【課題】光パルス間で発生するＡＳＥ光の発生を抑制可能なレーザ装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のレーザ装置は、第１の波長帯域で発振するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器を所定の周波数でパルス動作させるレーザ駆動部と、前記レーザ発振器の光出力を増幅する光ファイバ増幅部と、前記光ファイバアンプ部の増幅用光ファイバに、第２の波長帯域の励起光を供給する励起光源と、前記増幅用光ファイバに、その励起準位のエネルギーを消費させる第３の波長帯域のエネルギー消費光を前記所定の周波数に同期して供給するエネルギー消費光源と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 シンプルな構造であるにもかかわらず、従来困難であった波長の異なるレーザ光の切り換えを容易に行うことができるレーザ発光装置を提供すること。
【解決手段】 加熱電極を担持する電極用基板と、この電極用基板上に配置されて励起光を伝達する光導波路層と、当該光導波路層上に配置される障壁層と、当該障壁層上の所定位置に配置される少なくとも２つのレーザ発光素子とを備え、前記障壁層は、前記光導波路層およびレーザ発光素子の材料よりも屈折率が小さく且つ光を透過させる材料から構成され、前記加熱電極は、前記各レーザ発光素子にそれぞれ対応する位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】高出力、高繰り返しかつ再現性の高いパルス群を安定に供給できるレーザ装置およびこれを用いたレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、−Ｚ方向に移動するレーザ媒質Ｇと、パルスレーザ光を発振する発振領域１０を備えた光共振器と、Ｘ方向に沿った光軸を有し、光共振器からのパルスレーザ光を増幅する増幅領域４を備えた光増幅器と、光共振器のＱ値を周期的に変化させるためのＱスイッチ素子２１と、光増幅器の増幅動作を所定の周期Ｔｉで所定の時間幅Ｔｎだけ停止させるための制御部３３などで構成される。 （もっと読む）

【課題】簡素な光学構成で、高エネルギーのパルス光を高い繰り返し周波数で発振可能なファイバレーザ光源とそれを用いた波長変換レーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ活性物質を含むファイバの両端にファイバグレーティングを設けたレーザ共振器と、前記ファイバの一端に光学的に接続され前記レーザ共振器をレーザ発振しないように調節された第１のレーザ光を入射する第１の励起用レーザ光源と、前記第１の励起用レーザ光源により前記ファイバ与えられた励起エネルギーに加えることで前記レーザ共振器をレーザ発振できる強度変調された第２のレーザ光を前記ファイバの他端に入射する第２の励起用レーザ光源と、を設けたファイバレーザ光源。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能なレーザ装置および極端紫外光生成装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、回折格子と、出力されるレーザ光が前記回折格子に入射し、かつ前記レーザ光それぞれの前記回折格子による異なる次数の回折光の少なくとも１つが所定の方向に進行するように配置される複数の半導体レーザと、を備えてもよい。 （もっと読む）

本発明は
−安定化しているゲインＧを示し、波長λでレーザーパルスを放出するのに適した増幅媒質（１１）と、Ｑスイッチ（１２）とを含む共振空洞（１）と、
−増幅媒質の連続ポンピング光源（２）と
を含む、可変周期及び安定化しているエネルギーを有するパルスを放出するのに適した、レーザー装置に関する。
レーザー装置はさらに、ポンピングの持続時間にわたって波長λの光線を増幅材料（１１）内へ照射するのに適した、共振空洞（１）の外側に位置する入射器（３）を含み、また、レーザー装置は増幅媒質のゲインをＧ／ｋに低減するために、この光線の出力を調整する手段を含み、ｋは１よりも大きい実数である。
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【課題】異なるパルス幅のパルス光を選択的に同軸上に出力することができるレーザ装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置１は、共振器１０、励起エネルギ供給部２０、種光源３０、種光導入部４０等を備える。共振器１０は、レーザ媒質１１、透明媒質１２、光入出力部１３を含む。種光源３０から出力されたパルス種光の共振器１０内への導入が種光導入部４０により設定されているときに、光入出力部１３により共振光路上に取り込んだパルス種光をレーザ媒質１１により光増幅した後に当該光増幅したパルス光を光入出力部１３により共振器１０の外部へ出力する再生増幅動作を行う。種光源３０から出力されたパルス種光の共振器１０内への非導入が種光導入部４０により設定されているときに、レーザ媒質１１により光増幅したパルス光を光入出力部１３により共振器１０の外部へ出力するキャビティダンプ発振動作を行う。 （もっと読む）

【課題】パルス光の出力を一時停止して再開した場合の光サージの発生が抑制されたレーザ光源を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザ光源１は、第１の波長の光をパルス光として出力する第１光源１７と、第１の波長とは異なる第２の波長の光を出力する第２光源２１と、第１光源１７から出力されるパルス光と第２光源２１から出力される光とを入力し、第１光源１７から出力されるパルス光及び第２光源２１から出力される光を増幅して出力する光増幅器である光増幅性ファイバ１２と、第１光源１７からの光の出力に応じて前記第２の光源からの光の出力を制御する制御部２２と、を備え、第１光源１７は、パルス光の一定周期での繰り返し出力が開始・継続するＯＮ状態と、パルス光の出力が一定周期以上の間停止するＯＦＦ状態と、を有し、制御部２２は、第１光源１７がＯＦＦ状態である場合に、第２光源から光を出力させることにより、光増幅性ファイバ１２に添加された希土類系元素の反転分布の上昇を抑制する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の光軸の状態及びレーザ光の出力状態を加工時に検査できるようにする。
【解決手段】この発明は、レーザ加工時のレーザ光の状態として、レーザ光の光軸ずれ、パルス幅、パルス高さ（レーザパワー）、パルス抜けの中の少なくとも１つを検査するようにしたものであり、レーザ光の光路中に抽出手段を配置して、レーザ光の一部を分岐抽出し、分岐抽出されたレーザ光を受光手段で受光し、その受光信号に基づいて検査するものである。 （もっと読む）

【課題】安定度がすぐれ、高品質で、従来のものにくらべ格段に強度の高い強光電磁場を発生することができる強光電磁場発生器を提供する。
【解決手段】チャープパルス増幅を利用した光発振器内に設けた強光電磁場発生器は、光発振器が、広帯域あるいは複数の帯域に対する光エネルギー変換能を有し、光共振器から発振する発振光への光エネルギー変換を行う光増幅媒体１と、前記発振光であるパルス光に対して負の分散を与える負の分散素子２と、前記パルス光に対してモード同期作用を与えるモードロック部３と、前記パルス光に対して正の分散を与える正の分散素子４と、光学系と、少なくとも負の分散素子２、モードロック部３、および正の分散素子４を内部に収容する真空チャンバー１１とを備え、負の分散素子２または正の分散素子４からのパルス光を取り込み、強光電磁場発生点（マイクロフォーカスポイント）２８を真空チャンバー１１内に形成させる。 （もっと読む）

【課題】 フォトブリーチングによる増幅用光ファイバの特性回復を好適に実行することが可能なファイバ光学装置、及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】 増幅用光ファイバ１０と、光ファイバ１０に対してパルス種光を供給する種光源１５と、励起光を供給する励起光源２１〜２５と、フォトダークニングによる光透過損失を低減するためのブリーチング光を供給するブリーチング光源４０と、各部の動作を制御する制御装置５０とによってファイバ光学装置１Ａを構成する。制御装置５０は、第１出力光パルスと、その次の第２出力光パルスとの間を、第１出力光パルスの出力直後を含み反転分布が非飽和状態の第１期間と、第２出力光パルスの出力直前を含む第２期間とに区分し、光ファイバ１０に対して、第１期間においてブリーチング光を供給するとともに、第２期間において励起光を供給する。 （もっと読む）

【課題】従来の光増幅器の反射光強度は小さかった。
【解決手段】BK-7プリズム１に入射された可視レーザ光Vは金層２に入射角θで入射する。金層２において可視レーザ光Vによって表面プラズモン共鳴光を励起し、有機色素層３を励起して反転分布状態にして有機色素層３の消衰係数k₃を負とする。入射角θは、全反射領域において可視レーザ光Vの金層２の光入射面での反射率Rが最小となる光吸収（プラズモン）ディップ角である。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成でパルスエネルギーを所望のように調整することのできるレーザ発振装置を提供すること。
【解決手段】 本発明のレーザ発振装置は、増幅媒体及び可飽和吸収体を有する共振器と、前記可飽和吸収体に光を照射することにより、前記可飽和吸収体における発振波長に対する透過率を上昇させる外部光源と、前記外部光源から出力される光の強度を調整可能な制御手段とを備えて成る。 （もっと読む）

【課題】十分な繰り返し周波数を持つ所定波長のパルスレーザ光を得る。
【解決手段】固体レーザ光源１６から射出された所定波長のパルスレーザ光ＬＢの時間的な幅が、調整器１７によって実質的に拡張される。この拡張後のパルスレーザ光は、光出力増幅器１８の放電時間との整合性、パルスエネルギ、スペクトル狭帯域化といった点から、満足しなければならないパルスの時間的な幅に近づく。そして、その拡張後のパルスレーザ光がシード光として光出力増幅器１８に入射され、増幅される。この結果、要求されるレベルにパルスの時間的な幅が拡張され、これに応じてスペクトル幅（波長幅）が狭帯域化された、十分な繰り返し周波数を持つ所定波長のパルスレーザ光が、光出力増幅器１８から射出されることとなる。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶ光源のための高電力ガス放電レーザシステムを提供する。
【解決手段】方法及び装置は、線狭化パルスエキシマ又は分子フッ素ガス放電レーザシステムを含むことができ、システムは、パルスのレーザ出力光ビームを含む出力を生成し、かつ第１のガス放電エキシマ又は分子フッ素レーザチャンバと第１の発振空洞内の線狭化モジュールとを含むことができるシードレーザ発振器と、シードレーザ発振器の出力を受け取ってシードレーザ発振器の出力を増幅し、パルスのレーザ出力光ビームを含むレーザシステム出力を形成する第２のガス放電エキシマ又は分子フッ素レーザチャンバに増幅利得媒体を収容し、かつリング電力増幅ステージを含むことができて、シードレーザ発振器の出力がこのリング電力増幅ステージの増幅利得媒体をループ毎に少なくとも２回通過するレーザ増幅ステージとを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】半導体光集積回路における信号光の損失を補償し、微弱な信号光の送受信が可能としてより大規模が回路が実現できるようにする。
【解決手段】ポンプ光ガイド層１０２と基板１０１とポンプ光ガイド層１０２との界面に形成された回折格子１０３と、ポンプ光ガイド層１０２の上に形成された反射層１０４と、反射層１０４の上に形成された信号光導波層１０５と、基板１０１の上に形成されたポンプレーザ（光源）１０６と、信号光導波層１０５の上に形成された発光素子１０７，光検出素子１０８とを備える。光導波路が構成される信号光導波層１０５に対し、ポンプレーザ１０６より出射されたポンプ光が供給され、伝播する信号光がラマン散乱により増幅される。 （もっと読む）

本発明は、所望の時間窓の信号パルス（４）の信号光子の選択的増幅方法に関する。このために、信号光子（４）は、励起した増幅媒体を通過し、この場合、放出が誘導されることによって増幅が行われる。増幅は、クエンチパルス（７）の照射によって所望の時点で終了する。場合によっては、増幅の開始を、照射されたポンプパルス（８）によって決定することができる。信号パルス（４）に相関しない放出を、スペクトルフィルタ（２）によって抑制することができる。さらに、飽和性吸収体（３）のような強度フィルタは、増幅媒体（１）からの放出（５）の増幅されない部分を抑制することができる。方法のアプリケーションは、弾道光子のタイムゲート検出を用いた透光性検査による医療光学撮像及び断層Ｘ線写真法を含む。
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【課題】レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）極紫外線（ＥＵＶ）又は軟Ｘ線光源のための駆動レーザシステムを提供する。
【解決手段】固体シードレーザ主発振器レーザと駆動レーザ出力光ビームを生成するガス放電エキシマレーザ利得発生器とを含むＥＵＶ駆動レーザシステムを含むことができる装置及び方法。固体シードレーザは、同調可能とすることができる第３高調波Ｎｄ：ＹＬＦレーザを含むことができる。ガス放電エキシマ利得発生器レーザは、ＸｅＦエキシマレーザ電力増幅器又は電力発振器を含むことができる。固体レーザは、固体レーザを含むレーザ結晶の温度を変えることにより、又は波長選択要素、例えばリオ・フィルタ又はエタロンを利用することによって同調される同調可能レーザを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】パルスレーザビームの平均パワーを変動させるような光学装置がビーム経路内に挿入されている場合でも、パルスエネルギのしきい値を精度良く決定できるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源１１から出射されたパルスレーザビームを、分岐器１４が、測定用経路に沿って伝搬するレーザビームと加工用経路に沿って伝搬するレーザビームとに分岐させる。保持台２８が、加工用経路上に加工対象物１６を保持する。パワー測定器２０が、加工用経路に沿って伝搬するレーザビームの、ある期間の平均パワーを測定する。エネルギ測定器１７が、測定用経路に沿って伝搬するレーザビームのパルスエネルギを測定する。しきい値記憶手段１８ａが、パルスエネルギのしきい値を記憶する。制御装置１８が、エネルギ測定器で測定されたパルスエネルギの測定値と、しきい値記憶手段に記憶されているしきい値とを比較し、パルスエネルギの正常性を判定する。 （もっと読む）

【課題】波長可変領域の波長幅が十分に広く、かつ周波数チャーピングが光通信システムにおいて利用可能な程度に抑制された光パルスを発生する。
【解決手段】MLLD 1を含む光パルス生成部101と、CW光源19と、第1光学的結合手段110と、第2光学的結合手段112とを具えて構成される。光利得領域3と光変調領域2と受動導波領域4とを含む光導波路30が、MLLD内に形成されている。光利得領域には、p側電極9とn側共通電極7とを介して第1電流源11から定電流が注入される。光変調領域2にはp側電極8とn側共通電極とを介して電圧源12によって逆バイアス電圧が印加される。また、変調電圧源13によりMLLDの有する共振器周回周波数の自然数倍の周波数の変調電圧が光変調領域に印加される。CW光源の出力光は第1光学的結合手段を介してMLLDの光導波路に入力され、MLLDの出力光は第2光学的結合手段を介して外部に出力される。 （もっと読む）