【課題】被搬送物の位置ずれを効率良く補正することができる搬送車を提供する。
【解決手段】搬送車１は、走行台車３と、ターンテーブル９と、カセットＷ載置すると共に、所定の伸縮方向に沿って伸縮してカセットＷを出し入れする移載装置１１と、移載装置１１にカセットＷが載置されたときに、伸縮方向におけるカセットＷの第１位置を検出する第１位置検出センサ１３と、移載装置１１にカセットＷが載置されたときに、伸縮方向に水平面で直交する方向におけるカセットＷの第２位置を検出する第３位置検出センサ１７と、移載装置１１がカセットＷを取り込んでからカセットＷの移送先に到達するまでに、カセットＷの位置ずれの補正量を算出し、補正量を加味した走行台車３の移動量、ターンテーブル９の回転量及び移載装置１の伸張量を設定するコントローラ１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】セラミックス等の脆性部材で構成された基板保持部材を備えた基板搬送装置において、破損した場合に破片の飛散を抑えること。
【解決手段】多関節アームの最上段の基板保持部材２の基体としてセラミックスからなるフォーク状の板状体を用いる。この板状体の周縁に沿って板状体の中に埋設した状態で延性部材である金属線５を配置する。また板状体の裏面側に延性部材である樹脂フィルムを貼着するようにしてもよい。このような構成では、基板保持部材が構造物に衝突し破損した場合にも、金属線によって破片を繋ぎ止めることで、破片の飛散防止あるいは抑制をすることができる。 （もっと読む）

【課題】処理ラインの生産効率を低下させることなく、カセット搬送を行うことを可能とする仕掛りカセット搬送制御システムを提供する。
【解決手段】ガラス基板を処理する処理ラインの基板回収装置から、仕掛り中の基板を収納するカセットを搬送制御するシステムであって、カセットに収納されたガラス基板を一時的に保管するストッカ設備を管理するストッカ設備管理システムと、予め設定されたカセット搬送の優先度情報と、過去のカセット搬送における目標時間に対するカセット搬送情報と、ガラス基板の処理ラインにおけるカセット搬送に影響を与える要因情報と、に基づいてカセット搬送の指示を行う工程管理システムと、を備えたことを特徴とする仕掛りカセット搬送制御システム。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送装置は、チャンバと、チャンバ内の経路に沿って移動可能な基板支持体と、基板支持体上に直線的に並べられた複数のラック磁石を有する第１磁気ラックと、複数のピニオン磁石を有する、回転軸に対して回転可能な第１磁気ピニオンであって、第１磁気ラックの一方の側に配置され、第１磁気ラックとの間に回転軸方向で磁気結合された第１磁気ピニオンと、チャンバに固定して設けられ、基板支持体を移動可能に支持する支持部材とを備え、第１磁気ピニオンを回転することにより、基板支持体を移動させる。 （もっと読む）

【課題】被搬送物に収納された平板状部材の収納状態を精度良く検出することができる搬送車を提供する。
【解決手段】搬送車１は、所定の方向に沿って走行可能に設けられた走行台車３と、走行台車３に対して上下方向の軸中心に回転可能に設けられたターンテーブル９と、ターンテーブル９に設置され、カセットＷを載置すると共に、カセットＷの移動を行う移載装置１１と、カセットＷにおけるガラス基板Ｇの収納状態を検出光Ｌにより検出すると共に、その光軸方向が走行台車３の走行方向に沿い且つターンテーブル９と伴に回転しない位置に設置されたマッピングセンサ１３と、移載装置１１によりカセットＷを取り込み、ターンテーブル９を回転させてカセットＷを回転させた後に、マッピングセンサ１３がカセットＷにおけるガラス基板Ｇの収納状態を検出するように制御するコントローラ１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】多色処理混在型のカラーフィルタ製造ラインに用いられ、品種が変更になった場合に、振分けを行う搬送装置の振分け設定と、処理装置のレシピと、を自動変更することを可能とする製造ライン設定変更システムを提供する。
【解決手段】データ管理用データベースと、ライン内管理システムと、を備え、データ管理用データベースは、予め用意された品種情報管理テーブルと、基板が収納されたカセット情報管理テーブルと、を有し、ライン内管理システムは、製造ライン内に設けられた装置及びデータ管理用データベースとの通信機能を有し、更に、搬送装置の振分け設定の変更指示と、処理装置のレシピ設定の変更指示を行うことを特徴とする製造ライン設定変更システム。 （もっと読む）

【課題】工程を増やすことなく、未処理基板を精度良くアライメント補正する。
【解決手段】本発明の基板搬送装置１００は、待機位置（Ａ点）に載置された一枚の未処理基板Ｗ１を、回転塗布ユニット２０（Ｂ点）へ搬送するものである。この基板搬送装置は搬送フォーク４０、シフト機構５０、昇降機構６０およびガス噴出機構７０を有する。搬送フォーク４０は未処理基板Ｗ１の裏面の両側縁部を支持する爪４２を有する。爪４２の上面に、未処理基板Ｗ１の角の搬送方向上流側に係合されるフック４４が形成されている。シフト機構５０は搬送フォーク４０を搬送方向に可逆にシフトさせる。昇降機構６０は搬送フォーク４０を昇降させる。ガス噴出機構７０は搬送フォーク４０の上面から上方へガスを噴出させる。 （もっと読む）

【課題】パターン形成装置と塗布現像装置との間における基板の搬送スループットの向上に有利となるパターン形成装置および塗布現像装置を提供する。
【解決手段】このパターン形成装置は、隣設される塗布現像装置との間で基板の受け渡しを実施する。パターン形成装置側の第１制御部は、基板に対してパターン形成処理を開始するに際し、第１搬送ハンド３５の動作を開始させたとき、またはその後、塗布現像装置側の第２制御部に対して、新たな基板の受け渡し動作を予告する第１信号（Ｓ４１−２）を送信して予め第２搬送ハンド５２の動作を開始させ、第２搬送ハンド５２の動作中に、第２搬送ハンド５２の動作を要求する第２信号（Ｓ４１−４）を送信する。 （もっと読む）

【課題】被処理基板と支持基板の剥離処理を適切且つ効率よく行う。
【解決手段】剥離装置１２は、ダイシングテープＰを介して被処理ウェハＷを保持する第１の保持部５０と、ダイシングテープＰの外側においてダイシングフレームＦの表面を保持する第２の保持部５１と、支持ウェハＳを保持する第３の保持部５２と、第３の保持部５２に保持された支持ウェハＳが、その外周部から中心部に向けて第１の保持部５０に保持された被処理ウェハＷから連続的に剥離するように、第３の保持部５２の外周部を保持して鉛直方向に移動させる移動機構９０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、載置する試料を一定の温度に維持する要求に応える載置用部材を提供するものである。
【解決手段】
本発明の一形態に係る載置用部材１は、流路６を有する載置用部材１において、一主面に試料２が載置され、他主面に流路６の内壁を構成する溝部８を有するセラミックスからなる第１基板３と、一主面が該第１基板３の他主面に接続されたセラミックスからなる第２基板４と、第１基板３と第２基板４との間に介在した、第１基板３よりも熱伝導率の低いガラスからなる接合層５とを備え、第２基板４の一主面は、第１基板３の他主面に接合層５を介して接続された第１領域９と、流路６の内壁を構成する第２領域１０とを有し、該第２領域１０は、前記第１領域９と同一平面をなす。 （もっと読む）

【課題】 一度に処理する被処理体の枚数が増加したとしても、弁体の昇降距離を短縮することが可能なゲートバルブを提供すること。
【解決手段】 被処理体を出し入れする複数の開口部６１ａ〜６１ｄに押圧される弁体６３と、弁体６３に設けられた押圧部６７と、開口部６１ａ〜６１ｄの開口面に対して平行にスライドするメインスライダー７０と、メインスライダー７０に設けられ、突起部７２と該突起部７２からスロープ状に傾斜する傾斜部７３とを含み、弁体６３を開口部６１ａ〜６１ｄに正対させた状態で、弁体６３の押圧部６７を押圧するカム７１と、を備え、弁体６３は、開口部６１ａ〜６１ｄを開放する開放部として機能する少なくとも１つのスリット状開口６５ａ〜６５ｃを有し、スリット状開口６５ａ〜６５ｃに隣接した部位を、開口部６１ａ〜６１ｄを閉塞する閉塞部６６ａ〜６６ｄとする。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを露光装置から効率的に回収し又分配できる搬送装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】それぞれパターンＰを形成した複数のマスクＭの間に間座２０を配置して、重ねて搬送するので、重ねた時に間座２０によりマスクＭのパターンＰが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えると共に、複数のマスクＭを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクＭを用いた装置の稼働率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】センタリング動作と旋回動作を同時に行なってガラス基板のアライメント時間を短縮し、また、ガラス基板の損傷を抑制するアライメント装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板を搬送する手段を載置したステージＡと、ステージＡ上に設けられたステージＢの内部に備えられ、ガラス基板を上昇させて支持するガラス基板支持手段と、ガラス基板の一辺を把持する手段と、把持する手段と把持する手段に繋がれガラス基板の前記一辺を押圧する第一のアライメントピンを移動する手段と、前記ガラス基板の一辺と対向する辺を押圧する第二のアライメントピンと、前記第二のアライメントピンを移動する手段と、ガラス基板の一辺を把持した状態でステージＡを水平方向に旋回してガラス基板を所定の方向に旋回する手段と、を備え、且つ、前記ガラス基板を所定の方向に旋回する動作と、センタリングする動作と、を同時に行なうことを特徴とする基板アライメント装置。 （もっと読む）

【課題】搬送中に、位置合わせされた基板と基板との相対位置がずれるといった課題がある。
【解決手段】基板貼り合せ方法は、仮接合部において、複数の基板を重ね合わせて複数の対向面および側面の少なくとも一方の一部を仮接合部材によって接合する仮接合段階と、前記仮接合段階で仮接合された前記複数の基板を、本接合部へ搬送する搬送段階と、前記本接合部において、前記仮接合段階で仮接合された前記複数の基板を本接合部材によって本接合する本接合段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】構成を簡素化し、かつ、十分な昇降範囲を確保できる搬送ロボットを提供すること。
【解決手段】搬送ロボット１の旋回台１２は、基台１１に鉛直軸Ｏ１回りに旋回可能に取り付けられた基部１３から延伸部１４が水平に一方向にのみ延伸する。延伸部１４の先端部からは支柱２１が鉛直方向に立設される。第１昇降用アーム２４は、支柱２１の先端部で水平軸回りに回転可能に支持され、第２昇降用アーム２６は、第１昇降用アーム２４の先端部で水平軸回りに回転可能に支持される。水平アームユニット３０は、第２昇降用アーム２６の先端部で水平軸回りに回転可能に支持される。水平アームユニット３０は、被搬送対象物を載置するハンド部３３ａを支柱２１に対して鉛直軸Ｏ１側で水平軸と平行な方向に移動させるアーム部３２ａを有し、水平アームユニット３０のアーム部３２ａの一部が延伸部１４の上面よりも低い位置で動作して被搬送対象物を搬送可能である。 （もっと読む）

【課題】ハンドをカセット内へ進入させることなくハンド上へ基板を載置して搬送すること。
【解決手段】カセットへ基板の出し入れ方向に沿って連結された状態でかかるカセットが備える駆動機構の駆動を受けて回転する受動ローラを備え、かかる受動ローラをその先端部に有する板状のフォークと、上記の受動ローラの回転をかかるフォークに沿って伝達するベルトと、かかるベルトによる回転の伝達を受けて上記の受動ローラと同じ回転方向に回転するその他のローラとを備えるように基板搬送用ハンドおよびかかる基板搬送用ハンドを備える基板搬送装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】基板の主面への処理液の飛散を抑制しつつ基板の端面を局所的に処理できる技術を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、硬脆性基板の一種であるガラス基板（基板９０）の側端面９１Ｓをエッチングする。基板処理装置１００は、その外周面が基板９０の側端面９１に当接される当接面を形成するスポンジ体２１３（当接部材）と、スポンジ体２１３を回転させるスポンジ体回転駆動部２４０（回転駆動部）と、スポンジ体２１３に処理液を供給する処理液供給管２５１（処理液供給部）とを備える。搬送ローラー３１により＋ｙ方向に搬送される基板９０の側端面９１Ｓに対して、ｚ軸回りに回転するスポンジ体２１３の外周面が押し当てられることにより、基板９０の側端面９１Ｓのエッチングが行われる。 （もっと読む）

【課題】従来のステージ装置では、ワークに対する処理精度を維持することが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持するワークテーブル２５と、ワークテーブル２５の移動を案内する第１ガイド部８１と、第１ガイド部８１につなぎ合わされており、ワークテーブル２５の移動経路を延長する第２ガイド部８２と、つなぎ合わされた第１ガイド部８１と第２ガイド部８２との間の精度を監視する監視装置８７と、を有する、ことを特徴とするステージ装置。 （もっと読む）

【課題】基板が薄く大型化しても静電気により基板が割れるのを抑えることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する石材製のステージと、前記ステージに載置された基板に対し相対的に移動しつつ塗布液を吐出することにより前記基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、を有しており、前記ステージの基板が載置される載置面には、載置された基板を前記載置面に吸着させる吸着溝が形成されており、この吸着溝にはアース接続された導電材が埋設されている構成とする。 （もっと読む）

【課題】従来の除材方法では、ワークに対する描画品位を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷが載置される面である載置面２５ａを有するテーブル板７１と、テーブル板７１に載置されたワークＷに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、ワークＷを降下させることによって、ワークＷを載置面２５ａに載置し、且つ、載置面２５ａに載置されたワークＷを上昇させることによって、ワークＷを載置面２５ａから離間させる昇降装置と、を有し、前記昇降装置は、ワークＷを載置面２５ａに載置するときに、ワークＷを載置面２５ａ側に凸となる向きに湾曲させた状態でワークＷを降下させ、ワークＷを載置面２５ａから離間させるときに、ワークＷを載置面２５ａに載置するときよりもワークＷの湾曲を緩和した状態でワークＷを上昇させる、ことを特徴とする液滴吐出装置。 （もっと読む）