【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 亜鉛成分を含む結晶相を有し、光触媒活性を有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＺｎＯ成分を１０〜７０％含有してもよく、さらにＳｉＯ_２成分、ＧｅＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、及びＰ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分３０〜８０％を含有してもよい。このガラスセラミックスは、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 （もっと読む）

【課題】アルミナベースの高度に透明セラミックを得る非常に簡単化された製造方法を与える。
【解決手段】
粒子サイズが３００ｎｍよりも細かな、高度に透明なアルミナセラミックを高圧放電焼結によって作成した。印加圧力が５００ＭＰａの場合、９５０℃〜１０００℃という低温で、６０％よりも高い実直線透過率（波長６４５ｎｍ）を持つ高度に透明なアルミナが得られた。高圧を印加することによって、高度に透明で最大限に稠密なアルミナを低温で、かつ大きな粒子成長を伴うことなく得ることができた。 （もっと読む）

【課題】 その形状を保ち得る、グリーン成形体およびそれを用いるチタン酸アルミニウム焼成体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のグリーン成形体は、アルミニウム源粉末およびチタニウム源粉末を含む無機化合物源粉末と、有機バインダと、を含み、有機バインダは、有機バインダの２重量％水溶液の２０℃での粘度が５０００ｍＰａ・ｓ以上となるものである。本発明にかかるチタン酸アルミニウム焼成体の製造方法は、アルミニウム源粉末およびチタニウム源粉末を含む無機化合物源粉末と、有機バインダと、を含む原料混合物を成形してグリーン成形体を得、得られたグリーン成形体を１５０〜９００℃に加熱して有機バインダを除去し、有機バインダが除去されたグリーン成形体を１３００℃以上で焼成する工程を備え、有機バインダは、有機バインダの２重量％水溶液の２０℃での粘度が５０００ｍＰａ・ｓ以上となる。 （もっと読む）

【課題】酸化マグネシウム又は酸化ゲルマニウムと酸化ビスマスとを主成分とする光メディアの記録層を高速成膜できる、耐電力特性の高いスパッタリングターゲット及び製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム又は酸化ゲルマニウムを主成分とするマトリクス、及び、前記マトリクス中に分散した酸化ビスマス粒子を備え、充填率が高い成形法と粒成長抑制効果のある昇温速度と温度で焼成した、酸化ビスマス粒子の平均粒径が０．２〜０．７μｍであるスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】多孔質体の焼結過程を最初から最後まで正確にシミュレーションすることができるシミュレーション方法を提供する。
【解決手段】シミュレーション装置１は、各面の四方が円柱で囲まれた立方体の形状を有するユニットセルの集合体を多孔質体のモデルとして仮定したＳｃｈｅｒｅｒモデル、またはＭ−Ｓモデルを用いて、多孔質体の焼結速度を算出し、算出した焼結速度に基づいて、塑性変形の項、焼結収縮の項、および自重の項を含む有限要素方程式の解を算出し、算出した有限要素方程式の解に基づいて、多孔質体の変化量を算出することを所定の計算時間刻みによって所定の終了条件を満たすまで繰り返す。 （もっと読む）

技術的セラミック製造のための粉砕予備混合物、およびそれから製造されたセラミック体であって、予備混合物はセルロース系成分およびアルミナ源からなり、セラミック体は、粉末無機成分を含む粉砕された予備混合物をバッチ混合物に配合し、このバッチ混合物に液体を加えて、可塑性バッチを形成し、可塑性バッチを成形体に形成し、成形体を加熱して、セラミック体を形成することによって、形成される。
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【課題】耐食性、耐スポーリング性に優れ、十分な耐久性を有するマグネシア質耐火物を提供する。
【解決手段】マグネシア６０〜９０重量％、ジルコニア５〜２０重量％、アルミナ５〜２０重量％からなる配合物を焼成してなるマグネシア質耐火物。 （もっと読む）

本発明は、負の熱膨張率および酸化物セラミック粒子を有することを特徴とする、セラミック成分を含む複合材料、およびその獲得プロセス、およびマイクロエレクトロニクス、精密光学部品、航空学、航空宇宙産業におけるその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】大型の成形体を電磁波加熱による透明導電膜用焼結体の製造方法において焼成割れを防止し、高密度な品質の安定した製品を容易に製造可能な電磁波加熱用の原料粉末を提供する。
【解決手段】電磁波加熱によって焼結する透明導電膜用焼結体の製造において、比表面積が５ｍ^２／ｇ以上、１５ｍ^２／ｇ未満であり、かつ、周波数２．４５ＧＨｚでの誘電損率が０．５以上である原料粉末を使用することにより、焼成割れが低減され、歩留まり良く高密度な透明導電膜用焼結体を製造することができる。この透明導電膜用焼結体の原料粉末を用いることで、焼成割れの発生を抑制し、歩留り良く、透明導電膜用焼結体を製造することができる。 （もっと読む）

固体酸化物セラミックは、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、チタン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＴ）、マンガン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＭ）および酸化ニッケル−ＹＳＺ複合材料からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、１つの表面を画定する基板を含む。固体酸化物セラミックはさらに、表面の少なくとも一部分をコーティングし、サンボルナイト（ＢａＯ・２ＳｉＯ_２）結晶相、ヘキサセルシアン（ＢａＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２）結晶相および残留ガラス相を含み、前記表面において基板の熱膨張係数以下の熱膨張係数を有するシールを含む。ガラス組成物のガラス結晶化温度とガラス転移温度の差は、約２０℃／分の加熱速度で約２００℃〜約４００℃の範囲内であり得る。
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本発明は、負の熱膨張係数を有することを特徴とするセラミック成分と、カーボンナノフィラメントとを含む複合材料、複合材料の生成工程、および複合材料の、マイクロエレクトロニクス、精密工学部品、航空学、および航空宇宙産業における導電体としての利用に関する。 （もっと読む）

コージエライト主相を有する多孔質セラミック材料であって、２０ＭＰａ超の正規化強度を示す多孔質セラミック材料が開示されている。コージエライト主相は網状微小構造を有する。コージエライト主相を有する多孔質セラミック体を形成する方法において、マグネシア源、シリカ源、およびアルミナ源を含む無機セラミック形成成分の可塑化混合物から物体を形成する工程であって、アルミナ源はアルミナ含有細長粒子を含み、アルミナ含有細長粒子の少なくとも９０質量％が５０から１５０μｍの長さを有する工程、およびその物体を焼成する工程を有してなる方法が提供される。
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【課題】結晶性の良い複合酸化物を経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】バリウム、ストロンチウム、カルシウム、マグネシウム及び鉛からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物と、チタン、ジルコニア及び錫からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物とを混合して焼成温度まで加熱し、焼成し、降温して複合酸化物を製造する複合酸化物の製造方法において、前記降温工程における降温速度を３℃／分以上、４００℃／分以下に調整する。降温は好ましくは炉内に気体を導入して行う。 （もっと読む）

【課題】イオン化チューブ及びこれを備えるイオン化生成装置の提供。
【解決手段】本発明のイオン化生成チューブは、中空のチューブ構造を有するものであって、チューブはセラミック及び放射性物質の混合によって形成され、放射性物質はチューブの長さ方向全体にわたって分布する。よって、本発明に係るイオン化生成チューブは、アルファ粒子が放出される面積を増加させることができるため、イオン化率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】比表面積が大きく、かつ、かかる気孔が連通気孔で構成される多孔体を容易に製造することができる多孔体の製造方法、かかる多孔体の製造方法により製造された多孔体を提供すること。
【解決手段】本発明の多孔体の製造方法は、セラミックス材料の一次粒子が分散したスラリーを得るとともに、前記一次粒子が造粒したセラミックス材料の二次粒子を得る工程と、前記スラリーに前記二次粒子を添加した後、当該スラリーを加熱することにより、前記二次粒子同士を、前記一次粒子を介して固着させることにより多孔体を得る工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】より強度の高い、透明基板などの透光性構造体を形成する材料としての透光性スピネルセラミックス、および当該透光性スピネルセラミックスを用いた透光性スピネルセラミックス構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】透光性スピネルセラミックス構造体を形成するための透光性スピネルセラミックス２０は、スピネル粒子と、α型アルミナ粒子２２とを備えており、スピネル粒子中に、ＴｉＯ_２、Ｐ_２Ｏ_５からなる群から選択される少なくとも１種をさらに含む。透光性スピネルセラミックス２０におけるα型アルミナ粒子は、スピネル粒子とα型アルミナ粒子２２との質量の和の３ｍｏｌ％以上５０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】抵抗率が低く、光透過性に優れる複合酸化物結晶質膜を提供すること。
【解決手段】主として、インジウム、ストロンチウム及び酸素から構成される複合酸化物焼結体であって、上記複合酸化物焼結体中のインジウム、ストロンチウム及び錫の総原子数に対する、錫及びストロンチウムの原子数の比が、それぞれ０〜０．３及び０．０００１〜０．０５であり、相対密度が９７％以上であり、平均粒径が７μｍ以下である、複合酸化物焼結体。 （もっと読む）

本発明は、亜酸化ホウ素と二次相を含む亜酸化ホウ素複合材料であって、二次相が金、銀及び銅並びにこれらの金属の１種以上を基礎とするか又は含有する合金の群から選択される金属を含有する亜酸化ホウ素複合材料を提供する。さらに、金属又は合金は、該材料中に約２０体積％未満、好ましくは約６体積％未満の量で存在する。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、トライボロジー向上成分を含む硬質非酸化物又は酸化物セラミック複合体部分に直接結合し且つこの部分と異なる、理論密度が少なくとも９５％の、少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック部分を含むハイブリッド物品を包含する。少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック部分は、炭化ケイ素、常圧焼結炭化ケイ素、液相焼結炭化ケイ素、反応焼結炭化ケイ素、炭化タングステン、酸化アルミニウム、及び窒化ケイ素からなる群の１つを含む。少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック複合体部分は、炭化ケイ素、常圧焼結炭化ケイ素、液相焼結炭化ケイ素、反応焼結炭化ケイ素、炭化タングステン、酸化アルミニウム、及び窒化ケイ素からなる群の１つを含む。いくつかの実施形態において、ハイブリッド物品は、理論密度が少なくとも９５％の、少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック体を調製すること；トライボロジー向上成分を含む、少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック複合体を調製すること；これらの体（セラミック体及びセラミック複合体）をお互いに接触させて配置し、ハイブリッド物品を形成すること；並びにハイブリッド物品を処理し、これらの体（セラミック体及びセラミック複合体）を直接結合させることによって形成される。いくつかの実施形態において、ハイブリッド物品の処理は、熱間等静圧圧縮成形、常圧焼結、液相焼結又は反応焼結を含んでもよい。
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【課題】シリコン半導体および化合物半導体などを製造する装置内で高い耐プラズマ性を要求される部品に好適なフッ化物焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】高純度CaF₂粉末に高純度MgF₂粉末を１〜５wt.％混合し、さらに焼結助剤を０．１〜１wt.％添加して混合する工程、金型及びプレス成形機を用いてプレス圧０．２MPa/cm²以上で成形する工程、その成形品を大気雰囲気中で６００〜７００℃に加熱して仮焼結を行う工程、大気雰囲気中で１２５０〜１３７０℃の温度範囲で６〜１２時間加熱して緻密な構造のCaF₂−MgF₂二元系焼結体を形成する工程、を含むフッ化物焼結体の製造方法とする。 （もっと読む）