【課題】ナノ構造体作製用型体の陽極酸化皮膜の膜厚を調整することで、耐傷性や耐久性等を有するナノ構造体作製用型体とそのナノ構造体作製用型体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ナノ構造を利用したナノ構造体を作製するための型体であって、アルミニウム材料の表面に陽極酸化皮膜が形成されたものであり、該陽極酸化皮膜は、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下でポアを有し、該ポアは、テーパー形状部とその下部にある細孔形状部とからなり、該テーパー形状部は、陽極酸化皮膜の表面では広く開口しており、深部に入るに従って徐々に細くなっていくテーパー形状となっており、該細孔形状部は、実質的に等しい径の細孔形状となっており、該テーパー形状部を有するテーパー形状層の下側に連続して細孔形状部を有する細孔形状層を有することを特徴とするナノ構造体作製用型体。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が２次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】曲面、傾斜および段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが０．１μｍ〜１００００μｍである表面が一部若しくは全部である基板上に形成する、粒子が２次元に最密充填した単粒子膜であって、
下記式（１）で定義される粒子の配列のずれＤ（％）が１０％以下であることを特徴とする単粒子膜。
Ｄ（％）＝｜Ｂ−Ａ｜×１００／Ａ・・・（１）
（式（１）中、Ａは前記粒子の平均粒径、Ｂは前記単粒子膜における前記粒子間の平均ピッチを示す。） （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法及びパターン形成体を提供する。
【解決手段】パターン形成方法は、基板上に第１層目のハードマスク層１２、エッチストッパ層１３、第２層目のハードマスク層２２を形成し、該ハードマスク層及びエッチストッパ層をパターニングし、該ハードマスク層をエッチングマスクとして基板１１に異方性エッチングを行う。複数の段差を備えた微細な３次元構造パターン形成方法及びパターン形成体。 （もっと読む）

【課題】成形型の隙間に樹脂が浸入するのを防止し、成形されるレンズにバリが発生するのを防止する。
【解決手段】上型及び下型、並びに前記上型及び前記下型の周囲を囲む胴型を含み、前記胴型内で前記上型と前記下型との間に樹脂を挟んで該樹脂を所定のレンズ形状に成形する成形型は、対向する前記胴型の内周面と前記上型の外周面との間、及び対向する前記胴型の内周面と前記下型の外周面との間を充填する充填体を備える。 （もっと読む）

【課題】モールド金型やモールド樹脂を成形加工して得られる成形品との剥離性に優れ、また、モールド金型への追従性にも優れ、１８０℃前後の使用温度における耐熱性と機械的強度をも併せ有する離型用フィルムを提供する。
【解決手段】エチレン系共重合体ゴム１００質量部にポリエチレン系樹脂２５〜４００質量部を混合してなる樹脂組成物を押出成形して得られるフィルムに、電離性放射線を照射して架橋させてなるベースフィルムの少なくとも一方の面に、加水分解性部位を含むシリル基を分子内に有するフルオロシリコーン化合物を含有する離型組成物を塗布、乾燥して得られるフルオロシリコーン化合物層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】表面が曲面形状または凹凸 形状を有する基板上に、平滑性の高い被エッチング層と熱反応型レジスト材料を積層した積層体を設けることを目的の一つとする。
【解決手段】曲面形状または凹凸形状の基板上に、フロン系ガスを用いたドライエッチング処理に用いられ、且つ元素群Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂから少なくとも１種類を含む元素及びその酸化物、窒化物、硫化物、炭化物、セレン化物、シリサイドのいずれかから選択されるドライエッチング材を含むドライエッチング層と、前記ドライエッチング層の上に熱反応型レジスト層とを積層する。 （もっと読む）

【課題】成形面に複数の細孔を有するポーラスアルミナが形成されているとともに、十分な硬度及び機械的強度を有する素子及び成形用金型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】所定の比率でバルブ金属又はその合金を含有する金型基材10の成形面に、上記比率より高い比率でアルミニウムを含むアルミニウム膜20を形成し、アルミニウム膜20に陽極酸化により複数の細孔を有するポーラスアルミナ21を形成することを特徴とする金型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】被成形対象に押し当てることによって前記被成形対象に微細なパターンを転写する転写用の型であって、製造が容易である転写用の型を提供する。
【解決手段】被成形対象１３に押し当てることによって被成形対象１３に微細なパターンを転写する転写用の型４１において、転写を行うための転写装置１に着脱自在であると共に、転写装置１に取り付けられた状態で受ける力、転写装置１に取り付けられ押し当てがされたときに受ける力に対して、剛性を備えたベース部材１０３と、微細な転写パターンが形成されベース部材１０３に一体的に貼り付けられている剛性の小さい型部材１０４とを有する。 （もっと読む）

【課題】Ｎｉ ｔｏ Ｎｉ電鋳において、再現性よく凹凸パターンの良好なＮｉ複盤の形成を可能とし、かつ１００ｎｍを切るスケールにおいても適用可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤１２において、凹凸パターンに沿って上記表面に、フッ素化合物を含有した離型層１４を備える。フッ素化合物はパーフルオロポリエーテルが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い防眩効果を示しながら、白ちゃけを防止し、画像表示装置に配置してギラツキが発生せず、コントラストの低下がない防眩フィルムの凹凸形状を有する金型を製造し、その金型を用いて、優れた防眩フィルムを製造する。
【解決手段】金型用基材１の表面を研磨する研磨工程と、研磨された面に平坦部と凹部３からなる第１凹凸面４を形成する第１凹凸面形成工程と、第１凹凸面をエッチング処理によって鈍らせて第２凹凸面１１を形成する第２凹凸面形成工程と、形成された第２凹凸面にクロムめっきを施すめっき工程とを含み、第１凹凸面における平坦部の占める面積をＡ（％）とし、凹部の平均深さをＢ（μｍ）とし、凹部の中心間直線距離の平均値をＣ（μｍ）とし、第２凹凸面形成工程におけるエッチング深さをＤ（μｍ）としたときに、特定の条件を満たすことを特徴とする防眩フィルム製造用金型の製造方法ならびに当該金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】再生可能な微細凹凸パターン表面を有する構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された凹凸パターン層が２層以上積層された積層構造体からなり、上層の凹凸パターン層を剥離することにより、その内側に下層の凹凸パターン層の凹凸パターン表面を露出可能に構成されていることを特徴とする、表面に微細凹凸パターンを有する構造体およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】充分な離型性を有し、元型モールド上のパターンへの被転写物の充填を良好に行い、精度良くパターンを転写させる。
【解決手段】インプリントにより所定の凹凸パターンを被転写物に転写するためのモールドに設けられる離型層において、前記モールドにおける前記凹凸パターンの凹部に前記離型層越しで前記被転写物を充填するため、エネルギーによる処理によって前記離型層の表面自由エネルギーを変動させることによる表面自由エネルギーの最適化がなされている。但し、前記エネルギーによる処理とは、熱エネルギー及び／又は光エネルギーによる処理のことである。 （もっと読む）

【課題】再生ガラスモールドの表面にそのモールドに関する情報を容易に付与する。
【解決手段】本発明のモールド再生方法は、形状評価工程と、形状補正加工工程と、再マーク処理工程とを有する。形状評価工程では、使用後の成形型から回収されたガラスモールドの形状を評価する。形状補正加工工程では、形状評価工程で形状の補正が必要と判断されたガラスモールドを研磨して再生ガラスモールドを生成する。再マーク処理工程は、貫通孔形成工程と、貼付工程と、ブラスト処理工程と、剥離工程とを含む。貫通孔形成工程では、保護シートに再生ガラスモールドに関する情報を示すマークの形状の貫通孔を形成し、貼付工程では、貫通孔が形成された保護シートを再生ガラスモールドの表面に貼り付ける。ブラスト処理工程では、再生ガラスモールドの保護シートが貼り付けられた面にブラスト処理を施し、剥離工程では、再生ガラスモールドから保護シートを剥離する。 （もっと読む）

【課題】モールドのパターン内部への樹脂充填性と、樹脂層に対するモールドの離型性を確保したパターン形成方法と、このパターン形成方法を利用したナノインプリント転写に使用するナノインプリントモールドとナノインプリント用転写基材とを提供する。
【解決手段】ナノインプリントモールド１を、基体２と、この基体２の一方の面２ａに位置する転写形状部３と、少なくとも転写形状部３上に位置する濡れ性変化層４とを備えたものとし、濡れ性変化層４は第１の波長の光を照射することによる水に対する接触角の減少と、第２の波長の光を照射することによる水に対する接触角の増加が可逆的に起こるものとする。 （もっと読む）

【課題】基板表面にナノオーダーの微細な凹凸面のナノ構造を有する光学素子用成形型、同ナノ構造を有するセンシングチップ用光学素子及び同ナノ構造有する蛍光測定用光学素子を実現する。
【解決手段】基板２上に１層以上のエッチング転写層３を形成し、このエッチング転写層３上に半球状の微粒子生成用の薄膜４を形成し、熱反応、光反応、ガス反応のいずれか、またはそれらの複合反応を用いて、薄膜４に、その物質の凝集作用、分解作用、または核形成作用を生じさせて、半球状の島状微粒子５を複数、形成し、複数の島状微粒子５を保護マスクとしてエッチング転写層３及び前記基板２を反応ガスによって順次エッチングして、基板２の微細な表面に錐形状のパターンを形成して、基板２表面に微細な凹凸面（ナノ構造型面）１’を有する光学素子用成形型１を製造する。 （もっと読む）

【課題】樹脂部へのパターン転写の際に生じるバリに起因する悪影響を抑制することが可能なナノインプリント用モールドの製造方法等を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールドの製造方法は、パターン５Ｐが形成された第１面５Ｓ１と、第１面５Ｓ１とは反対側の第２面５Ｓ２とを有し、紫外線が透過可能な材料からなるモールド本体部５を準備する工程と、モールド本体部５を固定するための表面３Ｓを有し、紫外線が透過可能な材料からなるモールド基体部３を準備する工程と、モールド本体部５の第２面５Ｓ２をモールド基体部３の表面３Ｓの一部に固定する工程とを備える。モールド本体部５において、第１面５Ｓ１から第２面５Ｓ２に向かう方向と垂直方向の幅が、一定、又は、第１面５Ｓ１から第２面５Ｓ２に向かうに従って減少する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反射防止層における微細凹凸パターンの凸部先端の割れ等に対する機械強度、スティッキング耐性および型抜き性に優れた反射防止フィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、光透過性基板と、上記光透過性基板上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された凹凸形状を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、上記反射防止層が、上記光透過性基板上に形成された基底部と、上記基底部上に形成され、上記凹凸形状からなる微細凹凸とを有し、かつ上記微細凹凸における凸部が、上記光透過性基板に対してテーパー状に立ち上がる錐台形状の本体部と、上記本体部の頂面を覆うように形成された曲面構造を有する先端部とから構成されてなることを特徴とする反射防止フィルムを提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する
【解決手段】レジストパターン２を形成した後に、前記レジストパターンの上に、オゾンアッシングからレジストを保護する保護膜３を形成し、次に、大気中のように、酸素が存在する雰囲気中において、前記保護膜を介して前記レジストパターンに電子線４を照射し、その後、前記保護膜を除去してドライエッチング耐性が向上した前記レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを形成する際に生じるバリの高さを抑制することと、樹脂にパターン面を押し付ける際にモールドの基体部が樹脂に接触することを抑制することを両立することが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】モールド１ａは、モールド基体部３とモールド本体部５とを備える。モールド本体部５の表面５Ｓは、ナノインプリント用のパターン５Ｐが形成されたパターン面５Ｓ１と、パターン面５Ｓ１の外縁５Ｓ１Ｘ、５Ｓ１Ｙに沿って設けられた副表面５Ｓ２とを有する。表面３Ｓと垂直な方向における副表面５Ｓ２からモールド基体部３の表面３Ｓまでの最長距離Ｈ５Ｓ２は、モールド基体部３の表面３Ｓと垂直な方向におけるパターン面５Ｓ１からモールド基体部３の表面３Ｓまでの距離Ｈ５Ｓ１よりも短く、これらの差Ｄ５Ｓは、ナノインプリント用のパターン５Ｐの深さよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】良好なスループットを維持できるように十分な光透過性を有すると共に、被転写体に対する微細パターンの転写精度に優れ、しかも繰り返し転写性にも優れるナノインプリント用樹脂スタンパ及びこれを使用したナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】複数の重合性官能基を有する主成分としてのシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有し、前記シルセスキオキサン誘導体とは別の重合性樹脂成分と、光重合開始剤とを含有する樹脂組成物の重合体からなる微細構造体層を、光透過性の支持基材上に備えるナノインプリント用樹脂スタンパ３であって、前記光重合開始剤は、前記シルセスキオキサン誘導体、及び前記重合性樹脂成分の合計の質量に対して、０．３質量％以上、３質量％以下であり、前記微細構造体層は、波長３６５ｎｍの光を８０％以上透過することを特徴とする。 （もっと読む）