記モールド構造体とを剥離する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】接合のための加熱加圧工程における機械的加圧力の不均一性や基板自体の変形などを防止し、大面積であっても均一な膜パターンの形成を可能とする。
【解決手段】表面に凹凸を有する型（１）の表面に膜材料（１０）を形成する工程と、前記膜材料（１０）が形成された型（１）とガラス基板（３０）を接触させ加熱下で電圧を印加することにより、型表面とガラス基板表面間に均一な静電引力を発生させ、型（１）の凸部に形成された膜材料をガラス基板（３０）上に膜パターン（２０）として接合させる工程と、電圧の印加終了後、型（１）とガラス基板（３０）を剥離してガラス基板上に前記膜パターン（２０）を転写する工程と、を有することを特徴とする微細パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】基材上に残膜がないまたは薄いパターンを形成可能な微細マスクパターンの形成方法、基材に対して精度よくかつ容易にリソグラフィ加工が可能なナノインプリントリソグラフィ方法および微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】この微細マスクパターンの形成方法は、微細凹凸構造１１ａを有する型１４に膜１５を形成し、型上の膜を型の微細凹凸構造の凸面１１ｂまたは凸面の近傍まで除去し、型上の膜を除去した後の表面１５ａに基材１６を重ね合わせて物理的相互作用により密着させ、基材から型を除去することで、基材上に微細凹凸構造１１ａに対応した膜１５からなる微細マスクパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】高い防眩機能を示す防眩フィルムの製作に有用な、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法を提供し、その防眩フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すめっき工程と、該めっき工程によって銅めっきまたはニッケルめっき３が施された表面を切削加工および／または研磨加工することによって表面粗さが０．１μｍ以下の鏡面とする鏡面加工工程と、鏡面加工された面に複数の微細凹部１８を切削加工によって形成する微細凹部形成工程と、微細凹部１８が形成された面に保護膜１９を形成する保護膜形成工程とを含む、金型の製造方法であって、上記微細凹部形成工程における切削加工が、切削される微細凹部間の平均最隣接距離、切削深さが特定の条件を満たす金型の製造方法、およびそれで得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 モールドを外周部で保持した場合にモールドの保持部と基板等の被転写体との干渉、更に両面プリントの場合に上側モールドと下側モールドの保持部との間や、保持部とモールド同士の相互干渉を防止することができるモールド、そのモールドの製造方法、及びそのモールドによる転写方法を提供する。
【解決手段】 被転写体の表面に形成された転写層を挟むように被転写体と近接されることによってパターンの転写を行う転写装置において使用されるモールドであって、外周に複数の切り欠き部を有することで、円盤形状の外周領域の複数箇所を切り欠いた形状を有し、モールドの切り欠き部以外の部分が転写装置によって把持される被把持部とされており、切り欠き部と被把持部とは互いに異なる形状である。 （もっと読む）

【課題】拡管時に曲がったり拡管後の金型が離型しずらくなく、拡管寸法の安定性が良好な樹脂チューブの拡管部形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂チューブ１の拡管部形成方法において、内部に流路２ａを有し一端が密閉された流体ノズル２に、所定間隔を有して一対の周状突出部３，３を形成すると共に、これらの周状突出部３，３間に前記流路２ａと通じる開孔４を設け、この流体ノズル２を前記樹脂チューブ１に挿入して加圧空間５を形成する一方、内側の拡管空間７を形成する内面が拡管部に一致して形成された割り型６ａ，６ｂを、前記樹脂チューブ１の加圧空間５外周に装着して、前記樹脂チューブ１を加熱する一方、前記割り型６ａ，６ｂに密着力を負荷し、流体ノズル２の流路２ａから前記加圧空間５に加圧流体を導入して、前記樹脂チューブ１に拡管部１ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Ａｌ_２Ｏ_３基板２０上に非晶質炭素材料のＤＬＣから成る被エッチング層２１を形成する第１の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層２１上に薄膜パターン２２を形成する第２の工程と、薄膜パターン２２をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層２１をエッチングし、複数のナノ凸パターン２００が形成された成型転写面を形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が良好であり、金属製モールドからの除去が容易な樹脂モールドを用いて、金属製モールドを製造する。
【解決手段】金属製モールドの製造方法は（Ｉ）（ａ）グリシジル基を含有するビニルモノマーから導かれる構成単位と（ｂ）含有しない構成単位とを含有すると共に、架橋剤から導かれる構成単位を０〜１０重量部含有する樹脂（Ａ）を基板上に塗布し、樹脂層を形成する工程と、（ＩＩ）前記樹脂層表面にマスターモールドを熱転写して樹脂モールドを製造する工程であって、樹脂層が前記樹脂（Ａ）のエポキシ価からの変化量５％以下のエポキシ価である樹脂モールドを製造する工程と、（ＩＩＩ）前記樹脂モールド上に金属層を形成する工程と、（ＩＶ）前記金属層の形成された樹脂モールドを、ガラス転移温度以上の温度に加熱するか、または溶剤に浸漬するで、分離して金属製モールドを得る工程とを、含む。 （もっと読む）

【課題】光を散乱する粗い凹凸構造と、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造とからなるマルチ凹凸構造を陽極酸化によって表面に形成できるスタンパの製造方法及び該スタンパを用いた成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】平均結晶粒径が１００μｍ以下のアルミニウム基材１０を陽極酸化して、細孔１１を有し、厚さが３０μｍ以上の第１の酸化皮膜１２を形成する第１の酸化皮膜形成工程と、第１の酸化皮膜の全部を除去し、陽極酸化の細孔発生点１３を形成する酸化皮膜除去工程と、アルミニウム基材を陽極酸化して、細孔発生点に対応した細孔１４を有する第２の酸化皮膜１５を形成する第２の酸化皮膜形成工程と、第２の酸化皮膜の一部を除去し、細孔の孔径を拡大させる孔径拡大処理工程とを有し、粗い凹凸構造Ｓ１に、周期が可視光の波長以下である複数の細孔からなる微細凹凸構造Ｓ２を重ね合わせた構造を表面に形成するスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】マイクロコンタクトプリントにおいて被加工物に高い精度でパターン転写をすることができるスタンプと、このスタンプを製造するためのマスター版と、これらの製造方法、および、マイクロコンタクトプリント法による高精度のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】マイクロコンタクトプリント用スタンプ製造用のマスター版１を、基板２と、この基板２の一方の面２ａに所望のパターンで配設された樹脂凸部３と、この樹脂凸部３の非形成部位の基板２上に配設された平坦突出部４と、を備えたものとし、平坦突出部４の周縁壁部４ａと樹脂凸部３の側壁３ａとが微小間隙５を介して離間したものとする。 （もっと読む）

【課題】複数のテンプレートに対して離型剤を連続的に成膜する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ユニット２０を有し、処理ブロックＧ１〜Ｇ４内に配置されている各種処理ユニットにテンプレートＴを搬送する。処理ブロックＧ１、Ｇ２は、テンプレートＴに離型剤を塗布する塗布ユニットと、テンプレートＴ上の離型剤をリンスするリンスユニットとをそれぞれ有している。処理ブロックＧ３、Ｇ４は、テンプレートＴの表面を洗浄する洗浄ユニットと、テンプレートＴの温度を調節する温度調節ユニットと、テンプレートＴを焼成する加熱ユニットとを有している。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に形成する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ユニット２０を有し、処理ブロックＧ１〜Ｇ４内に配置されている各種処理ユニットにテンプレートＴを搬送する。処理ブロックＧ１〜Ｇ４は、テンプレートＴの表面に離型剤を成膜する。処理ブロックＧ１、Ｇ２は、テンプレートＴの外側領域の離型剤に紫外線を照射して、当該紫外線の離型効果を弱める離型剤改質ユニットをそれぞれ有している。 （もっと読む）