【課題】ガラス製光学素子において、表面の薄膜を形成する場合に薄膜密着性および薄膜の反射率特性に優れ、効率よく製造することができるようにする。
【解決手段】フッ素およびリンを含有するガラス材料を加工したレンズ本体１ｃを有するレンズ１であって、レンズ本体１ｃは、ガラス材料の組成と同じ組成を有する基体部１Ｂと、基体部１Ｂの少なくとも一部の表面に層状に形成され、フッ素元素の含有率が基体部１Ｂの組成におけるフッ素元素の含有比率を下回ることなく変化して最外面で最大となる勾配を有するフッ素濃度勾配層部１Ｆと、を備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】入射角の変化による色調変化を抑制することができる光学体を提供する。
【解決手段】光学体は、高屈折率層と金属層とが交互に積層された５層構成の波長選択反射層を有する。高屈折率層全体の光学膜厚ｄ_aに対する金属層全体の光学膜厚ｄ_bの比率αと、第１の光学層側および第２の光学層側のいずれか一方から見て、１層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ₁に対する３層目の高屈折率層の光学膜厚ｄ₃の比率β（＝ｄ₃／ｄ₁）とが所定の領域内に含まれるようにする。 （もっと読む）

【課題】常温にて施工可能で、防汚機能と光透過率とを同時に向上させることができる塗布液及び基板を提供する。
【解決手段】帯電防止材料と、低屈折材料と、親水性材料と、溶媒とを混合した塗布液である。帯電防止材料としては酸化スズ（ＳｎＯ₂）の分散液を用いる。低屈折材料としてはシリカ（ＳｉＯ₂）の分散液を用いる。親水性材料としてはシリカの分散液を用いる。溶媒としてはアルコールを用いる。酸化スズの平均粒径は２ｎｍ以下とする。低屈折材料としてのシリカの平均粒径は１０ｎｍ以下とする。親水性材料としてのシリカはアモルファスシリカであって、その平均粒径は２ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】基板表面を加工する際に、裏面には加工が施されない基板表面処理方法を提供する。
【解決手段】真空容器内の基板ステージに基板を載置する基板載置工程と、真空容器内を排気する排気工程と、基板ステージの基板保持面側から不活性ガスを供給する不活性ガス供給工程と、真空容器内に処理ガスを供給してエッチングするエッチング工程と、エッチングの終了後に不活性ガスの供給を停止する不活性ガス供給停止工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い反射防止性能を有し、かつ防眩性にも優れた太陽電池用積層カバー基板及び太陽電池、並びに太陽電池用積層カバー基板の製造方法を提供する。
【解決手段】透光基材の片面及び／または両面に、屈折率が１．０５〜１．３である積層膜が積層された太陽電池用積層カバー基板であって、受光面側の中心線平均表面粗さＲａを０．１μｍ〜１０μｍとし、かつ表面粗さの最大高さＲｍａｘを０．１μｍ〜５０μｍとする。 （もっと読む）

【課題】偏光ガラスの偏光軸が異なる場合に、偏光ガラスに目印の傷などをつけることなくこれを簡単に見分けられるようにする。
【解決手段】偏光ガラス表面の可視光領域における分光反射率曲線を、この偏光ガラスの偏光軸の方向に応じてそれぞれ異なるように構成したことにより、この偏光ガラスに光を当てて目視したときに、偏光軸に対応して互いにその色あいが異なるようにみえるようにすることによって、この色合いの違いにより偏光軸の違いを区別できるようにした。 （もっと読む）

【課題】ハフニウムおよび／もしくはジルコニウムオキシヒドロキシ化合物を備える薄膜または積層構造体を有する装置およびかかる装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ハフニウムおよびジルコニウム化合物は、通常ランタンのような他の金属でドープすることができる。電子装置またはそれを作製し得る構成材の例には、限定することなく、絶縁体、トランジスタおよびコンデンサがある。ポジ型もしくはネガ型レジストまたは装置の機能的構成材としての材料を用いて装置をパターン化する方法、例えば、インプリントリソグラフィー用のマスタープレートを作製することができ、腐食バリアを有する装置の製造方法の実施形態。光学基板およびコーティングを備える光学的装置の実施形態であり、電子顕微鏡を用いて寸法を正確に測定する物理的ルーラーの実施形態。 （もっと読む）

【課題】外部の機械的影響から保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えている改善されたガラスセラミックを提供する。
【解決手段】外部の機械的影響に対して保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えているガラスセラミックであって、その際、− 硬質材料層が、並んで存在しており、かつ互いに混合されている少なくとも２つの相を含有し、− 少なくとも１つのナノ結晶相及び１つの非晶相が存在し、− 硬質材料層が、少なくとも２６ＧＰａの強度及び少なくとも０．５μｍの層厚を有し、− 硬質材料層が、２００℃〜１０００℃の温度範囲内で耐化学薬品性であり、かつ− ガラスセラミックの熱膨張係数αが、硬質材料層の熱膨張係数αから^＋／₋２０％を超えて相違しないガラスセラミックによって解決される。 （もっと読む）

【課題】光散乱機能および反射抑制機能の双方の向上に適した凹凸を有するガラス面を備えたガラス板を提供する。
【解決手段】光入射面となるガラス面１１を備えたガラス板１であって、このガラス面１１が、径が２０ｎｍ〜２５０ｎｍである微小凸部３１を有するとともに、０．０８μｍ〜０．８μｍの算術平均粗さＲａ、０．３μｍ〜７．０μｍの最大高さＲｙ、および０．３μｍ〜１０．０μｍの平均間隔Ｓｍにより示される凹凸２０を有する、ガラス板１を提供する。このガラス板の表面凹凸２０，３０は、フッ酸とフッ化カリウムなどのフッ化物塩とを含むエッチング液を用いたエッチング処理により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 高強度かつ低反射かつ高透過率を有する光学部材を提供する。
【解決手段】 透明基材と、透明基材の上に配置された、スピノーダル型の孔を有する多孔質ガラス層と、を有し、波長領域４５０ｎｍ以上６５０ｎｍ以下で５０％以上の透過率を有するように、多孔質ガラス層に形成された孔の平均孔径または多孔質ガラス層の骨格の平均骨格径が設定されていることを特徴とする光学部材。 （もっと読む）

【課題】表面処理剤フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シランを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒｆは１価又は２価のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー残基であり、Ｚは独立にシロキサン結合を有してもよい２〜６価の基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に加水分解性基であり、ａは独立に２〜５の整数、ｂは独立に２又は３、ｙは単位毎に独立に１〜５の整数であり、αは１〜５の整数、βは１又は２である。）で表されるフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性シラン。 （もっと読む）

【課題】ソーダガラス基板、無アルカリガラス基板、又はアルミノケイ酸ガラス基板の表面を防眩化（アンチグレア化）するための表面処理液及び当該表面処理液を用いた防眩化ガラス基板の製造方法の提供。
【解決手段】表面処理液は、ソーダガラス基板、無アルカリガラス基板、又はアルミノケイ酸ガラス基板の表面を防眩化するために用いられ、下記式（ａ）〜（ｄ）で示される直線によって囲まれる濃度割合でＨＦとＨ_２ＳＯ_４とを含有する。（ａ）Ｘ＝０．５（ｂ）Ｘ＝１２（ｃ）Ｙ＝７５（ｄ）Ｙ＝２Ｘ＋８７上記式（ａ）〜（ｄ）において、ＸはＨＦの濃度（重量％）であり、ＹはＨ_２ＳＯ_４の濃度（重量％）である。ただし、上記式（ａ）〜（ｄ）で示される直線によって囲まれる濃度割合のうち、Ｘ＋Ｙ≧１００となる濃度割合を除く。 （もっと読む）

【課題】外部からの摩擦によって微細構造が摩耗及び損傷し難い耐摩耗性微細構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の微細構造体（１）は、骨格中に金属元素を含む熱硬化性樹脂から形成され、かつ、表面に複数の微細突起（１１）を有する微細凹凸部材（２）を備える。そして、微細凹凸部材（２）の表面から内部にかけて、金属元素の密度が減少する。 （もっと読む）

【課題】より高い屈折率のレンズにおいても、内面反射を低減させる。
【解決手段】酸化チタン及び酸化ニオブの少なくとも一方のナノ粒子とカーボンブラックを含有する光学素子用内面反射防止塗料４を提供する。 （もっと読む）

【課題】スプレー法を用いて希釈な被膜形成用組成物（固形分濃度が０．５％未満）を被膜形成面に大容量塗布する（３０ｍｌ／ｍ^２以上）場合において、被膜形成用組成物および被膜形成面であるガラス表面の状態を評価し、ムラのない被膜が形成できるのかを迅速簡便に判断する方法を提供する。
【解決手段】被膜形成用組成物の滴下法による空気に対する表面張力をＳ（ｍＮ／ｍ）、ガラス表面に対する純水の接触角をθ（°）とした場合に、０＜θ≦１０および０≦Ｓ≦−θ＋４５の不等式を満たす場合に、均一な被膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】長期間に亘って基体表面におけるアルカリ金属の溶出を防止乃至低減でき、それによって、基体表面におけるアルカリ金属化合物の形成を抑制して、透明感等の審美性を維持することが可能であり、また、可視光透過率の低下を抑制若しくは可視光透過率を向上することができ、更に、ディスプレイ等の光学・電子機器に使用されても電子制御性に影響を与えない基体を低コストで提供すること
【解決手段】アルカリ金属を含有する基体の表面上又は表面層中に
正電荷物質、又は、正電荷物質及び負電荷物質を配置することを特徴とする、
基体表面におけるアルカリ金属の溶出防止又は低減方法 （もっと読む）

【課題】露光装置のマスクステージにチャックした後のマスク基板の平坦度をシミュレーションする必要がなく、しかも露光装置のチャック構造によらず、チャック後の所望の平坦度を実現すること。
【解決手段】本発明のマスクブランク用基板は、露光装置のマスクステージにチャックされるフォトマスクのマスクブランク用基板であって、転写パターンを形成する薄膜を設ける側の主表面が、中央部を含む１４２ｍｍ角内の領域における平坦度が０．３μｍ以下、かつ、中央部で相対的に高く、周縁部で相対的に低くなる凸形状であり、仮想基準基板の１３２ｍｍ角内の領域で真球の球面形状である仮想基準主表面を、前記主表面に対してフィッティングを行ったときの差が４０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射防止性と防曇性に優れる反射防止膜を提供すること。
【解決手段】基板上に、光学膜厚が０．３８λ_０〜０．５５λ_０（λ_０は設計波長）の高屈折率層、及び光学膜厚が０．２０λ_０〜０．２８λ_０（λ_０は設計波長）の低屈折率層をこの順に有し、可視域の反射率が１％以下である反射防止膜であって、低屈折率層が、高屈折率層側から、無機化合物を含む無機化合物層と、特定の親水性ポリマーを含む組成物を硬化させたポリマー層とをこの順に有する親水性反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】反射防止層の耐摩耗性を改良したコーティングされた基板とそのコーティング方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一面に、多層反射防止コーティング５を有し、その多層反射防止コーティング５は、より高い屈折率を有する層５１，５３とより低い屈折率を有する層５２，５４とが交互になっている、異なる屈折率を有する複数の層から形成されており、その際、より低い屈折率を有する層５２，５４は、アルミニウム分を有する酸化ケイ素から形成されており、ケイ素に対するアルミニウムの物質量の比は、０．０５より大きく、好ましくは０．０８より大きいが、ケイ素の物質量は、アルミニウムの物質量に比べて多く、その際、より高い屈折率を有する層５１，５３は、ケイ化物、酸化物または窒化物を含有している。 （もっと読む）