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Fターム[4F202CA19]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型全般の区分 (12,812) | 表面成形(←エンボス) (782)

Fターム[4F202CA19]に分類される特許

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【課題】極めて平坦度が高く、かつ、微小欠陥(凹状欠陥、凸状欠陥)を低減したマスクブランク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨パッド21,11が貼り付けられ上下に対向して設けられた上定盤20と下定盤10との間に、複数のガラス基板を挟持し、ガラス基板に上定盤側20より研磨液を供給しながら、ガラス基板の両主表面を両面研磨する。ガラス基板の形状は四角形で、そのコーナー部においてノッチマークを少なとも1以上有する。ガラス基板の上記両面研磨は、ノッチマークが形成されていない一方の主表面を上定盤20側にセットして行う。 (もっと読む)


【課題】基板の裏面に凹部を有する場合においても、ドライエッチング加工における面内のエッチングレートを制御し、パターン精度に優れたテンプレートの製造装置及びテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、真空容器と、電極と、調整体と、を含むテンプレートの製造装置が提供される。前記真空容器は、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能とされている。前記真空容器は、反応性ガスの導入口と排気口とを有する。前記電極は、前記真空容器の内部に設けられ、高周波電圧が印加される。前記調整体は、絶縁体を主成分とする。前記調整体は、前記電極の上に載置される基板の前記電極の側の面に設けられた凹部に挿入される。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを有する処理製品、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置、前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法、及び製造された処理製品において、前記スタンパは前記処理製品基材から形成される処理製品の機能を果たすのに必要のないダミーパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】格子状に凹凸形状を有する層を備える光学シートを形成するロール金型を製造するに際し、製造効率を向上させることが可能なロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】格子状の凹凸形状を有する光学シートの凹凸形状部分を成形するロール金型10を製造する方法であって、円筒状又は円柱状の金型本体11を回転させ、金型本体の表面に、該金型本体の正面視で回転軸及び金型本体の直径方向に対して傾斜した螺旋状の第一の溝14を、回転軸方向に切削工具30を送って形成する工程と、金型本体を回転させ、該金型本体の表面に、金型本体の正面視で回転軸及び金型本体の直径方向に対して前記第一の溝とは異なる角度で傾斜した螺旋状の第二の溝16を、回転軸方向に切削工具35を送って形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、ベース膜厚のバラツキを低減できるスタンパ又はインプリント装置、精度のよい微細パターンを形成できる処理製品製造装置又は処理製品製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、スタンパ又は前記スタンパを用いてインプリントするインプリント装置又は前記インプリントによって処理製品を製造する処理製品製造装置又は処理製品製造方法において、前記スタンパは前記処理製品として機能を果たす正規パターンが必要とする深さ以上のダミー部分の深さを備えるダミーパターンを有する。 (もっと読む)


【課題】複数の凸部を有し光の反射を防止し得る反射防止フィルムの作製に用いられる型を簡便に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】型の製法方法は、陽極酸化処理により、金属製基板30の表面30aに複数の孔36を形成する工程と、化学蒸着法または物理蒸着法により、少なくとも隣り合う二つの孔の間に位置する金属製基板の表面に、皮膜40を形成する工程と、を備える。反射防止フィルム10の凸部15を形成するための凹部25が、孔36および皮膜40によって画成される。 (もっと読む)


【課題】光学シートを形成するロール金型を製造するに際し、溝の切削開始部と溝の切削終了部とで、溝形状が変化してしまうことを抑制できるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シート10の凹凸部分を成型するための環状突起22と溝23とを交互に有するロール金型20を製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体21を回転させ、切削工具30により光学シートの凸部13に対応する溝を被加工層に形成する切削工程を含み、該切削工程は、溝が完成後の開口部形状を有するように溝の開口部側の一部を切削する第1切削工程と、該第1切削工程によって開口部側の一部が切削された溝であって、該溝の両側の溝に対しても第1切削工程が行われているについて、目的の深さまで切削する、第2切削工程とを含んでいることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低反射特性に優れた表面微細構造を成型する。
【解決手段】原版の基板材料として、ニオブ酸リチウム単結晶基板41を用い、この基板41の表面上に、ドライエッチング用のマスクとしてCrなどの金属薄膜42を成膜してこの上に樹脂微細パターン44を生成し、これをマスクとしてエッチングを行って、金属微細パターン45を得る。この金属微細パターン45をマスクとして金属微細パターン45を収縮しながら、ニオブ酸リチウム単結晶基板41をエッチングすることで、微細構造中に平坦な面の殆ど存在しない構造を生成する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリント用のモールドにおいて、レジストの厚さムラを低減することを可能とし、かつモールドに高い耐久性を付与することを可能とする。
【解決手段】微細な凹凸パターン12が形成されたパターン領域13を一方の表面11に有し、かつ、他方の表面14における高低差分布に関する3σ値が1〜6nmであるパターン付基板10と、少なくともパターン領域13に対応する部分が中抜きされた形状を有し、かつ、パターン付基板10の厚さ以上の厚さを有する中抜き基板30と、上記他方の表面14と当該他方の表面14に対向する中抜き基板30の表面とを接合するように、パターン付基板10および中抜き基板30の間に形成された金属膜20とを備える。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントにおいて、モールドの耐久性を向上させる。
【解決手段】微細な凹凸パターン13を表面に有するモールド本体12と、この表面に形成された離型層14とを備えたナノインプリント用のモールド1において、離型層14が、主鎖を構成する原子数が20未満である短鎖離型剤20と、主鎖を構成する原子数が20以上である長鎖離型剤22とを含むものとする。 (もっと読む)


【課題】スタンパのコスト低減の要請に応得ることができ、ナノサイズの微細構造体やアスペクト比の高い微細構造体の製造に好適に使用することができる転写成形金型を提供する。
【解決手段】本発明に係る転写成形用金型は、微細構造を有するスタンパに溶融樹脂を押圧又は塗布し、冷却固化させてその微細構造が転写成形された微細構造体を成形する転写成形用金型であって、前記スタンパと、そのスタンパと周囲に所定のスキマをもって該スタンパを金型本体に保持固定するスタンパ固定部材と、前記スキマを詰める充填部材と、を有する。 (もっと読む)


【課題】パターン形状を良好に保ちつつ、モールドの表面に形成された凹凸パターンの凹部サイズよりもパターンサイズの小さい金属膜パターン付き基体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る金属膜パターン21の製造方法は、金属膜20、金属膜20上に光反応性接着層30、熱可塑性樹脂からなる疎水性高分子を主成分とするレジスト膜40がこの順に成膜され、モールド50の凹凸パターンをレジスト膜40に転写することによりレジスト膜パターン41を形成する。次いで、残渣処理後にレジスト膜パターン41を用いて、露出した金属膜20をウェットエッチングして金属膜パターンを形成する。そして、金属膜パターンのサイドエッチングを行うことによりモールド50の凹部のサイズよりも縮小されたパターンサイズの金属膜パターン21を得る。 (もっと読む)


【課題】 ブロック共重合体と電気めっき用ハードマスクを用いた、パターニングされた磁気記録ディスクのナノインプリント加工用マスタディスクの作製方法を提供する。
【解決手段】 パターニングされた媒体ディスクを作製するためのナノインプリント工程用のマスタディスクの作製方法は、導電基板と、ブロック共重合体の、ブロック共重合体成分の1つの、略半径方向の線および/または略同心円状の輪のパターンを形成する誘導自己組織化を利用する。基板上の、線および/または輪によって保護されていない領域内に金属を電気めっきする。ブロック共重合体成分を除去した後に、残っている金属のパターンをエッチングマスクとして使用して、最終的なマスタディスクまたは、後にマスタディスクの製造に使用される2つの別々のモールドのいずれかを製造する。 (もっと読む)


【課題】ドットパターンを有する領域と,ドットパターンを有しない領域と,を備えるモールドを高精度で作成可能とする。
【解決手段】実施形態のモールドの製造方法は,第1の高分子に親和な基板上に,第2の高分子に対して親和な第1の層を形成する工程と,第1の層に,第1,第2の開口を形成する工程と,第2の開口内にレジストを充填,硬化する工程と,ブロックコポリマーを含む第2の層を形成,自己組織化する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面1aを備えるレンズ本体1の凹レンズ面1aに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型5であって、反射防止部を転写する成形面部5aと、成形面部5aを湾曲可能に支持する基体部5と、基体部5を変形することにより成形面部5aを湾曲させる空洞部6、環状空洞部7、および流体供給部8と、を備える表面加工装置10を用いて、反射防止部を形成する。 (もっと読む)


【課題】レンズシートのレンズとなる金型の凸部を形成する際に、1種類のめっき液でも所望のレンズ形状を得ることを可能とする金型の製造方法及びレンズシートの製造方法を提供する。
【解決手段】板状基材1上にめっき導電膜2を形成し、めっき導電膜2上に所定の幅の溝状、円状又は多角形状の開口部4を有するレジスト5を形成し、ラウリル硫酸ナトリウム及びホルムアルデヒドの少なくともいずれかを含む第1添加剤と、芳香族スルフォン酸塩を含む第2添加剤と、芳香族イミドを含む第3添加剤Cとが各々添加されためっき液を用い、かつ、めっき導電膜2に所定電流を供給することで、レジスト5上の開口部4に対応する位置に、略半円柱状または略半球状のめっき構造物6を形成し、めっき構造物6が形成されているレジスト5上に金属めっきを行って、めっき構造物6の形状が反転転写された略半円柱形状又は略半球状の凹部8を有する金型9を形成する。 (もっと読む)


【課題】外部環境からの熱に起因した熱変形を低減するのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型8は、被処理体13に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部8aを有する。パターン部8aが設置されている側の面は、パターン部8aが配置された第1面と、パターン部8aが配置されていない第2面8bとを含む。型8は、第2面8bの表面に、外部環境からの熱を拡散させる熱拡散膜40(42、45)を有する。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段10を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段10により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段12を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段12により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段13を具備する。 (もっと読む)


【課題】高精度の微細パターンを有するインプリント用のパターンの形成方法およびテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】基板31にクロム薄膜41を積層し、クロム薄膜41上に重合性樹脂層33を形成して、準備した透明のインプリント用テンプレート10と石英基板31上の重合性樹脂層33とを重ね合わせて、インプリント用テンプレート10のパターンである第1のパターン13により重合性樹脂層33を賦型し、重合性樹脂層33に第1のパターンの逆型形状である凹凸で構成された第2のパターン43を形成する。第2のパターン43をマスクとして石英基板31上に第3のパターン45を形成する。第3のパターン45をマスクとして基板31の表面に凹凸で構成された第4のパターン47を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、スタンパのゆがみを補正するスタンパの変形機構を有しながらもスタンパの面方向における小型化を達成することができる微細構造転写装置を提供することにある。
【解決手段】微細構造を有するスタンパ2を用いて、被転写体1上の光硬化性樹脂組成物に微細構造を転写する微細構造転写装置15において、前記スタンパ2は、前記微細構造が形成される微細構造形成層4と、この微細構造形成層4における前記微細構造の形成面の反対側で、この微細構造形成層4に沿うように設けられる光照射層5と、この光照射層5における前記微細構造形成層4側の面と反対の面に配置されると共に、前記スタンパ2を前記被転写体1側に凸となるように湾曲させる圧電素子6と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


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