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Fターム[4G030CA01]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 構造 (2,852) | 結晶相を制御したもの (693)

Fターム[4G030CA01]に分類される特許

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【課題】低電界のみならず高電界印加時にも高い歪率を呈する非鉛系の圧電/電歪焼結体を提供する。
【解決手段】一般式(1){Liy(Na1-xKx)1-y}a(Nb1-z-wTazSbw)O3で表される第1ペロブスカイト型酸化物、Ba、Sr、Ca、La、Ce、Nd、Sm、Dy、Ho及びYbからなる群より選択される一種以上の選択元素の化合物、並びにMnの化合物を含む第1成分、一般式(2){Bat(KpNa1-p)1-t}(ZrtNb1-t)O3で表される第2ペロブスカイト型酸化物である第2成分、並びにZnを主成分として含む第3成分、を含む組成物を焼成して得られる圧電/電歪焼結体であって、前記焼結体における前記第3成分の含有量がZn由来の異相を生じない範囲にあり、かつ前記焼結体において前記a、x、y、z、w、p、及びtが所定の条件を満たす、圧電/電歪焼結体1。 (もっと読む)


【課題】 FePt合金の素地にSiO等の酸化物を含む高密度の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式:(FePt(100−x)(100−y)(SiO、ここで40≦x≦60(単位:モル%)、5≦y≦30(単位:モル%)で表される組成を有する焼結体からなるターゲットであって、その組織が、SiO相と、FeとPtとの固溶体からなるFePt合金相と、SiO相とFePt合金相との界面において、Si、O、FeおよびPtの各元素が相互に拡散することによって形成するSi、O、FeおよびPtを含有する相互拡散相と、で構成されている。 (もっと読む)


【課題】環境負荷が小さく、強誘電体からなる圧電素子を有する液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに圧電材料を提供する。
【解決手段】ノズル開口に連通する圧力発生室と、第1電極と、前記第1電極上に形成された圧電体層と、前記圧電体層上に形成された第2電極とを備えた圧電素子と、を具備し、前記圧電体層は、Bi、La、Fe及びMnを含むペロブスカイト型複合酸化物からなり、強誘電体である液体噴射ヘッドとする。 (もっと読む)


【課題】優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の成膜を可能にする酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲットおよび酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 実質的に亜鉛、チタン、酸素および窒素からなる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であって、該透明導電膜形成材料は、チタンが原子数比でTi/(Zn+Ti)=0.02超0.1以下、窒素とチタンが原子数比でN/Ti=0.1〜0.6となるよう含有されている酸化物混合体または酸化物焼結体であり、前記酸化物混合体が、酸化亜鉛相、低原子価酸化チタン相および窒化チタン相から構成され、前記酸化物焼結体が、酸化亜鉛相、チタン酸亜鉛相、窒化チタン相から構成される。 (もっと読む)


【課題】絶縁性が高くリーク電流の発生を抑制することができ且つ環境負荷の少ない圧電素子を有する液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子並びに圧電材料を提供する。
【解決手段】ノズル開口21に連通する圧力発生室12と、圧電体層70および圧電体層70に設けられた電極60,80を備えた圧電素子300と、を具備し、圧電体層70は、ビスマス、鉄およびセリウムを含むペロブスカイト型複合酸化物であり、圧電体層70は、セリウムを、ビスマスおよびセリウムの総量に対してモル比で0.01以上0.13以下含む液体噴射ヘッドIとする。 (もっと読む)


【課題】環境に優しい液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子を提供する。
【解決手段】ペロブスカイト構造を有する鉄酸マンガン酸ビスマスを主成分とするペロブスカイト型化合物及びSiOを含む圧電材料からなる圧電体層と、前記圧電体層に設けられた電極とを具備する圧電素子を有する液体噴射ヘッドとする。 (もっと読む)


【課題】シート中の残留ポアをより低減することができる固体酸化物形燃料電池用スカンジア安定化ジルコニアシートの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の固体酸化物形燃料電池用スカンジア安定化ジルコニアシートの製造方法は、スカンジア安定化ジルコニア粉末、溶媒およびバインダーを含むスラリー原料を混合してスラリーを調整する工程;得られたスラリーを用いてテープキャスティング法によりシート状に塗工し、乾燥してグリーンシートとする工程;成形されたグリーンシートを焼成する工程;を含み、前記スカンジア安定化ジルコニア粉末として、90体積%径(D90)が0.3μm以上1.0μm以下、50体積%径(D50)と90体積%径との比(D90/D50)が1.2以上2.1以下であるスカンジア安定化ジルコニア粉末を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】環境に優しく且つ比誘電率が高い液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びに圧電素子を提供する。
【解決手段】圧電体層と、前記圧電体層に設けられた電極とを具備する圧電素子を備えた液体噴射ヘッドであって、前記圧電体層は、膜厚が3μm以下であり、鉄酸マンガン酸ビスマス及びチタン酸バリウムを含むペロブスカイト型化合物を含有する圧電材料からなり、(110)面に優先配向している液体噴射ヘッドとする。 (もっと読む)


【課題】光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善するスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。硫化物を含まない酸化錫粉、酸化亜鉛粉、及び3価以上の元素の酸化物粉を混合して800〜1300℃で仮焼し、粉砕、造粒処理を経て加圧成形を行った後、焼結して製造することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。 (もっと読む)


【課題】圧電定数の大きな圧電磁器およびそれを用いた圧電素子の提供。
【解決手段】組成式を(1−α−β){(K1−xNa1−yLi}NbO+αBi(Mg2/3Nb1/3)O+βBa(Mg1/3Nb2/3)Oと表したとき、0.46≦x≦0.56、0.045≦y≦0.060であるとともに、αおよびβを(α、β)と表したとき、αおよびβが、点A(0.0005、0)、点B(0.005、0)、点C(0.005、0.005)、点D(0、0.0125)および点E(0、0.001)を結ぶ範囲内である成分100質量部に対して、MnをMnO換算で0.01〜0.5質量部含有する圧電磁器を用いる。 (もっと読む)


【課題】スパッタリングよる酸化物半導体膜の堆積速度の向上と堆積された酸化物半導体膜のエッチング速度の向上を可能にするターゲットとしての導電性酸化物を提供する。
【解決手段】導電性酸化物は、結晶質InGa2(1−m)Zn1−q7−p(0≦m<1、0≦q<1、0≦p≦3m+q)と結晶質GaZnOとを含む。 (もっと読む)


【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル%で、少なくとも、5〜50%のSiOと、0〜20%のAlと、0〜25%のBと、0〜25%のBaOと、10〜60%のTiOと、5〜35%のREとを構成成分として有する。ここで、Baは部分的にSr、Ca、Mgで置換でき、REはランタニドまたはイットリウムであり、Tiは部分的にZr、Hf、Y、Nb、V、Taで置換できる。 (もっと読む)


【課題】導電性酸化物焼結体に含まれる結晶相の種類や量の制御を容易化し得る導電性酸化物焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】In、GaおよびZnを含む導電性酸化物焼結体を製造する方法は、酸化亜鉛と酸化ガリウムの混合物を調製した後に仮焼することによってGaZnO粉体を形成する工程を含む。この仮焼の後には、GaZnO粉体とInおよびOを含む粉体とを混合または粉砕混合して第2の混合物を調製し、この第2の混合物の成形体を作製し、そしてこの成形体を焼結する工程をさらに含むことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】比較的低い温度での焼成でも安定して焼成可能な大きな結晶粒子を含む圧電磁器およびそれを用いた圧電素子を提供する。
【解決手段】組成式を(1−α){(K1−xNa1−yLi}NbO+αBi(Mg2/3Nb1/3)Oと表したとき、0.46≦x≦0.56、0.03≦y≦0.06、0.0045≦α≦0.0055である成分100質量部に対して、MnをMnO換算で0.0〜0.5質量部含有することを特徴とする圧電磁器1を用いる。 (もっと読む)


【課題】比抵抗が低く、かつ、光の透過率が高い薄膜を形成することができるIn−Ga−Zn系複合酸化物焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本In−Ga−Zn系複合酸化物焼結体は、ZnGa24結晶で形成される第1相と、In23結晶で形成される第2相とを含み、焼結体の任意の断面における全ての相に対する第1相および第2相の合計の相面積比率が70%以上100%以下である。また、本In−Ga−Zn系複合酸化物焼結体の製造方法は、ZnO粉末とGa23粉末とを混合して第1混合物を調製する第1混合工程と、第1混合物を800℃以上1300℃以下で仮焼してZnGa24を含む粉末を形成する仮焼工程と、ZnGa24を含む粉末とIn23粉末とを混合して第2混合物を調製する第2混合工程と、第2混合物を焼結する焼結工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】比較的に高い比誘電率を有し、しかも高温領域を含む広い温度範囲(たとえば、20〜350℃)において容量温度特性が良好である誘電体磁器組成物を提供すること。
【解決手段】一般式a(K1−xNa)NbO−bBaTiOで表される化合物を有し、前記a、bおよびxが、a+b=1、0.62≦a≦0.80、0≦x≦0.56の関係を満足することを特徴とする誘電体磁器組成物。 (もっと読む)


【課題】可視光透過率及び導電性に優れ、安価な透明導電膜を提供する。
【解決手段】一般式M(1−G)(但し、M元素は、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Fe、In、Tl、Sn、のうちから選択される1種類以上の元素、A元素は、Mo、Nb、Ta、のうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0<E≦1.2、0<G≦1、2≦J≦3)で表記される複合酸化物を含み、波長400nm以上780nm以下の領域で透過率の最大値が10%以上92%未満であり、膜の表面抵抗が1.0×1010Ω/□以下である透明導電膜を提供する。 (もっと読む)


【課題】比抵抗が低く、かつ、光の透過率が高い薄膜を形成することができるIGZO焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本In−Ga−Zn系複合酸化物焼結体は、ZnGaO2.5結晶で形成される第1相と、InGaO3結晶で形成される第2相と、In23結晶で形成される第3相とを含み、焼結体の任意の断面における全ての相に対する第1相、第2相および第3相の合計の相面積比率が70%以上100%以下である。本In−Ga−Zn系複合酸化物焼結体の製造方法は、ZnO粉末とGa23粉末とを混合して第1混合物を調製し、第1混合物を1150℃以上1300℃以下で仮焼してZnGaO2.5を含む粉末を形成し、ZnGaO2.5を含む粉末とGa23粉末とIn23粉末とを混合して第2混合物を調製し、第2混合物を焼結する方法である。 (もっと読む)


【課題】ターゲットの導電性酸化物の熱伝導率を向上させることによって、そのターゲットの厚さの増大を可能にして寿命を増大させ、またそのターゲットを用いることによって、スパッタリング堆積された酸化物半導体膜のエッチング速度の向上を可能にする。
【解決手段】導電性酸化物は、結晶質InGa2(1−m)Zn1−q7−p(0≦m<1、0≦q<1、0≦p≦3m+q)と結晶質GaZnOとを含み、粉末X線回折法を適用したときに、最大の回折強度を有するaピークの回折角2θが29.00°以上30.75°以下の範囲内にあり、かつ第2位の回折強度を有するbピークの回折角2θが33.00°以上36.00°以下の範囲内にあり、そしてaピークに対するbピークの回折強度比Ib/Iaが0.1以上1.0以下であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】 優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法は、パルスレーザ堆積法(PLD法)により酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法であって、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなる酸化物焼結体または酸化物混合体を加工してなるターゲットを膜形成材料とし、該膜形成材料中に含まれるチタンと亜鉛との原子数比がTi/(Zn+Ti)=0.02超0.1以下である。 (もっと読む)


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