Fターム[5F031CA05]の内容
ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理の対象物 (12,583) | 矩形基板 (3,196) | ガラス基板、液晶基板 (2,994)
Fターム[5F031CA05]に分類される特許
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物体搬出システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び物体の搬出方法
【課題】物体保持装置に保持された物体を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板ホルダ30の上面上に載置された基板Pを該基板ホルダ30から搬出する基板Pの搬出方法は、前記基板ホルダ30に予め保持された基板トレイ60に前記基板Pを下方から支持させることと、前記基板トレイ60に前記基板Pを吸着保持させることと、前記基板ホルダ30から前記基板Pに対して気体を噴出することと、前記基板Pが前記基板トレイ60に吸着保持され、且つ前記基板Pに対して前記気体が噴出された状態で前記基板トレイ60を前記基板ホルダ30の上面に平行な方向に沿って相対移動させることにより、前記基板Pを前記基板ホルダ30から搬出することと、を含む。
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搬送車システムのシミュレーションシステムとシミュレーション方法
【課題】
半導体等の生産計画に沿って搬送車システムを動作させた際の状況をシミュレーションする。
【構成】
処理装置での仮想的な生産計画を管理し、生産計画に従って、仮想的な搬送車への走行計画を作成し、作成した走行計画に従って、仮想的な搬送車の位置と速度を時間の関数として表す走行スケジュールを作成し、走行スケジュールに従って仮想的な搬送車を、実在の搬送車システムの制約に従って、かつ搬送車間の干渉を回避するように走行させる。
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ウエハの接合方法
【課題】接合後のウエハの主面が平行となり生産性を向上させるウエハの接合方法を提供する。
【解決手段】一方のウエハの一方の主面に接着剤を塗布し、一方のウエハと他方のウエハとが対向するように接着剤をウエハの主面間で挟んだ状態でウエハを重ね合わせてワークを形成し、第一のプレス板と第二のプレス板と第二のプレス板から第一のプレス板に向かう方向に所定の圧力を加えることができる加圧手段とを備えたプレス装置の、第二のプレス板側を向く第一のプレス板の面に一方のウエハの他方の主面が接触するようにワークを配置するワーク配置工程と、加圧手段により第一のプレス板と第二のプレス板とでワークに加圧するワーク加圧工程と、プレス装置の第一のプレス板からワークを取り出した後、ウエハ間に存在する接着剤を硬化させる接着剤硬化工程と、を備えていることを特徴とする。
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リング状シールド部材、その構成部品及びリング状シールド部材を備えた基板載置台
【課題】リング状シールド部材の構成部品と基板載置台との間の隙間の発生を防止するとともに、構成部品の破損を防止することができるリング状シールド部材を提供する。
【解決手段】シールドリング15は4つのリング構成部品41〜44からなり、各リング構成部品41〜44の長手方向に関する固定端には全方位移動規制部45が設けられ、一方向移動許容部46が全方位移動規制部45から離間して設けられ、例えば、一のリング構成部品41の固定端41aの端面が、隣接する他のリング構成部品43の自由端43bの側面に当接し、一のリング構成部品41の自由端41bの側面が、隣接する別のリング構成部品44の固定端44aの端面に当接するように、各リング構成部品41〜44が組み合わせられている。
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基板処理装置
【課題】基板の清浄度を向上させること。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wを保持するスピンチャック3と、スピンチャック3に保持されている基板Wの外周より外側に配置されているカップ6とを含む。カップ6は、気体吐出口から基板W上に向けて気体を吐出することにより、基板Wの上面に沿って流れる気流を形成する。この気流によって基板Wの上面がパーティクルやミストから保護される。
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基板処理システム
【課題】作業効率の低下を防止する基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板処理を実行する基板処理装置と、前記基板処理装置から、前記基板処理装置に関する情報を一括取得する群管理装置と、前記群管理装置を介して、前記基板処理装置に関する情報を取得する端末装置とからなる基板処理システムであって、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とを記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された、前記端末装置の操作者に関する情報と、前記端末装置における前記基板処理装置に関する情報の表示に関する情報とに基づいて、前記端末装置における前記基板処理に関する情報の表示を制御する制御手段とを有する。
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基板の基板保持用枠体への受け渡し方法と移載用架台への受け取り方法、および基板の移載用架台
【課題】 2メートル角程度以上の大サイズ基板を移載用架台から基板保持用枠体へ受け渡しする方法、または基板保持用枠体からの受け取り方法、およびそれらの方法に用いる移載用架台を提供する。
【解決手段】
移載用架台は、上部に複数の回転輪が回転可能に配され、全ての該回転輪と載置する基板との接点が架台水平面を形成するように配設され、架台水平面の下方に上昇下降が可能なリフトピンを配列し、架台水平面の外周域を基板保持用枠体の開口の通過が可能なように形成されている。基板の基板保持用枠体への受け渡しは、リフトピンが基板をその中央域を低く両端辺を高くした状態に支持しておき、移載用架台の下側から基板保持用枠体を上昇させて行う。また、基板の受け取りは、リフトピンが、中央域を低くした状態で待機し、そのリフトピン上に基板を載置してから平面状態にする特徴を有する。
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位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
【課題】移動体の駆動部で暖められた気体の漏れ出しを低減する。
【解決手段】移動体の位置決め装置は、固定子3及び可動子5を有する駆動部と、開口部11と排気口とを有する筐体7と、前記筐体内の気体を前記排気口から排気する排気部と、制御部とを備える。前記可動子5は、前記移動体2に接続部材10を介して接続されている。前記筐体7は、前記可動子5の駆動範囲に亙って前記可動子5と前記固定子3とを収容する。前記開口部11は、前記可動子5の駆動に伴う前記接続部材10の移動を許容する。前記排気口は、前記駆動範囲の第1端部Ea及び第2端部Ebにそれぞれ配置された端部排気口8a、8bを含む。前記制御部は、前記可動子5が前記駆動範囲の前記第1端部側を前記第1端部Eaに向けて駆動されるときに、前記第1端部Eaに配置された端部排気口8aからの排気量を前記可動子5が前記駆動範囲の中央に位置するときよりも増加させる。
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板状部材の加工用シート、および、その製造方法
【課題】コストダウンと廃棄が容易なウェハの加工用シート、および、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ウェハWとリングフレームRFとに貼付されることで、リングフレームRFでウェハWを保持させる接着シートS1は、基材シートBSと、基材シートBSの一方の面に積層されて所定情報を記録可能な磁気記録層MLと、基材シートBS上に磁気記録層MLを覆うように積層された接着剤層ADとを備える。
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シート貼付装置及び貼付方法
【課題】被着体の平面形状を維持した状態で表裏各面に接着シートを貼付して被着体を挟み込むことのできるシート貼付装置と貼付方法を提供すること。
【解決手段】被着体WKの表裏各面WK1、WK2に、第1及び第2接着シートAS1、AS2を貼付するシート貼付装置10であり、同装置は、被着体WKを支持する支持手段14と、被着体WKの表面WK1に第1接着シートAS1を繰り出す第1繰出手段13と、第1接着シートAS1を前記表面WK1に貼付する第1押圧手段15と、被着体WKの裏面WK2に第2接着シートAS2を繰り出す第2繰出手段17と、第2接着シートAS2を前記裏面WK2に貼付する第2押圧手段19とを備えている。第1押圧手段15は、支持手段14で平面状態が維持された被着体WKに第1接着シートAS1を貼付する。
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基板搬送装置
【課題】走行中の基板を基板停止位置で停止させる時間を短くすることができ、タクトタイムが無駄に長くなるのを抑えることができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板を搬送する搬送部と、前記搬送部を駆動させることにより、基板を加速、定速、減速走行させるとともに、基板を特定の割合で減速させる設定減速度が設定可能な搬送駆動部と、前記搬送駆動部を制御する駆動制御部と、を備える基板搬送装置であって、前記搬送部には、走行中の基板の位置を検知する位置センサーと、走行中の基板を停止させる基板停止位置が設定されており、前記駆動制御部は、前記基板停止位置と設定減速度とから減速開始遅延時間を演算し、前記位置センサーにより定速走行中の基板が検知された後、減速開始遅延時間だけ基板を定速で走行させ、減速開始遅延時間経過後、減速を開始させる。
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基板受け渡し方法
【課題】基板を載置台にフラットに載置することが可能であり、かつ、静電チャックによる吸着を解除して基板を載置台から持ち上げる際、基板に異常放電を発生し難くすることができる基板受け渡し方法を提供すること。
【解決手段】基板Gを基板載置面4cの上方にて、第1の昇降ピン8aと、第1の昇降ピン8aよりも低い位置の第2の昇降ピン8bとにより支持した基板Gを下降させ、基板Gを、基板Gの中央部から基板載置面4cに載置させる基板載置工程と、基板載置面4cに載置された基板Gを静電チャック41により吸着して、基板Gにプラズマ処理を行う工程と、プラズマ処理終了後、静電チャック41による吸着を解除し、第1の昇降ピン8aと第2の昇降ピン8bとを同じ高さとして基板Gを支持し、基板Gを基板載置面4cから離脱させる基板離脱工程と、を含む。
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板体収容カセットおよびその使用方法
【課題】 直方体状の枠体(1) 内に複数枚の板体(B) を縦姿勢でかつ並列にかつその板体
(B) 面が枠体(1) の両側面と平行になるように収容する板体収容カセットであって、板体
(1) の出入および運搬を円滑に行うことができることはもとより、板体(1) が大サイズで
かつ重量が大の基板やパネルであっても、カセット側の板体(1) 支承部にも損傷を与え難
くかつ板体(1) 側の下端エッジにも割れや欠けを生じ難いカセットを提供することを目的
とする。
【解決手段】 直方体状の枠体(1) において、その低所位置には板体下端受けとめ用ロー
ラ(2) 群、低所位置であって前記ローラ(2) 群の設置位置よりも高い位置には板体下部規
制用ローラ(3) 群、枠体(1) の中所ないし高所位置には板体上部側規制用ローラ(4) 群を
それぞれ設けることにより、板体(1) を3点支持しうるようにしたカセットである。
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基板処理装置、基板保持装置、および、基板保持方法
【課題】簡易な構成で、反った基板であっても確実に保持できる技術を提供する。
【解決手段】基板に対して描画処理を施す描画装置1は、基板Wの裏面に対向する保持面111が形成された保持板11と、保持面111に形成され、真空吸引により基板Wを保持面111に吸引する真空吸引口12と、保持面111に形成され、ベルヌーイ吸引により基板Wを保持面111に吸引する複数のベルヌーイ吸引口13とを備える。保持面111には、その中心と同心に配置された円形領域M1と、円形領域M1と同心に配置された円環状領域M2とが規定されており、円形領域M1と円環状領域M2とのそれぞれにベルヌーイ吸引口13が配置される。
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ローダ及びアンローダ
【課題】カラーフィルタ製造ラインでカセット交換の際に製造ラインへの基板投入や、製造ラインからの基板回収時に発生する、投入、回収停止が無く、しかも設置場所のスペースを縮小することが出来、更に設備費用の削減を可能とする、ローダとアンローダを提供する。
【解決手段】ローダ本体と、その下流に第一のコンベアバッファを備え、ローダ本体はローダ本体上にセットされた第一のカセットからガラス基板を1枚ずつ外部に取り出す機能を有し、第一のコンベアバッファは、第一のコンベアと、第一のバッファで構成され、第一のコンベアは、前記1枚ずつ取り出されたガラス基板を下流に設置された第一の処理装置に直接搬送する機能と、前記第一のバッファに収納する機能と、を有し、更に前記第一のコンベアは、前記第一のカセットの交換時に第一のバッファに収納したガラス基板を前記下流に設置された第一の処理装置に搬送することを特徴とするローダ。
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位置決め装置
【課題】フットスペースの小型化が図られるとともに、対象物を確実に位置決めすることができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】位置決め装置は、位置決め対象物を支持する支持部と、位置決めすべき方向と略平行な方向に沿って延びる軸線を回転中心Oとして回動可能に構成されたアーム部12と、アーム部12を回動駆動するモータとを備える。モータは、アーム部12が対象物から退避した退避位置と、アーム部12が当該対象物の外周縁に接触することで当該対象物を位置決め方向に沿って押し出して位置決めを完了させる位置決め完了位置との間を行き来するように、アーム部12を回動駆動する。アーム部12は、アーム部12が退避位置から位置決め完了位置へ回動する際に、接触した対象物の外周縁がその表面に沿って摺動することで対象物を位置決め方向に沿って押し出すための傾斜面14bを含んでいる。
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塗布装置
【課題】 基板を傾斜させて搬送する場合においても、基板の裏面のみに適切に処理液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 処理液吐出パイプ30は、搬送ローラ10により搬送される基板100が塗布ローラ20に到達する前に、基板100の下方側で、かつ、搬送ローラ10による基板100の搬送方向の上流側から、塗布ローラ20の表面に向けて処理液を吐出する。そして、搬送ローラ10により搬送される基板100の後端が塗布ローラ20に到達する前に、処理液吐出パイプ30からの処理液の吐出が停止される。
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冷却ユニット及びこれを用いたワーク搬送装置
【課題】高温状態のワークからの輻射熱による前記ワークの周辺部品に対する影響を減少させることができ、且つ冷却媒体が漏れたり真空リークが発生したりすることがなく、また、コストの減少させることができ、また、ワーク搬送機構の旋回角度を規制することがない冷却ユニットを提供する。
【解決手段】冷却ユニット100は、その外壁部122がワーク搬送機構20の被冷却面Pに密着した状態でワーク搬送機構20に取り付けられ、被冷却面Pから外壁部122を介して伝導された熱によって下側空間S1に収容された冷却媒体を蒸発させ、冷却媒体が蒸発する際に奪われる気化熱によって外壁部122を介して被冷却面Pを冷却し、下側空間S1の内部の蒸気圧が一定以上になると蒸気放出ユニット130によって下側空間S1の内部の蒸気を真空室に放出する。
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基板処理装置
【課題】ミストを発生しやすい処理室のメンテナンス性を確保しつつ、室内の排気効率および排気能力の均一性を向上させること。
【解決手段】ブロー洗浄室R2の室内排気機構112において、第1の仕切板114は、上部2流体ノズル104Uより高くて排気ポート106,108より低い位置に配置され、ブロー洗浄室R2の室内空間を縦方向で上部空間UR2と下部空間LR2とに分割する。ここで、第1の仕切板114と上流側隔壁86との間には、チャンバ幅方向(Y方向)に一列に延びる2つのスリット開口116,118が形成される。また、第2の仕切板124は、第1の仕切板114の上に拡がる上部空間UR2を、横方向で、第1の開口116と第1の排気ポート106との間に延在する第1の排気空間120と、第2の開口118と第2の排気ポート108との間に延在する第2の排気空間122とに分割する。
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位置合わせ装置、位置合わせ方法、および、描画装置
【課題】高精度かつ迅速に、基板を適正な回転位置に位置合わせできる技術を提供する。
【解決手段】位置合わせ装置100は、ステージ11を回転させる回転機構121と、ステージ11外からステージ11の位置を測長して、当該測長値に基づいてステージ11の回転角度θを特定する測長部13と、ステージ11に載置された基板Wを適正な回転位置におくために必要なステージの回転角度(目標回転角度θo)を特定する目標回転角度特定部201と、測長部13で計測されたステージ11の回転角度θを目標回転角度θoに近づけることができるような回転機構121の制御パラメータNを出力し、当該制御パラメータNで回転機構121を駆動制御する回転制御部202と、を備える。
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