【課題】粉粒体材料を媒体流動層によって熱処理する方法であって、滞留時間一定のバッチ型熱処理の長所を生かしつつ、そのバッチ処理を連続操業するものであり、粉粒体材料をそのまま投入・回収でき、バッチ処理の長所を持ったまま焼成等の熱処理を可能とし、特に発泡セラミックス粒子の製造に好適な熱処理炉を提供する。
【解決手段】粉粒体材料を反応室内の媒体流動層に導入し、その処理対象粉粒体６を飛散させず、かつ、融着・凝集させない範囲の気流を付与して、適切な流動化状態にした上で、一定時間反応室内に滞留させて熱処理した後、気流を増加させて熱処理粒子をその増加した気流に同伴させて媒体流動層外に排出させ、流動層後段に設置した分離装置４により熱処理粒子を気流と分離して回収する熱処理粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低密度で良好な空気透過性を有しながら、低温焼結性を確保でき、小型・高性能のガラスセラミック多層基板製造に不可欠な積層性と低温焼結性を両立できるガラスセラミックグリーンシートおよび小型・高性能のガラスセラミック多層基板を実現できるガラスセラミック多層基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために、本発明は、セラミック粉体３０１とガラス粉体３０２を含むガラスセラミック粉体と、有機バインダーとを少なくとも含むセラミックグリーンシートにおいて、上記ガラスセラミック粉体が上記ガラス粉体３０２のガラス転移温度以上、かつ、軟化点未満の温度で熱処理された粉体であることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】環境に優しく、圧電特性に優れた新規な圧電材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電材料は，下記一般式（１）で表される。
(Ｂｉ_１−ｘＬａ_ｘ)（Ｆｅ_１−ｙ（Ｃｏ_２／３Ｎｂ_１／３）_ｙ）Ｏ_３ ・・・（１）
但し、０＜ｘ＜１であり，０＜ｙ＜１である。 （もっと読む）

【課題】可視光線の直線透過率が高く、十分な機械的強度を有する多結晶Ａｌ₂Ｏ₃焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の多結晶Ａｌ₂Ｏ₃焼結体は、平均粒径が１μｍ以下であり、相対密度が９９．９％以上で、平均気孔径が０．３μｍ以下であることを特徴とする。かかる焼結体の中でも、不純物量が１０００ｐｐｍ以下である焼結体、波長０．５μｍ〜１μｍの光線による直線透過率が７５％以上である焼結体、３点曲げ強度が８００ＭＰａ以上である焼結体、またはビッカース硬度が１９ＧＰａ以上である焼結体が好ましい。 （もっと読む）

【課題】高電導かつ低熱膨張の材料を提供しようとし、また、従来の陶磁器材と一体的に複合が可能な高電導かつ低熱膨張の材料を提供しようとする。
【解決手段】βユークリプタイト、焼成によりβユークリプタイトとなる組成物、から選択される被焼成成分、融材およびＮｉを主成分とする焼成前駆体が焼成されてなり、焼成された焼成物中の、塩基性成分とＡｌ２Ｏ３とのモル比が３：７〜３：１であるＮｉセラミック複合体である。また、焼成されて陶磁器材となる陶磁器焼成用前駆体と、前記Ｎｉセラミック複合体の焼成に用いられる前記焼成前駆体とが複合された被焼成物を焼成してなり、陶磁器材と前記Ｎｉセラミック複合体とが、互いの境界面で焼結状態で結合して複合されてなる複合陶磁器である。
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【課題】直径又は外接円の直径が５０ｍｍ以上の円又は多角形を形成する面を有する大型セラミックス焼結体、及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】セラミックスの最終寸法・形状における円又は多角形を形成する面が３０ｍｍ以上のサイズを有する大型セラミックスであって、セラミックス顆粒の乾式加圧成形体を焼結した焼結体であること、少なくとも円又は多角形を形成する面に、焼成後研磨及び／又は研削加工を施すことなく、目的とする最終寸法・形状となっていること、前記円又は多角形を形成する面における平坦度が５０μｍ以下であること、を特徴とするセラミックス焼結体、その製造方法、及び大型セラミックス部材。
【効果】焼結後の研削加工や研磨加工を行わずに、目的とする最終寸法・形状を有する大型セラミックス焼結体を製造し、提供することができる。 （もっと読む）

本発明は、ガラスセラミック材料、その製造プロセスおよびそれを含む物品に関する。本発明のガラスセラミック材料は、全組成の質量で表して、５５〜６８％のＳｉＯ₂、１８〜２４％のＡｌ₂Ｏ₃、３．３〜４．１％のＬｉ₂Ｏ、１．５〜４．０％のＺｎＯ、１．５〜５．０％のＭｇＯ、２〜５％のＴｉＯ₂、０〜２％のＺｒＯ₂、０〜５％のＢ₂Ｏ₃、０〜８％のＰ₂Ｏ₅、０〜２％のＮａ₂Ｏ、０〜２％のＫ₂Ｏ、および効果的な量の少なくとも１種類の清澄剤から生じる少なくとも１種類の成分を含む組成であって、Ｂ₂Ｏ₃およびＰ₂Ｏ₅の合計が少なくとも１．５質量％であり、ＭｇＯおよびＺｎＯの合計が少なくとも約３．５質量％であり、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約３．０質量％未満であり、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約１１質量％未満であり、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏの総計のＰ₂Ｏ₅＋Ｂ₂Ｏ₃の総計に対する質量比（（Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ）／（Ｐ₂Ｏ₅＋Ｂ₂Ｏ₃））が約０．５未満であり、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約９質量％未満でありかつＮａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約２質量％未満であることが好ましく、Ｐ₂Ｏ₅、Ｂ₂Ｏ₃、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約７質量％未満でありかつＮａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計が約１質量％未満であることがより好ましい組成を有する。このガラスセラミック材料は、主結晶相としてβスポジュメン固溶体を含む。ある実施の形態において、本発明のガラスセラミック材料は、Ａｓ₂Ｏ₃およびＳｂ₂Ｏ₃を実質的に含まず、約０．３〜１．２質量％のＳｎＯ₂および０〜１質量％のＣｅＯ₂を含む。本発明のガラスセラミック材料のための前駆体ガラスは、約１６００℃未満で溶融し、比較的低温で比較的短期間に亘りβスポジュメンガラスセラミックにセラミック化できる。このガラスセラミック材料は、レンジ台上面プレートおよび調理器具の製造に使用するのに特に有利である。 （もっと読む）

【課題】使用効率が高く、長寿命で、スパッタリング条件の経時変化の小さいＩＴＯスパッタリングターゲット材およびＩＴＯスパッタリングターゲット、ならびにこれらに用いるのに好適なＩＴＯ焼結体を提供する。
【解決手段】式 −30 ≦ 100×（Av1−Av2）／Av1 ≦ 30の関係を満たすＩＴＯ焼結体；式中、Av1は該焼結体中央部に存在するＩｎ₂Ｏ₃母相粒内の微細粒子の最大径の平均値(nm)を、Av2は該焼結体端部に存在するＩｎ₂Ｏ₃母相粒内の微細粒子の最大径の平均値(nm)を表す。 （もっと読む）

【課題】相変化記録媒体の界面層膜の成膜等に用いられるスパッタリングターゲットの製造方法において、均質で歩留まりの良いターゲットを得るための製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｔｉ，ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種のＭ元素の酸化物粉末とＭ元素の窒化物粉末を混合、成形した後、焼結する工程を具備することにより、スパッタリングターゲットは、Ｍ（Ｏ_1-xＮ_x）_z（ＭはＴｉ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも1種の元素、0＜ｘ≦0.7、0.5≦ｚ≦2.0（原子比））、または（Ｍ_1-aＣｒ_a）（Ｏ_1-xＮ_x）_z（ＭはＴｉ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも1種の元素、0.1≦ａ≦0.5、0＜ｘ≦0.7、0.5≦ｚ≦2.0（原子比））で表される組成を有する。 （もっと読む）

【課題】熱電変換材料として有用な、低熱伝導率及び高導電率の特性を兼備したアルミニウム含有酸化亜鉛焼結体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一般組成式：Ｚｎ_１−ｙＡｌ_ｘＯ_１＋δ 〔但し、０＜ｘ≦０．０３５、０≦ｙ≦ｘ、１＋δは酸素原子数を示す〕で示されるアルミニウム含有酸化亜鉛焼結体であって、相対密度が７０〜９０％（８０〜９０％）の場合に、２０℃における導電率が２５０Ｓ／ｃｍ以上（５００Ｓ／ｃｍ以上）である、アルミニウム含有酸化亜鉛焼結体、並びに、特定の工程を有する、アルミニウム含有酸化亜鉛焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来のポリマー製光学部品に代替可能なセラミックス光学部品を提供する。
【解決手段】黒色を呈する光学部材用セラミックス材料であって、セラミックス原料と黒色化を促す成分を含む混合物の成形体を反応焼結を利用して合成した反応焼結セラミックス焼結体からなり、多孔質体であり、可視光域での反射率が２０％以下であり、上記セラミックスの表面が未加工の焼成面である、ことを特徴とするセラミックス材料、その製造方法、及びセラミックス光学部品。
【効果】本発明によれば、可視光域での反射が小さく、焼成のみで、精度よく光学部品として使用可能な光学部材用セラミックス材料、及び低環境負荷型のセラミックス光学部品を製造し、提供することができる。 （もっと読む）

【課題】セラミックス素地成形体または焼成体にクラックを発生させることなく乾燥または冷却でき、かつ製造時間を短縮することができると共に、製造コストを低減できるセラミックスの製造方法およびセラミックス焼成炉を提供する。
【解決手段】セラミックス原料を用いて成形する成形工程と、成形体を乾燥する乾燥工程と、乾燥した成形体を焼成する焼成工程と、焼成体を冷却する冷却工程とを経て製造されるセラミックスの製造方法であって、前記乾燥工程または／および冷却工程では、常圧過熱水蒸気を用いて、成形体を乾燥または焼成体を冷却させることを特徴とするセラミックスの製造方法である。また、本発明のセラミックス焼成炉１は、セラミックス原料を用いて成形された成形体を乾燥するための常圧過熱水蒸気発生手段２、または／および焼成体を冷却するための常圧過熱水蒸気発生手段２を備えている。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波加熱によるセラミックス焼結体の製造に使用するための鋳込み型、及び該鋳込み型を使用したセラミックス焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロ波を吸収しやすいセラミックス材料からなるマイクロ波加熱用鋳込み型、及び該鋳込み型を使用して、原料セラミックスから成形体を成形した後、離型することなく、乾燥から焼結までの一連の加熱工程をマイクロ波加熱により行うセラミックス焼結体の製造方法。
【効果】セラミックス材料の成形、乾燥、脱脂、及び焼成工程を、鋳込み型から成形体を離型することなく一貫して行うことが可能なセラミックス焼結体の新規製造技術を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 高強度で細孔容積が大きいαアルミナ成形体を、押出し成形や射出成形等によって形成される複雑な形状であっても容易に得ることができるαアルミナ成形体の製造方法と、該製造方法によって得られるαアルミナ成形体とを提供する。
【解決手段】
本発明のαアルミナ成形体の製造方法は、少なくとも部分的に再水和性を有するアルミナ粉に表面を再水和抑制剤で被覆する処理を施した後、成形助剤および水と混合して成形し、次いで、得られた成形体を３００〜５００℃の温度で予備焼成し、該予備焼成した成形体を湿潤雰囲気中または水中に保持して再水和させ、該再水和させた成形体を焼成する。本発明のαアルミナ成形体は、押出し成形または射出成形によって成形されたαアルミナ成形体であり、細孔容積が０．３０ｃｍ^３／ｇ以上、かつ、耐圧強度が３５ｄａＮ／ｃｍ^２以上である。 （もっと読む）

【課題】近紫外域において高い光透過率を有する酸化物膜、また該酸化物膜を得るために必要なスパッタリングターゲットに用いることが可能な酸化物焼結体、さらには、得られた酸化物膜を含む透明基材を提供すること。
【解決手段】酸化物焼結体は、主としてガリウム、インジウム、および酸素からなり、前記ガリウムを全金属元素に対して６５原子％を超えて１００原子％未満含有し、その密度は５．０ｇ／ｃｍ³以上である。酸化物膜は、光透過率が５０％を示す最短波長が３２０ｎｍ以下である。透明基材は、ガラス板、石英板、片面若しくは両面がガスバリア膜で覆われている樹脂板若しくは樹脂フィルム、又は、内部にガスバリア膜が挿入されている樹脂板若しくは樹脂フィルムから選ばれた透明基板の片面若しくは両面に、前記酸化物膜を形成することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】物性の優れたＩＴＯ膜をより一層向上した歩留りで成膜できるＩＴＯスパッタリングターゲット材およびＩＴＯスパッタリングターゲット、ならびにこれらに好適なＩＴＯ焼結体を提供する。
【解決手段】主結晶粒であるＩｎ₂Ｏ₃母相内に存在する微細粒子の最大径の平均値が０．２μｍ未満であるＩＴＯ焼結体、あるいは、主結晶粒であるＩｎ₂Ｏ₃母相の粒界からの微細粒子フリーゾーンの幅の平均値が０．３μｍ未満であるＩＴＯ焼結体、あるいは、主結晶粒であるＩｎ₂Ｏ₃母相内に存在する微細粒子の最大径の平均値が０．２μｍ未満であり、かつ、該Ｉｎ₂Ｏ₃母相の粒界からの微細粒子フリーゾーンの幅の平均値が０．３μｍ未満であるＩＴＯ焼結体。 （もっと読む）

【課題】環境に優しく、圧電特性に優れた新規な圧電材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電材料は，下記一般式（１）で表される。
（(Ｋ，Ｎａ)_２／３Ｂｉ_１／３）（Ｓｎ_２／３Ｎｂ_１／３）Ｏ_３ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】環境に優しく、圧電特性に優れた新規な圧電材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電材料は，下記一般式（１）で表される。
（(Ｋ，Ｎａ)_１／２Ｂｉ_１／２）（Ｍｇ_１／３Ｎｂ_２／３）Ｏ_３ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】環境に優しく、圧電特性に優れた新規な圧電材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電材料は，下記一般式（１）で表される。
（(Ｋ，Ｎａ)_１／２Ｂｉ_１／２）（Ｚｎ_１／３Ｎｂ_２／３）Ｏ_３ ・・・（１） （もっと読む）

【課題】環境に優しく、圧電特性に優れた新規な圧電材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電材料は，下記一般式（１）で表される。
（(Ｋ，Ｎａ)_１／２Ｂｉ_１／２）（Ｉｎ_１／２Ｎｂ_１／２）Ｏ_３ ・・・（１） （もっと読む）