【課題】マスクやウェハ等の基板を異物から保護しながら搬送するとともに搬送後における基板の利用を容易にする。
【解決手段】容器３００は、マスクやウェハ等の基板７１を吸着して保持するチャック３１０と、チャック３１０とともに保管空間１０８を形成するカバー３２０とを備える。基板７１は、チャック３１０にカバー３２０が装着された状態において保管空間１０８内に保持されて搬送される。 （もっと読む）

【課題】 ウェハの位置ずれを検出することなく、ウェハボートに移載されるウェハの位置ずれを防止できるようにする。
【解決手段】 半導体ウェハＷ３下にツィーザ３４が挿入された時に、ウェハカセット４１から前方にせり出した半導体ウェハＷ３を奥に押し込む突起部３６をツィーザ３４に設け、ウェハカセット４１の最も奥までウェハＷ３を押し込んだ状態で、ツィーザ３４上にウェハＷ３を載せることができるようにツィーザ３４上に配置する。 （もっと読む）

【課題】 基板収納容器に収納された基板の搬送中のたわみを抑制し、基板の取り扱いが容易で確実に運搬できるようにする。
【解決手段】 枚葉基板収納容器９は、方形状の容器本体１０及び蓋１７から構成されている。容器本体１０は、ウエハ収納部１１、蓋収納部１２、ウエハティース１３、支持部１４、複数の凹部１５、及び情報表示部１６を有し、蓋１７は、複数のリテーナ１８を有している。ウエハ収納部１１は、ウエハ７を収納する空間部分である。蓋収納部１２は、蓋１７を収納する空間部分であり、その上部に設けられた２つの凹部１５に蓋１７のストッパとしてのクランピング機構部１９をそれぞれ挿入することにより枚葉基板収納容器９が密封される。支持部１４は、ウエハ収納部１１の中央部に設けられ、ウエハ搬送機構１のアーム５間の間隔よりも狭い円形状を有し、ウエハ７を容器本体１０の中央部に着座させる役目をする。 （もっと読む）

【課題】基板保持手段に載置された基板の位置ずれ状態を検出し、歩留まり低下を抑制することのできる基板処理装置及び基板処理方法を得る。また、所定量以上の位置ずれが生じた場合にも基板がモジュールの壁面等に衝突することのない基板処理装置及び基板処理方法を得る。
【解決手段】複数のモジュール間または前記モジュール内において基板を枚葉式に搬送する基板搬送手段と、その動作制御を行う制御手段７０とを具備する基板処理装置であって、前記基板搬送手段は、前記基板が正しい位置に載置された際に該基板と重なるように基板保持手段５２の複数個所に設けられ、基準電位に対する静電容量がそれぞれ検出される複数のセンサＳ１〜Ｓ３とを備え、前記制御手段７０は、前記複数のセンサＳ１〜Ｓ３からの検出結果に基づき前記基板の位置ずれ状態を検出する。 （もっと読む）

【課題】 例えば、基板の向きを揃えて基板保管台車に収納する作業を、基板を作業者が手で持ち上げずに行うことを可能とする基板搬送台車を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１を保持する保持部２０と、保持部２０よりガラス基板１を脱落防止させる挟持部とを備える。保持部２０は軸支部により本体部１０に対して軸支され、保持部２０をスイングさせることによりガラス基板１の姿勢を水平状態と鉛直状態とに変換させることが可能である。ガラス基板１を水平状態に支持したままで該ガラス基板１をその板面方向において旋回可能とさせる旋回支持部７１を備える。 （もっと読む）

【課題】複数の処理室を有する場合でも、処理室内での基板位置を正確に制御できるように位置合わせすること。
【解決手段】 ロードロック室３０内には、バッファ３１，３２に載置された基板Ｓの位置合わせを行うポジショナー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄが配設されている。矩形をした基板Ｓは、ロードロック室３０内で、ポジショナー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの当接ブロック３６により４点で押圧され、Ｘ−Ｙ方向の位置合わせが行なわれる。このポジションは、各プロセスチャンバ内での処理位置に対応して、各プロセスチャンバ別に設定される。 （もっと読む）

【課題】小サイズから大サイズまでのガラス基板を離隔して縦姿勢で収納する容器の製作時の寸法誤差があっても、精度良く容器の載置位置や角度の補正を可能にする。
【解決手段】ガラス板収納用箱状容器の位置調整装置において、搬送方向の左右に分離して配置した複数本の搬送ロールからなる搬送コンベアによって、箱状容器の左右の底部が搬送ロールにより支持されて搬出入させる搬送コンベアと、左右に分離した搬送コンベア間に設けた補正テーブルを前後移動可能とする前後位置調整機構と、箱状容器の搬送方向と直交する方向の両側面より押圧挟持し、幅方向の位置を決める側部位置決め手段と、該搬送コンベアを下降させて搬送コンベア上の箱状容器を補正テーブル上に載置させる搬送コンベア昇降手段とからなり、補正テーブル上に載置された容器の溝部内にガラス板を積載可能に容器の載置位置を調整可能とする。 （もっと読む）

【課題】トップリング（ウエハ保持機構）に保持されたウエハが離脱してプッシャー機構（ウエハ受渡機構）に着座するまでのウエハ受渡工程の所要時間を短縮できるウエハ受渡装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷを保持するトップリング６０と、トップリング６０との間でウエハＷの受け渡しを行うプッシャー機構１０とを備えたウエハ受渡装置において、プッシャー機構１０は、ウエハＷを載置するウエハトレイ４０を備え、トップリング１０の下端面から離脱したウエハＷがウエハトレイ４０に着座するように構成し、プッシャー機構１０に、ウエハＷがウエハトレイ４０に適正に着座したことを検知するセンサ機構５０を備えた。センサ機構５０は、投光装置５１から投光されたセンサ光が、ウエハトレイ４０に着座したウエハＷによって遮断されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】 省スペースで、且つ、搬送時間が短い試料搬送装置を提供する。
【解決手段】 内部を真空状態にして試料を処理する処理室４０と、処理室４０に試料を搬送する内部を真空状態に保った第１の試料搬送室３０と、試料搬送ロボット１１を有し試料収納カセット７０に収納された試料６０を搬送する内部を大気圧状態とする第２の試料搬送室１０と、第１の試料搬送室３０と第２の試料搬送室１０との間に連結され各試料搬送室との境界に試料を搬入出するのに十分な大きさのゲートと該ゲートを開閉するバルブを有し該バルブを閉じてその内部を大気圧状態または真空状態とするロック室２０と、制御装置５０とを有する試料処理装置１において、第２の試料搬送室１０からロック室２０内に設けた試料台２１へ試料を搬送する搬送経路上で試料が横切る位置に複数対の遮光センサ２３を設けた。 （もっと読む）

【課題】周囲に気体の排出を減少させ、そのため周囲のゴミの巻き上げなくすためクリーンルームにて使用が可能な、構造の簡略で、操作が簡易、装置の製造コストが低減化できる非接触搬送装置を提供する。
【解決手段】対象物９を非接触で搬送する装置Ａであり、基部１の下方に開口するクッション室６の中央部に、上部が気体送入口２、下部がノズル５に通じる気管３を内部に設けた柱状の気体噴出部４を設ける。気体噴出部４の周囲に形成した対象物９と対向する平面部７に、気体噴出口４より噴出した排気を補足し、上方へ排出する排出口８を設けた。 （もっと読む）

【課題】 浮上させたガラス基板の移動を規制して、所定の位置に確実に保持できるようにすることである。
【解決手段】 ガラス基板Ｗを吸着して保持しつつ搬送する吸着搬送ユニット１７のユニット本体２０には貫通孔２６が設けられており、この貫通孔２６に吸着保持機構２５が設けられている。吸着保持機構２５は、圧搾エアー供給部３０に接続された筒状の弾性部材３１を有し、弾性部材３１の上端部３２には、吸着パッド３３が装着されている。吸着パッド３３には弾性部材３１に連通する吸引孔３６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】シリンダ駆動方式の移動フィンガを有する基板移送装置を提供する。
【解決手段】基板移送装置は、駆動手段によって動作が制御されるロボットアーム部と、前記ロボットアーム部の先端に設けられ、基板Ｗが置かれるブレード１２０と、前記ブレード１２０に設けられ、前記ブレード１２０に置かれた基板Ｗを正位置に位置させると同時に基板Ｗを固定するクランピング部材１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】 ウェハの冷却時の反りを防止する。
【解決手段】 冷却処理装置４０に，ウェハＷの反りを測定するレーザ変位計８０が設けられる。冷却板６０の表面には，気体の吹き出しと吸引を選択的に行うことができる複数の吹き出し・吸引口が形成される。冷却板６０の表面には，ウェハＷの中央部に対応する位置に第１の吹出し・吸引口７０が形成され，ウェハＷの外周部に対応する位置に第２の吹出し・吸引口７１が形成される。装置制御部９０は，レーザ変位計８０によるウェハＷの反りの測定結果に基づいて，第１の吹き出し・吸引口７０と第２の吹き出し・吸引口７１の吹き出し又は吸引を選択し，吹き出しによる押圧力又は吸引力により，冷却板６０で冷却されるウェハＷを平坦に維持する。 （もっと読む）

【課題】加工精度を維持しつつ、装置重量及び費用的負担等を軽減することを可能とする基板加工装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、加工ユニット５、Ｘ方向移動ステージ７、アライメントステージ（Ｙ方向移動ステージ及びθ方向移動ステージ）９、エアフロートユニット１１、ローラ１３等を有する。Ｘ方向移動ステージ７は、Ｘ方向スライダ７−１及びＸ方向レール７−２を有する。Ｘ方向スライダ７−１及びＸ方向レール７−２の幅（Ｙ方向長）は、共に、基板３の幅（Ｙ方向長）より小さい。基板３は、Ｘ方向スライダ７−１の上面に載置され、Ｘ方向スライダ７−１は、Ｘ方向レール７−２に沿ってＸ方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】トレイが１段または複数段積重ねられて載せられる搬送手段において、搬送効率の高い搬送システムを提供する。
【解決手段】板状ワークが１枚ずつ載せられるトレイと、トレイを１枚又は複数枚積み重ねた状態で搬送する搬送装置とを具備し、速度制御手段が搬送装置で搬送するトレイの枚数に応じて搬送速度パターンＬ１、Ｌ２を変更する。増速又は減速させる場合における加速度は、実線Ｌ１に従った制御を行った場合の方が、一点鎖線Ｌ２に従った制御を行った場合よりも大きく、しかも最高速度も実線Ｌ１に従った制御を行った方が大きい。トレイの枚数が多い場合には、走行台車を一点鎖線Ｌ２に従って制御することで、搬送装置全体にかかる加速度を小さくできるので、搬送装置の振動が顕著になることを防止できる。他方、トレイの枚数が少ない場合には、走行台車を実線Ｌ１に従って制御することで、目的地までの移動時間を短縮することが出来る。 （もっと読む）

焼成プレートの表面にサポートされた基板を加熱するように構成された焼成プレートと、冷却プレートの表面にサポートされた基板を冷却するように構成された冷却プレートと、該焼成プレートから該冷却プレートに基板を移送するように構成された基板移送シャトルとを備えており、該基板移送シャトルが、該焼成プレートによって加熱された基板を冷却可能な温度コントロール基板保持表面を有している集積熱ユニット。 （もっと読む）

【課題】 位置合わせ用治具が不要であり、ワークの形状やサイズにかかわらず該ワークの搬送ヘッドに対する位置合わせを可能とする。
【解決手段】 半導体製造装置は、半導体装置３０を負圧により吸着する吸着部を備えた搬送ヘッド１００を有する。該搬送ヘッドは、第１の方向（Ｘ）における吸着部１０５の両側に配置された第１および第２の位置合わせ部材１０１ａ，１０２ａと、第１の方向に略直交する第２の方向（Ｙ）における吸着部の両側に配置された第３および第４の位置合わせ部材１０３ａ，１０４ａとを有する。第１および第２の位置合わせ部材は第１の駆動機構によって、また第３および第４の位置合わせ部材は第２の駆動機構によってそれぞれ互いに接近する方向および退避する方向に駆動される。第１および第２の駆動機構の駆動源は独立に制御される。各位置合わせ部材を半導体装置にそれぞれ当接させて、該半導体装置の搬送ヘッドに対する位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】 熱板上の微小な付着物を検出する。
【解決手段】ＰＥＢ装置４４に，レーザ装置９１を設け，熱板６３の周囲に第１のミラー９２，第２のミラー９３及び反射板９５を配置する。レーザ装置９１から出力されたレーザ光は，熱板６３上のウェハＷの表面に反射して第１のミラー９２で角度を変えて反射し，ウェハＷの表面に反射した後，第１のミラー９２で角度を変えて反射し，再度ウェハＷの表面で反射して，反射板９５に入射する。反射板９５により，入射方向と同方向に反射したレーザ光は，同じ光路を辿ってレーザ装置９１に戻され受光される。反射板９５の前には，貫通孔が形成された遮光板９４が配置され，ウェハＷが傾いて途中で光軸がずらされたレーザ光は，遮光板９４で遮断される。レーザ装置９１まで戻されるレーザ光の有無を検出することによって，ウェハＷの傾きを検出して熱板６３上の付着物を検出する。 （もっと読む）

【課題】 平流し方式において被処理基板の搬送中に基板上の不要な液を速やかに流し落として処理効率や処理品質を向上させる。
【解決手段】 この洗浄プロセス部２４は、一定角度に傾斜したコロ１１２を一定ピッチで並べて傾斜搬送路１１４を構成し、この傾斜搬送路１１４上を移動する傾斜姿勢の基板Ｇに対して紫外線ランプ１２２、ロールブラシ１３０、リンスノズル１３４、エアナイフ１３６等により紫外線オゾン洗浄、スクラビング洗浄、リンス処理、乾燥処理を順次施すようにしている。スクラビング洗浄やリンス処理では、傾斜姿勢の基板Ｇ上から異物や液が重力によって速やかに流し落とされる。 （もっと読む）

【課題】 カセットに応じたカセットガイドの交換や位置調整等をすることなく、多数の異なった形状のカセットに対応できるウェハ搬送装置、及びカセット設置用アダプタを提供する。
【解決手段】 ウェハを収納したカセットを載置して昇降させるエレベータ台３が備えられ、カセットからウェハを取り出して搬送を行うためのウェハ搬送装置Ｗにおいて、エレベータ台３に位置決めして取り付け可能な複数種類のカセット設置用アダプタ４が互換可能に備えられ、これら各々のカセット設置用アダプタ４には、互いに形状の異なる複数種類のカセットを各カセット毎に所定の位置に載置するためのカセットガイド２１が設けられているような構成とした。 （もっと読む）