【課題】ボートの製造工程で発生した加工屑を有効利用し、ボートの製造に好適なセラミックス焼結体を製造する。
【解決手段】ＴｉＢ_２（二硼化チタン）と、ＢＮ（窒化硼素）と、ＡｌＮ（窒化アルミニウム）と、Ｓｒ（ストロンチウム）化合物と、Ｆｅ（鉄）又はＦｅ化合物と、Ｏ（酸素）を含む原料粉末を成型後、非酸化性雰囲気下、ホットプレス焼結するセラミックス焼結体の製造方法において、上記原料粉末の一部としてセラミックス焼結体の粉砕物を用い、そのセラミックス焼結体の粉砕物の組成が、ＴｉＢ_２が４０〜６０質量％、ＢＮが３０〜５５質量％、ＡｌＮが０．３〜２．０質量％、Ｓｒ化合物が０．３〜３．０質量％、Ｆｅ又はＦｅ化合物が０．５〜８．０質量％及びＯが１．０〜４．０質量％を含み、しかもこれらの成分の合計が９５質量％以上（１００％を含む）であることを特徴とするセラミックス焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】プレス圧を下げ安価な黒鉛製鋳型を使用することにより低コストで製造できると共に、超硬工具にて容易に加工できる快削性と、穿孔などの機械加工時に割れや欠けを起こさない高強度とを併せ持ち、かつ使用温度環境が変動しても寸法の狂いが生じにくい低熱膨張性を有する快削性セラミックスの製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミナとジルコニアと窒化硼素と焼結助剤とを含む原料粉末であって、アルミナとジルコニアとの質量比が１：０．７〜１：２．３であり、窒化硼素が比表面積１５ｍ²／ｇ以上の六方晶系窒化硼素で、その原料粉末全体に対する配合割合が２５〜６２質量％であり、焼結助剤の原料粉末全体に対する配合割合が０．５〜４．５質量％である原料粉末を不活性雰囲気中、プレス圧９〜２１ＭＰａ、焼成温度１５３０〜１７２０℃で加圧焼成する。
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【課題】α型炭化ケイ素粉末を原料とする導電性が良好な炭化ケイ素焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】α型炭化ケイ素粉砕粉及び非金属系焼結助剤を含む混合物を得る工程と、混合物を４００ＫＰａ〜６００ＫＰａの窒素加圧雰囲気下でホットプレス法を用いて焼結する工程と、を含む炭化ケイ素焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】炭化ケイ素焼結体の簡易な高純度化方法を提供する。
【解決手段】炭化ケイ素焼結体を不活性ガス雰囲気下で１７００℃〜２０００℃で加熱する炭化ケイ素焼結体の高純度化方法。 （もっと読む）

【課題】タングステン添加ホウ化ジルコニウムの製造法を確立し、機械的特性が大幅に改善されたホウ化ジルコニウムの緻密な焼結体を提供する。
【解決手段】所定量のＺｒ粉末、所定量のＷ粉末および所定量のＢ粉末を湿式混合した後、加圧成形して成形体とし、前記成形体を放電プラズマ焼結することにより、タングステン添加ホウ化ジルコニウムを得る。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＯ_２膜に替わる特性を備えた高誘電体ゲート絶縁膜として使用することが可能であるＨｆＯ_２・ＳｉＯ_２膜の形成に好適な、耐脆化性に富むハフニウムシリサイドターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ＨｆＳｉ_{０．８２−０．９８}からなるゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲットに関する。ＨｆＳｉ_{０．８２−０．９８}からなる組成の粉末を合成し、これを１００メッシュ以下に粉砕したものを１７００°Ｃ〜２１２０°Ｃ、１５０〜２０００ｋｇｆ／ｃｍ^２で、ホットプレス又は熱間静水圧プレス（ＨＩＰ）することによりゲート酸化膜形成用ハフニウムシリサイドターゲットを製造する。 （もっと読む）

【課題】窒化アルミニウム固有の特性を保持し、広い範囲で抵抗制御された窒化アルミニウム耐食性部材を提供する。
【解決手段】カルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び酸素（Ｏ）を少なくとも含む連続化した粒界相を窒化アルミニウム内に形成することにより、窒化アルミニウム固有の特性を損なうことなく低抵抗化を実現できることを知見した。 （もっと読む）

【課題】 記録媒体駆動装置の高容量化に伴い、フェムトスライダ，アトスライダ等の小型化されたスライダが求められているのに対し、スライシング加工等の機械加工で形成されるスライダの側面およびイオンミリング加工法や反応性イオンエッチング法によって形成される流路面からの脱粒を抑制させた磁気ヘッド用基板およびこれを用いた磁気ヘッドならびに記録媒体駆動装置を提供する。
【解決手段】 アルミナを35質量％以上70質量％以下、炭化チタンを30質量％以上65質量％以下の範囲で含む焼結体からなる磁気ヘッド用基板１であって、前記焼結体の平均結晶粒径が0.25μｍ以下（但し、０μｍを除く）である磁気ヘッド用基板１である。この磁気ヘッド用基板１によれば、全体にわたって個々の結晶粒子が小さいために、短冊状に切断したり流路面を形成したりしても、大きな脱粒はほとんど発生しない。 （もっと読む）

【課題】窒化アルミニウム固有の特性を保持して低抵抗化された窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ユウロピウム（Ｅｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び酸素（Ｏ）を少なくとも含み、Ｘ線回折プロファイルがＳｒ_３Ａｌ_２Ｏ_６相と略一致するピークを有する粒界相を窒化アルミニウム焼結体内に３次元的に連続化させることにより、窒化アルミニウム固有の諸特性を損なうことなく低抵抗化を実現できることを知見した。 （もっと読む）

【課題】高温環境下で粒界相中の金属イオンの移動を防ぐことができ、かつ耐腐食性及び高温特性に優れているセラミックヒータを提供すること。
【解決手段】モリブデンの珪化物、窒化物及び炭化物、並びに、タングステンの珪化物、窒化物及び炭化物のうち、少なくとも１種を主成分とする発熱体と、窒化珪素を主成分とし、かつ希土類元素を酸化物換算で４〜２５質量％含有し、かつアルミニウム成分を窒化アルミニウム換算で０．０２〜１質量％含有し、かつ全酸素量に対する希土類元素の酸素量の比が０．３〜０．６であり、かつモリブデン、バナジウム、タングステン及びクロムから成る群より選ばれる少なくとも１種の珪化物を１〜８体積％含有する基体とを備え、前記基体の表面には、希土類元素のモノシリケート及び／又はダイシリケートが主結晶相であり、前記発熱体が前記基体に埋設されて成ることを特徴とするセラミックヒータ。 （もっと読む）

【課題】緻密で均質なＭｇＢ_２系合金焼結体やＭｇＢ_２系合金線材を簡単に効率良く低コストに製造・実現できる画期的な技術を提供する。
【解決手段】マグネシウム（Ｍｇ）合金の製造工程で排出される切削屑を、真空中若しくは不活性ガス中でホウ素（Ｂ）粉末と摩擦式粉砕・混合することで、均質混合と微細化とを同時に行い、微細且つ不純物汚染の少ない均質なＭｇ合金−ホウ素混合粉末を製造し、これを基に均質で緻密なＭｇＢ_２を製造する。 （もっと読む）

【課題】高温特性及び破壊靭性に優れたＳｉＣ繊維結合型セラミックスの特性を維持したまま、製造装置の有効面積を効率的に活用したＳｉＣ繊維結合型セラミックスの製造方法を提供する。
【解決手段】ポリシラン又はその加熱反応物に２Ａ族、３Ａ族及び３Ｂ族の金属元素のうち少なくとも１種以上の金属元素を含有する化合物を添加し、不活性ガス中で加熱反応して金属元素含有有機ケイ素重合体を得たのち、これを溶融紡糸、さらに不融化及び無機化して所定の無機化繊維を得る。この無機化繊維を織物として予備成形体を作製し、カーボン製上下パンチ間に側面を開放して配置し、真空、不活性ガス、還元ガス及び炭化水素いずれかの雰囲気中において、１７００〜２２００℃の温度及び予備成形体の垂直方向に１００〜１０００ｋｇ／ｃｍ^２の加圧下で加熱加圧処理を行って、ＳｉＣ繊維結合型セラミックスを製造する。 （もっと読む）

【課題】高い強度のチタンシリコンカーバイド基複合材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多結晶チタンシリコンカーバイドの結晶粒を配向させ、大部分の結晶のｃ面が一方向に揃った組織のチタンシリコンカーバイドに微細な炭化チタン粒子が分散した組織で、その強度が従来の多結晶チタンシリコンカーバイドより大きいことを特徴とするチタンシリコンカーバイド基複合材料、及びこの複合材料に１０〜２０体積パーセントの炭化ケイ素ウィスカが分散した組織で、更に、高強度であることを特徴とするチタンシリコンカーバイド基複合材料、及びチタン、ケイ素、炭化チタンの混合粉末、又はチタン、炭化ケイ素、炭素の混合粉末を用いて、上記チタンシリコンカーバイド基複合材料を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】気孔などの欠陥が少ない炭化ケイ素焼結体の製造が可能な炭化ケイ素顆粒を提供すること。
【解決手段】炭化ケイ素粒子を含み、０．５Ｎ／ｍｍ^２の強度で圧縮した際の歪量の平均値が２０％以上であることを特徴とする炭化ケイ素顆粒。 （もっと読む）

【課題】耐食性に一段と優れたボートとその製造方法を提供する。
【解決手段】二硼化チタンと窒化硼素を含有してなるホットプレス焼結体であって、室温三点曲げ強度が５０〜１００ＭＰａ、窒化硼素結晶のＣ軸格子定数が６．６６５Å以下、窒化硼素結晶の格子歪みが０．３％以下であり、しかもホットプレス加圧方向に対し、平行方向の室温比抵抗に対する垂直方向の室温比抵抗の比が０．８〜１．２である金属蒸発発熱体。ＧＩ値が８以上の窒化硼素４０〜６０質量％と二硼化チタン４０〜６０質量％を含んでなる顆粒物を、冷間等方圧加工(ＣＩＰ)を行って相対密度が７０〜８５％の成型体を成形し、平坦化加工した後、非酸化性雰囲気中、温度１９００〜２２００℃、圧力１５〜３０ＭＰａの条件でホットプレスし、得られたホットプレス焼結体を所望形状に加工することを特徴とする金属蒸発発熱体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】炉材を消耗させることなく体積抵抗率が低い炭化珪素焼結体を製造する。
【解決手段】粉砕粉を窒素雰囲気下で焼成することにより焼成粉を生成し、焼成粉を粉砕することにより再粉砕粉を生成し、再粉砕粉を焼結させることにより炭化珪素焼結体を生成する。 （もっと読む）

【課題】 印加された電圧に対して一定範囲の体積抵抗率を有することができる静電チャック用窒化アルミニウム焼結体を提供する。
【解決手段】 静電チャック用窒化アルミニウム焼結体は、クロム酸化物０．１〜１．０重量％と、あるいはさらにイットリウム酸化物１．０〜３．０重量％を加え、残部が窒化アルミニウムで全体を１００重量％とした組成でなっている。この静電チャック用窒化アルミニウム焼結体は、体積抵抗率が常温で１×１０^１３〜１×１０^１５Ωｃｍであり、また印加電圧に対して体積抵抗率の変化が小さく、１００Ｖ／ｍｍの電場における体積抵抗率に対し、３０００Ｖ／ｍｍの電場における体積抵抗率の変化率が、５％以内である。 （もっと読む）

【課題】、１０μｍ以上の窒化ホウ素粒子ないしは窒化ホウ素粒子を含む凝集粒子の露出を軽減させた、例えばサセプタとして好適な窒化物複合焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化物セラミックス粉末を焼成する方法において、窒化物セラミックス粉末が媒体と窒化物セラミックス粉末との湿式混合物から媒体が除去されたものであり、媒体がハイドロフルオロカーボン及びハイドロフルオロエーテルの少なくとも一方にアルコールを２〜１０質量％含有させてなるものであることを特徴とする窒化物複合焼結体の製造方法。アルコールが、エタノール、イソプロピルアルコール及びｔ−アミルアルコールから選ばれた少なくとも１種、特にｔ−アミルアルコールであることなどが好ましい。 （もっと読む）

【課題】セラミック材料を研削、研磨することなく製造可能で、かつ前記成形面に離型剤による膜あるいはクロム含有化合物の焼結体を形成することなく、良好な形成を備えた光学素子用成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子を成形するための成形面を備えた光学素子用成形型において、窒化ホウ素、窒化硅素及び窒化アルミニウムより成る群から選択された１種以上およびアルミナゾル、シリカゾルより成る群から選択された１種以上の結合剤を含み、焼結温度以下の温度で焼成して構成される光学素子用成形型。 （もっと読む）

【課題】電気加工が良好に行える範囲の導電性を持ち、かつ主成分である非導電性セラミックスの性質を損なうことのない導電性複合セラミックスを提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３やＺｒＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４などの非導電性セラミックスは、電気加工が不能であるために複雑形状の金型や精密加工用部材として製造ができない。これらの放電加工が困難な主成分を持つセラミックスにＴｉＣ，ＴｉＮ，ＷＣ，ＴａＣ，ＭｏＣ，ＮｂＣ，ＶＣのいずれか一種以上からなる導電性セラミックス粒子を０．５〜１５体積％添加し、導電性を付与することにより、電気加工が可能となる。得られた導電性複合セラミックスは、電気加工が良好に行える範囲の導電性（１×１０^−３(Ω・ｃｍ)）を持ち、かつ主成分である導電性セラミックスの性質を極力損なわないように、導電性粒子の添加量を少なく押さえることが可能である。 （もっと読む）