【課題】基板表面に形成されたレジスト膜の周縁部を短時間にて除去可能にすることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。
【解決手段】冷却プレート８１に保持された基板Ｗの表面の全面にはほぼ均一な厚さにてレジスト膜ＲＦが形成されている。フラッシュ照射部６０は、投光光学系６１を備えており、フラッシュランプＦＬから出射されたフラッシュ光を集光してレジスト膜ＲＦの周縁部ＲＦＥのみに一括照射する。フラッシュ光照射により周縁部ＲＦＥはガラス転移点Ｔｇ以上に加熱され、脱保護反応によって現像液に溶解可能となる。フラッシュ光照射によるレジスト膜ＲＦの周縁部ＲＦＥの加熱処理は処理時間が１秒以下の極めて短時間の処理であり、しかも周縁部ＲＦＥの全体に一括してフラッシュ光が照射されるため、その周縁部ＲＦＥを短時間にて除去可能とすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上の複数箇所に遮光マスクを用いて露光を行う際に、基板と遮光マスクの位置合わせが1回のみで、複数箇所の露光を精度良く、しかも短時間で行うことが可能な偏光露光装置を提供する。
【解決手段】被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 （もっと読む）

【課題】簡易な構造で、印面となる光硬化樹脂を適正に硬化させるための露光状態が判別できるスタンプ基体を提供する。
【解決手段】本発明のスタンプ基体１は、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂１１から成る印面形成部２と、印面形成部２を保持する印面保持部３と、を備え、印面保持部３に、光の強度を測定する光強度測定部５と、光強度測定部５の測定結果および光硬化樹脂の硬化状況を整合させる露光指標部６と、を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】点灯開始後の高温プラズマ状態を安定に維持して発光を安定に維持させることができ、また発光管の加熱による点灯寿命の低下を抑制した光源装置を実現すること。
【解決手段】内部に発光ガスが封入された発光管１に、パルスレーザ発振部２１からパルス状のレーザビームと、連続波レーザ発振部２５から連続波のレーザビームを入射させ、発光管１内で両ビームが重なるように集光させる。点灯開始時に、パルス状のビームによって、高温プラズマ状態を形成させ、この高温プラズマ状態が形成された位置に、パルス状のビームより強度の小さな連続波のビームを重ね合わせることで、高温プラズマ状態を安定に維持させることができる。また連続波のビームは、強度が小さいので、発光管が加熱されず長寿命とすることができる。上記発光管１内でビームを集光させる光学手段としては、例えば回折光学素子３１や、凸レンズや放物面鏡などを用いことができる。 （もっと読む）

【課題】ワークがひずんでいる場合でもワークの被露光領域に応じてマスクのパターンを精度良く露光転写することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】この露光方法は、ワーク１２のアライメントマークとマスク２１のアライメントマークとをアライメントカメラ５２で検出する工程と、アライメントカメラ５２で検出された両アライメントマークのずれ量に基づいて、マスク２１とワーク１２の位置ずれ量とワーク１２のひずみ量とを算出する工程と、算出された位置ずれ量に基づいて、ワークとマスクとのアライメントを調整する工程と、アライメント調整工程と同時又は別々のタイミングにおいて、算出されたひずみ量に基づいて、光源６１からの露光光の光束を反射する平面ミラー６６反射鏡の曲率を補正する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ４灯のランプを備える光照射装置において、ランプや集光鏡の交換などの光源部の保守が容易にできるような構造を提供すること。
【解決手段】 ４灯のランプが四角形の頂点になるように配置された光照射装置において、光源部を、ランプ２灯を一組とした２つのユニットに分割し、それぞれのユニットに引き出し案内（ガイドレール）を設ける。そして、２つのユニットを、それぞれ水平面において相反する方向（左右方向）に引き出す。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクおよび基板を水平状態で重ねて露光する方式の露光装置において、フォトマスクおよびその関連部材の保守点検を容易に行えるようにする。
【解決手段】露光装置は、固定フレーム３と、フォトマスク９を水平に支持するフォトマスク支持ベース４とを備える。フォトマスク支持ベース４は、枢軸５によって、固定フレーム３に対して枢動可能に取り付けられる。基板１０を水平に支持する基板支持台１３が露光位置Ｅから作業位置Ｗへと退避したのち、フォトマスク支持ベース４は枢軸５の軸線の回りを水平位置から垂直位置まで枢動可能となる。 （もっと読む）

【課題】被露光物をムラなく均一に露光することが可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも天井を有する本体と、この本体の前記天井下側に設置され、紫外線を放射する複数のブラックライトと、このブラックライトの下方に被露光物を保持することが可能な保持具と、を備え、前記保持具に前記被露光物が置かれた位置で、前記ブラックライトの間隔が、前記ブラックライトが放射する紫外線に応じて所定の均斉度を満たすように選定されてなる露光ユニットを有することを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】基板とフォトマスク及びプラテンの除塵を効率的に行うことにより、歩留まりの高い露光を実現する。
【解決手段】搬入ハンドの搬入と退避動作の際に、第１クリーニングヘッドがプラテンの上面に接触し除塵を行う。第２クリーニングヘッドはフォトマスクの除塵を行う。除塵に際して加圧装置１６により軸受１７を通して軸２２に荷重をかけ、この荷重は硬質連結カラー２３、軟質連結カラー２４、ローラ芯２１、クリーニング部２０へと伝わり、クリーニング部２０がクリーニング面８に押し当てられる。加圧装置１６の荷重により軸２２は撓むが、軸２２の撓みは軟質連結カラー２４により吸収され、ローラ芯２１は撓まずにフラットな状態を保つ。これにより、クリーニング面への圧力分布が均一になり、効率的なクリーニングが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、最大膜厚位置が重心位置と異なる形状を有し、さらにその形状が滑らかであるマイクロレンズを簡便な方法で形成することができるマイクロレンズの製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基板上に形成された感光性樹脂層に対し、マイクロレンズ基礎形状形成用マスクを用いて露光を行う基礎形状形成用露光工程と、上記感光性樹脂層に対し、マイクロレンズ変形用マスクを用い、上記基礎形状形成用露光工程の際の露光とは異なる単位セル露光プロファイルを有する露光を行う変形用露光工程と、を有し、最大膜厚位置が重心位置と異なるマイクロレンズを形成することを特徴とするマイクロレンズの製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】下側シャッターを他のユニットと干渉することなく、露光と遮光との範囲の境界部においてマスクに接近して配置でき、且つ、上側シャッターをマスクから退避させた場合に、格納するための大きなスペースを必要としないコンパクトな近接露光装置を提供する。
【解決手段】近接露光装置ＰＥでは、露光領域を制限するマスクアパーチャ機構１９は、マスクＭに近接して配置され、露光領域の境界部を含む第１領域Ｓ１を遮光する下側シャッター７０，７１と、下側シャッター７０，７１よりも上方に配置され、第１領域Ｓ１と連続する第２領域Ｓ２を遮光する上側シャッター８０，８１を備え、上側シャッター８０，８１は、上面視における面積が可変である。 （もっと読む）

【課題】基板との干渉によるマスクの破損を確実に防止することができる露光装置を提供する。
【解決手段】分割逐次近接露光装置ＰＥは、マスクステージ１に保持されたマスクＭとワークステージ２に保持された基板Ｗとの間の所定の位置を略水平方向に通過するレーザビームＬＢを発光する発光部７１，７２と、レーザビームＬＢを受光する受光部７３，７４と、を有するレーザ監視装置７０と、受光部７３，７４におけるレーザビームＬＢの受光量が所定値以下となったとき、ワークステージの上昇移動を停止する制御装置８０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】平行光線を発する高価な光源装置によらなくても、十分な解像度が得られ、レジスト液の塗布工程と露光工程を同一の装置で行うことができるレジスト液塗布兼露光装置及び方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、スペーサを含有するレジスト液をフォトマスクに塗布する塗布手段と、塗布された特定レジスト液面にガラス基板を圧着する圧着手段と、フォトマスク面側から前記フォトマスクを通して前記特定レジスト液面に光を照射する光照射手段と、を具備するレジスト液塗布兼露光装置によって、フォトマスクに、スペーサを含有するレジスト液を塗布し、次にガラス基板をレジスト液面に押し当てて、余剰のレジスト液を押し出して、ガラス基板とフォトマスクに侠持されるレジスト液の膜厚を前記スペーサのサイズによって特定される一定の厚さにして、フォトマスク側から、光を照射して露光する。 （もっと読む）

【課題】 マスクの在庫管理が不要であり、ダイレクトイメージング法よりも高いスループットとすることが容易なパタン作製方法を提供する。
【解決手段】 パタン作製方法は、（ａ）表面にフォトレジスト膜が形成された基板の該フォトレジスト膜上に、インクジェットプリンタによりインク画像を描画する工程と、（ｂ）インク画像をマスクとして、フォトレジスト膜を露光する工程と、（ｃ）露光されたフォトレジスト膜を現像してレジストパタンを形成する工程と、（ｄ）レジストパタンをマスクとして、基板の表面を加工する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの立体形状を十分に制御することが可能なレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜を選択的に露光して現像することにより、フレアポイントに対応する位置Ｐ３に突起部６３Ｔを有する前準備レジストパターン６３を形成したのち、その前準備レジストパターン６３を加熱することにより、主磁極層を形成するためのレジストパターンを形成する。加熱工程において、前準備レジストパターン６３に突起部６３Ｔが形成されていることにより熱収縮の影響が緩和されるため、位置Ｐ３において前準備レジストパターン６３が丸みを帯びにくくなる。しかも、加熱工程では、前準備レジストパターン６３が熱流動および熱収縮することにより、開口部６３Ｋにおける内壁が傾斜すると共に突起部６３Ｔが後退する。これにより、フォトレジストパターンの立体形状が所望の立体形状に近くなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、マスクの作成コストを削減し、スループットも向上させる光照射処理装置及び処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 光源２と被処理基板４との間に設置されるマスク５上に形成されるマスクパターンを、マスク制御部６によって電気的に制御して変化させる。マスク５の材料としてはエレクトロクロミック材料等を用いる。 （もっと読む）

【課題】 高価な投影露光方式の露光機を使用せずに安価な近接露光方式の露光機を使用して露光パターンの高解像度化を容易に実現する。
【解決手段】 フォトマスクの開口部または遮光部に、それらの周囲に沿って補正パターン１５としての遮光パターンまたは開口パターンを設ける。これによって、フォトマスクの開口部または遮光部１４ａの外周と補正パターンとの直角部頂点が引っ張り合うような形で、最終的に基板上に形成されるパターンは、歪みも小さく、コーナーの丸み、すなわちＲ値も小さく抑えた形状を得ることができる。この結果、フォトマスクを容易に補正することができ、露光パターンの高解像度化が実現できる。 （もっと読む）

【課題】レーザー測長器からの計測光を反射するミラーを変形させることなく強固に固定することができ、基板ステージの位置測定を高精度に行うことができる位置測定装置のミラー固定構造を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板ステージ２０と、計測光により基板ステージ２０の位置を計測する測長器６１，６２，６３と、測長器６１，６２，６３から照射される計測光を反射するミラー６４，６５と、を備える位置測定装置のミラー固定構造であって、ミラー６４，６５が載置される平坦面７０ａ，７１ａと、平坦面７０ａ，７１ａに形成される吸引溝７２と、吸引溝７２内の空気を吸引する吸引口７３と、を備え、ミラー６４，６５は、平坦面７０ａ，７１ａに真空吸着によって固定される。 （もっと読む）

【課題】グレートーンパターンを用いて３次元構造物を形成するにあたり、継ぎ目の露光量誤差を低減させたステッチ露光により大面積の光学デバイスを作成すること。
【解決手段】本発明は、露光装置で用いられる露光用マスクＭにおいて、露光装置から出射される照明光を遮断する遮光パターンと、照明光を透過する透過パターンとの対から構成されるパターンブロックが複数連続して配置されているとともに、その連続するパターンブロックのピッチが一定で遮光パターンと透過パターンとの比率が徐々に変化するよう設けられて成る単位パターンｔと、この単位パターンｔがマトリクス状に配置されて成るアレイパターンｓとを備えており、アレイパターンｓの最外周となる単位パターンについて複数回露光した際の合計の露光量が、最外周とならない単位パターンについて１回露光した際の露光量とほぼ等しくなるよう設定されているものである。 （もっと読む）

【課題】 高いスループットで均質性の高いパターンを基板上に形成することができる光変調器を用いた露光装置を提供する。
【解決手段】 光源部と、前記光源部から射出された光束に対して所定の変調周波数で電気的に変調可能な複数の変調素子を有する光変調器８とを備え、前記光変調器８により形成された所定のパターンを感光性基板Ｐに露光する露光装置において、前記光源部は、第１発振周波数でパルス光を発振する第１光源Ｅ１と、第２発振周波数でパルス光を発振する第２光源Ｅ２とを有し、前記第１発振周波数及び前記第２発振周波数は、前記変調周波数の正の整数倍である。 （もっと読む）