【課題】温度の高い比較的大型の搬送対象物を搬送する場合であっても、熱の影響による軸受の摩耗や損傷を抑制すること、熱の影響によるアームの変形を抑制すること、および、ハンドの重量を軽減することが可能な産業用ロボットを提供する。
【解決手段】この産業用ロボットは、搬送対象物が搭載される搭載部２７を有するハンド３と、その先端側でハンド３を保持するアームと、アームの基端側を保持する本体部と、搭載部２７の少なくとも上面を覆うカバー部材３０とを備えている。カバー部材３０における輻射熱の反射率は、搭載部２７における輻射熱の反射率よりも高く、カバー部材３０の熱伝導率は、搭載部２７の熱伝導率よりも低く、搭載部２７の比重は、カバー部材３０の比重よりも小さくなっている。 （もっと読む）

【課題】大型のガラス基板等の体積固有抵抗値が大きい基板であっても、十分な冷却効果を有し、且つ、コストに見合った基板の冷却効果を得ることができる基板載置システムを提供する。
【解決手段】基板処理装置１０の基板冷却システムにおいて、サセプタ１２は基板Ｇを載置し、静電チャック１４はサセプタ１２の上部に設けられて基板Ｇを静電吸着し、ガス流路１８及び温度調整ガス供給装置１９は静電吸着された基板Ｇ及び静電チャック１４の間の伝熱空間Ｔに温度調整ガスを供給し、伝熱空間Ｔの厚さが５０μｍ以下に設定され、ガス流路１８及び温度調整ガス供給装置１９は、温度調整ガスとして窒素ガス又は酸素ガスを３Ｔｏｒｒ（４００Ｐａ）以下で伝熱空間Ｔに供給する。 （もっと読む）

【課題】電機子コイルの熱を効率よく排熱する。
【解決手段】 定盤吸引装置を備えることにより、基板ステージＷＳＴの位置に応じて定盤２１を挟んで基板ステージＷＳＴの逆側に設けられた第１空間３５ａが負圧にされ、定盤２１に設けられた複数の孔部３９ａを介して基板ステージＷＳＴの近傍の気体が吸引される。これにより、電機子コイル３８の発熱による定盤２１上の基板ステージＷＳＴの周辺の気体の温度変動を抑えることが可能となる。そして、干渉計を用いて構成されるウエハ干渉計の高い位置計測精度を維持することができ、ウエハＷ（基板ステージＷＳＴ）の位置決め精度を向上するとともにスループットを改善することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とを金属板に形成した複数のメタルマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のメタルマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のメタルマスクを、隣り合うメタルマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のメタルマスクは、並置且つ連結されることによって全体として１個のメタルマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 （もっと読む）

【課題】作業効率の高い姿勢変換（方向変換）を行うことができる姿勢変換装置、および姿勢変換装置を適用した梱包方法を提供する。
【解決手段】姿勢変換装置１は、太陽電池モジュール３０を水平方向に載置させる載置台１０と、載置台１０の裏面に配置され載置台１０を支持する支持台１５と、載置台１０と支持台１５とを連結し、支持台１５に対して載置台１０を水平方向から垂直方向へ回転させる回転機構部１６とを備える。回転機構部１６は、水平方向に回転中心を有する回転軸１７と、支持台１５に形成されて回転軸１７を支持する第１軸受け１８と、載置台１０の裏面（載置面１１の反対側の面）に形成されて回転軸１７を支持する第２軸受け１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】使用できる温度帯を広げることができる基板ホルダーを提供する。
【解決手段】本発明の基板ホルダー１３は、一端部が基板支持面４５に導通する接地軸５３の他端部に接続され、接地軸５３を接地電位に切替えるリレー回路６１と、接地軸５３の一端部のキャップを基板支持面４５に押し付けるように付勢する圧縮コイルばね５９と、接地軸５３の他端部を真空側に配置し、圧縮コイルばね５９の付勢方向に伸縮するベローズ５７と、圧縮コイルばね５９の付勢方向で狭持されるＯリング６３とを備えている。この構成により、接地軸５３が熱膨張しても基板支持面４５との導通を確保できる。 （もっと読む）

【課題】検査等の処理の精度を維持しつつ、効率的な処理を行うことができる基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】基板Ｗの撮像処理を施す光学ユニット１００と、基板Ｗを載置して、基板Ｗを搬送するステージ１１とを有するＦＰＤ検査装置１であって、ステージ１１の搬送方向Ｄに沿った外縁側に設けられ、搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸１３１に沿って基板Ｗを保持して搬送する第１搬送部１３２と、基板Ｗが光学ユニット１００にかかる領域で搬送方向Ｄと平行に延びる搬送軸１４１に沿って基板Ｗを保持して搬送し、第１搬送部１３２と比して高い移動分解能を有する第２搬送部１４２と、第１搬送部１３２および第２搬送部１４２における基板Ｗの搬送を制御する搬送制御部３５と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板を収納する端数カセットを減らし、カセットを格納するストッカー規模を縮小し、更に従来行われていたオペレーターによる端数カセットに収納されていた基板の集約混載、及び生産工程へ投入するロットの基板を集約混載されたカセットから選び出し事前準備することを可能とした在庫管理システム及び在庫管理方法を提供する。
【解決手段】予定管理部と、設定管理部と、ライン管理部と、実績管理部と、カセット情報管理部と、に基づいて端数カセットに格納されている基板を集約混載すると判断または集約混載されているカセットから当該工程へ投入予定の基板を事前準備して当該工程へ投入可能なカセットを用意すると判断する判断部と、カセット搬送指示をストッカー設備に通知するストッカー搬送管理部と、カセット搬送指示に従ってカセット内の基板のソート計画を作成するソート計画部と、を備えたことを特徴とする在庫管理システム。 （もっと読む）

【課題】高速の薄板状ワーク搬送を安定して行うことができ、薄板状ワークがより薄くなった場合であったとしても、薄板状ワークの反りによる影響を受けることなく安定して搬送することが可能である薄板状ワーク搬送装置及び薄板状ワーク搬送方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板Ｗの下面に空気を吹き付けて非接触状態で支持するエア浮上ユニット２と、ガラス基板Ｗの下面に接触してワーク搬送方向の移動力を付与する搬送ローラ３７と、ガラス基板Ｗの搬送ローラ３７との接触部位Ｗｔを搬送ローラ３７側に引き寄せる吸引手段４を備え、ガラス基板Ｗの上面に向けて空気を噴出させて、ガラス基板Ｗを搬送ローラ３７に押し付けるエア押し付けユニット５を設けた。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有するワークを非接触で安定的にチャックすることができるチャック装置を提供する。
【解決手段】チャック装置１は、ワークＷの鉛直上方に対向配置されて当該ワークを非接触状態で吸引する複数のベルヌーイチャック機構７、９と、複数のベルヌーイチャック機構のうち少なくとも１つのベルヌーイチャック機構について、ワークとの対向方向の位置を、他のベルヌーイチャック機構におけるワークとの対向方向の位置と異なる位置に変更可能な可変部と、を備え、可変部によってワークとの対向方向の位置が変更されるベルヌーイチャック機構が可動ワーク吸引手段を構成するとともに、当該可動ワーク吸引手段の位置変位に伴ってワークに湾曲部１５を形成して当該ワークを保持する。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構で、ラックギヤとピニオンギヤとを円滑に噛み合わせることができる搬送装置、及びこれを備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の搬送装置は、基板３を搭載して搬送軌道９上を移動するキャリア２０に設けられたラックギヤ７と、ラックギヤ７に噛合する複数のピニオンギヤ５ａ，５ｂとを備え、ラックギヤ７は、ピニオンギヤ５ａがラックギヤ７の一端で歯合するときに、ピニオンギヤ５ｂと歯合する箇所のラックギヤ７が高くなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送にともなう浮上環境の変化に速やかに応答し、基板を一定の浮上高さで搬送することができる浮上搬送装置を提供する。
【解決手段】噴出口１１と吸引口１２とが基板Ｗの搬送される方向に複数個ずつ配列された表面を有する浮上ステージ１０と、吸引力供給手段３０と、吸引力供給手段３０と連通する主配管１３と、主配管１３と連通し、それぞれの吸引口１２と連通する分岐配管１５と、主配管１３の途中に設けられた差圧ダンパ２０と、を備える浮上搬送装置であり、差圧ダンパ２０は、主配管１３内と外気とを連通する経路であるマニホールド２１および当該経路を遮断する弁２２を有し、弁２２は、主配管１３内と外気との差圧が弁２２に及ぼす外力によって開閉する動作をとり、差圧の変化に応じて弁２２が動作して開度が変化することにより、所定の差圧を保持することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板等の板状部材に貼着された保護フィルムの端縁部を剥離させる際の衝撃を抑制し、基板の破損及び装置の故障を防止することができ、しかも、ロット毎の切り替えが容易なフィルム剥離装置の提供。
【解決手段】標準圧接ローラー１５及び傾斜圧接ローラー１６を支持させた一対の支持部材２０，２１を有するローラーユニット１７と、ローラーユニット１７を板状部材幅方向で移動させる幅方向移動手段とを備え、幅方向移動手段は、支持レール部材２７，２７に沿ってローラーユニット１７を任意の位置に移動させる動作ユニット２８と、動作ユニット２８を制御する制御ユニットとを備えた。 （もっと読む）

【課題】移動時のエア消費量を抑え、安定して移動できる移動装置を提供する。
【解決手段】移動装置１は、ガイドレール３と、移動部材１０とを備える。ガイドレール３は、上面３Ｕと、上面３Ｕと反対側の下面３Ｌとを含む。移動部材１０は、ガイドレール３に沿って移動可能である。移動部材１０の第１対向面は、上面３Ｕと対向して配置され、ガスを噴出する複数の開口が形成される。第２対向面は、下面３Ｌと対向して配置され、ガスを噴出する複数の開口が形成される。 （もっと読む）

【課題】ワークの板厚が薄く形成されたとしても、簡易な構成で、ワークの利用部位を非接触状態に維持したまま安定してチャックできる。
【解決手段】チャック装置１は、ワークＷと対向する本体２と、本体に配され、ワークと接触する突出部３と、本体と突出部とワークとで囲繞される囲繞空間Ｎから気体を吸引する吸引手段５と、ワークまでの相対距離ｄを測定する測定センサ６と、相対距離に基づいて、相対距離が所定の目標値で安定化するように吸引手段の吸引力を制御する吸引制御部７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有するワークを非接触で安定的にチャックすることができるチャック装置を提供する。
【解決手段】可撓性を有するワークＷを保持するチャック装置１であって、本体フレーム２と、本体フレーム２に設けられ、吸引力を作用させる吸引穴６をワークＷ表面に対向させて位置するとともに、吸引穴６の吸引力によってワークＷを非接触状態で吸引する複数のベルヌーイチャック機構４、４’と、ベルヌーイチャック機構４’に設けられ、吸引穴６’の角度を可変して当該吸引穴６’とワークＷ表面との対向方向を変位させる揺動機構１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の構成部材により構成される大型のチャックを用い、大型の基板の温度を均一に精度良く調節して、露光精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０にほぼ同じ大きさの複数の温度調節領域を設け、チャック１０を温度調節領域と異なる形状の複数の構成部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃにより構成する。チャック１０の各温度調節領域に、熱媒体が流れる熱媒体通路１１ａ，１１ｂ，１１ｃをそれぞれ独立して設け、チャック１０を構成する構成部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの境界に位置する温度調節領域の熱媒体通路１１ｂ，１１ｃを、隣接する構成部材にまたがって配置する。チャック１０の各温度調節領域の温度を別々の温度センサー１２で検出し、各温度センサー１２の検出結果に基づいてそれぞれ独立に温度を調節した熱媒体を、チャック１０の各温度調節領域の熱媒体通路１１ａ，１１ｂ，１１ｃへそれぞれ独立して供給する。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有するワークを非接触で安定的にチャックすることができるチャック装置およびチャック方法を提供する。
【解決手段】可撓性を有するワークＷを保持するチャック装置であって、ワークＷの鉛直上方に位置して当該ワークＷを非接触状態で吸引するベルヌーイチャック機構４と、当該ベルヌーイチャック機構４を挟んで水平面上に対向配置され、当該ベルヌーイチャック機構４による吸引力で浮上するとともに自重で撓んだワークＷの側縁Ｗ_２を挟持し、当該側縁Ｗ_２よりも中央部Ｗ_１が鉛直上方に位置する湾曲姿勢にワークＷを保持する一対の保持手段１０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】処理動作のタクトタイムを短縮することができ、且つ、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止する。
【解決手段】被処理基板Ｇの幅方向に延びる吐出口を有し、前記処理ステージ上の前記基板の上方を基板搬送方向に沿って移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズル３１と、前記ノズルを昇降移動可能であって、前記ノズルを基板搬送方向上流側または下流側に向けて移動可能なノズル移動手段３２と、基板搬送路４の下方に設けられ、前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段３５と、前記基板搬送路において前記処理ステージの上流側または下流側に所定長さの空き区間ｄを出没自在に形成可能な空き区間形成手段２１，２２，２３Ａ、２３Ｂ、３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】突発故障が発生しても、生産性の高い成膜を行うことのできる薄膜製造装置及び薄膜製造方法、並びに薄膜製造装置のメンテナンス方法を提供することである。
【解決手段】成膜室を有し当該成膜室内で基体に薄膜を成膜する成膜チャンバーの集合である成膜チャンバー群４２と、基体を搬送可能な移動チャンバー６と、基体を仮置き可能な基体仮置き装置を３基以上有し、前記移動装置はいずれの成膜チャンバーに対しても基体の受け渡しが可能であり、且つ前記移動装置は前記３基以上の基体仮置き装置に対して基体の受け取りまたは払い出しの少なくともいずれかが可能である薄膜製造装置を提供する。 （もっと読む）