【課題】２層の反転装置を用いて、基板の搬送、反転を合理的に行い、１台のレーザ露光機を用いるものでありながら、高い生産性で基板の両面露光を行う。
【解決手段】レーザ露光機８で露光された基板Ｂは、ハンドリング装置３１により反転装置１９の上方位置Ｕにある基板保持路２２_１に搬入される。同時に、待機部３５で待機している反転済の基板Ｂは、ハンドリング装置５６により露光台９上に移送される。両面露光済の基板Ｂは、下方位置Ｄの基板保持路２２_２から排出部３６に排出される。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法。
【解決手段】アライメント検出系で検出された両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスクとワークの位置ずれ量とワークのひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整し、算出されたひずみ量に基づいて、平面ミラー６６の曲率を補正する。曲率補正は、複数のレーザーポインタ９１から平面ミラー６６の裏面に複数のレーザー光Ｌを照射し、平面ミラー６６の裏面にて反射した複数のレーザー光Ｌが集光ミラー群９６で反射して反射板９２に投影され、該反射板９２に映りこんだ複数のレーザー光Ｌをカメラ９３によって撮像する。平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光の変位量を検出し、該変位量が算出されたひずみ量と対応するように曲率補正する。 （もっと読む）

【課題】光源から出る多波長光のうち、所望の波長の光を容易に選択することができるようにした露光波長調節装置及びそれを利用した露光機を提供する。
【解決手段】本発明による露光波長調節装置は、光源から出射される多波長の光の入力を受け、分離屈折させて多数の波長を出力する分離屈折部；前記分離屈折部で分離屈折されて入射される多数の波長の光経路を変化させるミラー；及び前記ミラーで反射される多数の波長の光の一部を通過させる部分光通過部を含む。 （もっと読む）

【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。アライメント系４は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークＡＭを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】工程が煩雑でなく、基板の表裏で金属酸化物膜の材質や膜厚が異なる場合でも、適切なパターンを形成できる金属酸化物膜パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板の片面に、金属錯体Ａを含む膜αを形成する第１の膜形成工程と、反対側の面に、金属錯体Ｂを含む膜βを形成する第２の膜形成工程と、前記膜αを、波長領域λ₁を含む光を用い露光する第１の露光工程と、前記膜βを、波長領域λ₂の光を用い露光する第２の露光工程と、前記膜αを現像する第１の現像工程と、前記膜βを現像する第２の現像工程と、前記金属錯体Ａ及び前記金属錯体Ｂを、それぞれ、金属酸化物に転化する転化工程と、を備え、前記金属錯体Ｂは、前記波長領域λ₂の光を照射したとき、前記金属錯体Ａに前記波長領域λ₂の光を照射した場合よりも、前記現像液に対する溶解性が大きく変化することを特徴とする金属酸化物膜パターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】精度よく動作することが可能な圧電アクチュエータおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】誘電体１０の中央部１０３の上面には、第一電極１１と、第一電極１１とは異なる極性の電圧が印加される第二電極１２とが、左右方向に交互に並んで設けられている。中央部１０３の底面には、第三電極１３と、第三電極１３とは異なる極性の電圧が印加される第四電極１４とが、左右方向に交互に並んで設けられている。第一、第二電極１１，１２は、誘電体１０の底面に設けられた第三、第四電極１３，１４に対向しない。第一間隔部１０４における分極方向は、第一電極１１から第二電極１２に向かう方向である。第二間隔部１０５における分極方向は、第三電極１３から第四電極１４に向かう方向である。第一〜第四電極１１，１２，１３，１４に電圧を印加して、圧電アクチュエータ１を振動させる。 （もっと読む）

【課題】遮光性能の高い黒色感光性樹脂を安定的に加工する製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に形成された黒色感光性樹脂層に対して露光工程、現像工程、加熱硬化工程を順次行うことにより透明基板上に黒色遮光パターンを形成する黒色遮光パターン基板の製造方法において、該露光工程が、（１）透明基板の黒色感光性樹層が形成された側からパターン露光を行う工程と、（２）透明基板の黒色感光性樹層が形成されていない側から全面露光を行う工程、とを有することを特徴とする黒色遮光パターン基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板と部材とが誤った相対向きでセットされたことを検知する。
【解決手段】プリント配線基板を製造する際に、部材２０，３０と相対位置が設定される基板本体１の主面１Ａの処理領域Ｐの中心を対称点Ｑとする点対称、又は対称点Ｑと処理領域の対向する２辺の中点とを含む直線を対称軸Ｒａ，Ｒｂとする線対称の関係にある処理領域Ｐに形成された複数の位置合わせ用マーク１３，１４と、これらのいずれとも点対称の関係及び線対称の関係に無い非対称領域に表裏判定用マーク１１，１２が形成された基板本体１を所定の位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２の対向位置に部材側表裏判定用マーク２１，３２が形成された部材２０，３０を基板本体１の対向位置にセットする工程と、表裏判定用マーク１１，１２と部材側表裏判定用マーク２１，３２との位置関係に基づいて基板本体１と部材２０，３０の相対向きの正誤を判定する判定工程を有する。 （もっと読む）

【課題】透明基材の両面の透明金属膜上に設けたフォトレジスト膜に同時に、両面に異なるパターン露光を行っても、エッチング及び剥離処理後の透明基材の両面に位置精度の良好な透明金属膜パターンを効率よく、簡便に形成することのできる透明基材両面へのパターン形成方法を提供する。
【解決手段】透明基材２１の表裏両面に設けた透明金属膜２２Ａ、２２Ｂをパターンに形成する際に、透明金属膜の少なくとも一方の透明金属膜上に露光光を遮光する不透明層２７を形成し、フォトレジスト膜２３Ａ、２３Ｂを形成する。不透明層がエッチング及び剥膜処理にて溶解除去される材料である。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】ワーク１２とマスク２１の両アライメントマークをアライメント検出系５２で検出する工程と、両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出し、算出された位置ずれ量に基づいて、アライメントを調整する工程と、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６の曲率を補正する工程と、を備える。曲率補正工程は、露光光束の光路ＥＬにおいて平面ミラー６６より露光面側からレーザー光Ｌを照射し、カメラ９３によって撮像する工程と、平面ミラー６６の曲率を補正した際に撮像されるレーザー光Ｌ、Ｌ´の変位量Ｓ１，Ｓ２を検出する工程によりひずみ量α、βと対応するように曲率補正する。 （もっと読む）

【課題】マスクライブラリを備える両面露光装置において、ワークの露光処理に要する全体の時間を短くし、スループットの低下を防ぐこと。
【解決手段】ワーク搬入搬出部２０に搬送されてきたワークＷを、ワークステージ４に搬送し、ワークＷに、マスクライブラリ６から取り出した第１面（表面）露光用のマスクに形成されたパターンを露光する。そして、反転ステージ部３０でワークＷを反転させ（裏返し）ワーク保管部４０に保管する。このようにて１ロット分のすべてのワークの第１面（表面）を露光する。ついで、マスクを第２面（裏面）露光用のマスクに交換し、ワーク保管部４０から第１面露光済みのワークを取り出し、ワークの第２面（裏面）を露光する。裏面の露光が終わったワークＷは、第１のワーク搬送機構５０ｂにより、ワーク搬入搬出部２０に搬送される。 （もっと読む）

【課題】 露光マスクから基板を素早くかつ確実に剥離させる。
【解決手段】 露光ステージ１と上枠２の双方に、突出動作して基板１０の一端を露光マスク１１から引き剥がす方向に押圧するプッシャ１２を設け、プッシャ１２に基板１０と露光マスク１１の間に対して気体を噴出するノズル２１を形成した。プッシャ１２は基板１０の端部を押圧する部位に設置され、ノズル２１は剥離対象の基板１０の中央に向けて気体を噴出するよう形成され、ノズル２１から噴出させる気体は、静電気除去作用を有するイオン化された気体とした。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】高い生産性を維持しつつ、設備費を軽減することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに隣接して且つ平行に配置された一対の露光ユニット１，２と、該一対の露光ユニット１，２のそれぞれが共用する光源手段３と、を含む。露光ユニット１，２の各々は、帯状基板４をその長手方向に沿って間欠的に送るための搬送機構５，６，７，８と、帯状基板４の搬送経路に配置された露光部９にして、少なくとも一つのフォトマスク１０を有する露光部９と、を備える。光源手段３は、フォトマスク１０に描かれたパターンを帯状基板４の露光面に転写するために、一対の露光ユニット１，２におけるそれぞれの露光部９へと交互に光を照射可能となされている。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表裏に互いに位置合わせされたパターンを形成するときに、これらのパターンがガラス基板の熱収縮によってずれることを防止する。
【解決手段】
まず、ガラス基板が収縮する温度よりも低温で、最終的に形成するポジパターンを反転させたネガパターンを、ガラス基板の表裏に互いに位置合わせして形成する。次に、ガラス基板が熱収縮する温度以上の高温で、ネガパターンを覆うように、ガラス基板の表裏にそれぞれポジパターンの材料を成膜する。そして、ネガパターンを剥離することにより、ガラス基板の表裏に、互いに位置合わせされたポジパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】ウエハに対してマスクを高精度に位置合せした上で、一度の露光でウエハの両面にパターンを同時露光すること。
【解決手段】互いに対向して配置されると共に、パターンＰが予め描画されたマスクＭ１、Ｍ２がそれぞれ装着される第１マスク装着部３及び第２マスク装着部２と、両マスクの間に挟まれるように配置されたウエハＳに対して両マスクを通して光を照射して、ウエハの両面にパターンを露光させる露光手段１４と、を備え、両マスク装着部は、それぞれに装着されたマスクが互いに平行に配置される構成とされた装置であって、両マスク装着部のうち少なくとも一方のマスク装着部には、前記一方のマスク装着部に装着された一方のマスク上の所定位置に配置されたウエハを、前記一方のマスクに形成された貫通孔Ｍ１ａを通して吸着しうる吸着手段３４が備えられているウエハ露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線用基板の片面及び両面露光を効率的に行える露光装置を提供する。
【解決手段】上流露光機１は、プリント配線用基板を載置するプラテン１５を備え、露光光１６により、プリント配線用基板にフォトマスクのパターンを露光する。下流露光機３も同様に露光光３６により露光を行う。反転／搬送機２は反転機の機能と、単なる搬送機の機能を備えており、制御装置５から制御により、反転機モードと搬送機モードに切り換るように構成され、反転機モードの場合には、反転／搬送機２においてプリント配線用基板を表裏反転させ、プリント配線用基板の裏面側を表にして下流露光機３に送る。プリント配線用基板の片面露光の時は、反転／搬送機２を搬送機モードとし、反転／搬送機２はプリント配線用基板を反転せず、そのまま下流露光機３に送る。 （もっと読む）

【課題】パターンの断面の逆台形状を解消し、上下面の幅の差異は無くし、パターンの物性を均一にするパターン形成方法、カラーフィルタのブラックマトリックス２、フォトスペーサー５、配向制御用突起 などを剥がれ難いものとし、導電性、弾性などを均一にするパターン形成方法。
【解決手段】パターン露光として、塗布膜１５の上面側にパターン露光を与え、塗布膜の透明基板１片面と接する下面側に上面側のパターン露光と同一パターンのパターン露光を与えること。塗布膜の上面側に与える露光量と、下面側に与える露光量が等量であること。パターンが、カラーフィルタを構成するパターンである。 （もっと読む）

【課題】両側の開口面の大きさが揃っている貫通孔を有する加工基板、及び当該加工基板を容易に且つ生産性良く製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の加工基板１は、光透過性を有する基板に複数の貫通孔６が設けられてなる加工基板１であって、各々の上記貫通孔６における、より大きい開口面の径とより小さい開口面の径との差が、上記より大きい開口面の径に対して５％以下であるので、両側の開口面の大きさが揃っている貫通孔６を有する加工基板１を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】補助基板が取り付けられた本体基板が、所定位置に正確に位置決めされて基板の製造が行われる基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基板の製造方法は、まず、本体基板１の表面側にパターンを形成すると共に、アライメントマーク７を形成する。そして、本体基板１の表面側に補助基板９を接着する。そして、形成されたアライメントマーク７とマスク１５とが位置決めされた状態で、マスク１５を介して本体基板１の裏面側に露光させ、本体基板１の裏面側にパターンを形成する。そして、本体基板１の裏面側にパターンが形成されると、本体基板１から補助基板９を剥離する。 （もっと読む）