説明

Fターム[4F202CA19]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型全般の区分 (12,812) | 表面成形(←エンボス) (782)

Fターム[4F202CA19]に分類される特許

101 - 120 / 782


【課題】離型層としての堆積膜を表面に有するモールドの製造において、モールドの製造におけるスループットをより向上させることを可能とする。
【解決手段】離型層14としての堆積膜を表面に有するモールド1の製造において、堆積性ガス5a・5bを含むエッチングガスを用いて、石英基板10およびマスク層Mからなる構造体に所望の形状の凹凸パターンが形成されるとともに、堆積性ガス5a・5bの堆積物からなる堆積膜がこの凹凸パターンに沿って形成されるように石英基板10をプラズマエッチングする。 (もっと読む)


【課題】 小さな剥離力で被転写材料層からモールドを引き離すことができ、被転写物である被転写材料がモールドに付着するという不都合の発生を回避できるインプリント方法とインプリント装置とを提供する。
【解決手段】 本発明のインプリント方法は、モールドの凹凸構造領域を有する面とインプリント用の基板との間に、被転写物である被転写材料を介在させて、凹凸構造パターンを有する被転写材料層を形成する被転写材料層形成工程と、被転写材料層形成工程におけるインプリント用の基板とモールドとの間隙距離を広げるように引き剥がし力を作用させて被転写材料層からモールドを引き離す剥離工程と、を有し、引き剥がし力は、少なくとも2種類以上の異なる弾性の部分、または少なくとも2以上の異なる剛性の部分を介して、モールドと被転写材料層とが接触している領域に不均一に伝えられるように構成される。 (もっと読む)


【課題】新規な離型剤組成物、及びモールドを提供する。
【解決手段】少なくとも1種類の下記一般式(1)で表される化合物を含有する離型剤組成物である。式中、Xは置換されていてもよい環状基を表し;Yは少なくとも一つの吸着性基を有し、且つ芳香族性環状基を有しない、2価以上の連結基を表し;p1は1〜4の整数を表し、p2、p3およびp4はそれぞれ0〜4の整数を表し、qは0〜30の整数を表し、nは1〜10の整数を表し、sは1〜4の整数を表し、tは2〜10の整数を表す。
(もっと読む)


【課題】生産性の高いパターン形成方法を実現するテンプレート、テンプレートの表面処理方法、テンプレートの表面処理装置及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、凹凸パターンが設けられた転写面を有し、前記凹凸パターンの凹部に、光によって硬化する前の状態の光硬化性樹脂液を充填し、前記光によって前記光硬化性樹脂液を硬化させて形成される樹脂の表面に前記凹凸パターンを反映した形状を形成するためのテンプレートが提供される。前記テンプレートは、基材と、表面層と、を備える。前記基材は、凹凸が設けられた主面を有し、前記光硬化性樹脂液が硬化する光に対して透過性である。前記表面層は、前記基材の前記凹凸を覆い、前記凹凸の形状を反映した前記凹凸パターンを形成する。前記表面層の、前記光によって硬化する前の状態の前記光硬化性樹脂液に対する接触角は30度以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、液晶表示装置などのディスプレイの光源からの照明光路制御用光学レンズシートに関するものであって、その表面を形成している単位となる光学レンズが規則的に配置されている場合、液晶パネルの画素と光学レンズが干渉してモアレを生じ易いという問題と、その単位となる光学レンズの表面形状によっては、耐擦傷性や輝度の低下を生じるという問題があり、それらの解決を課題とする。
【解決手段】単位となる光学レンズの表面に、その単位寸法より微細な寸法の微細凹凸部を、3箇所以上で前記表面に沿って、前記表面を覆うように設けることにより、前記課題を解決するものである。 (もっと読む)


【課題】ハードマスクパターンを用いたドライエッチングで基板の表面に凹凸のパターンを形成する場合に、パターンの側面をボーイング形状にしないで垂直面に近づける。
【解決手段】基板上にハードマスク層を形成する第1工程(S2)と、ハードマスク層を覆う状態でレジスト層を形成した後、レジスト層をパターニングしてレジストパターンを形成する第2工程(S3〜S5)と、レジストパターンをマスクに用いてハードマスク層をエッチングしてハードマスクパターンを形成する第3工程(S6)と、ハードマスクパターンをマスクに用いて基板をドライエッチングすることにより、基板に凹凸のパターンを形成する第4工程(S8)と、を含み、第4工程(S8)においては、ハードマスクパターンの後退に寄与するガスを添加したエッチングガスを用いて基板をドライエッチングすることにより、基板のエッチングの進行とともにハードマスクパターンを後退させる。 (もっと読む)


【課題】 テンプレート領域内において光硬化樹脂に均一な光強度の光を照射することができるインプリント用テンプレート、その製造方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 実施形態に係るインプリント用テンプレートは、第1の基板を持ち、前記第1の基板の主面上に第1の凹凸パターンを有する第1の光硬化樹脂が設けられる。前記第1の基板の主面上に前記第1の凹凸パターンとはパターン密度が異なる第2の凹凸パターンを有し、かつ前記第1の光硬化樹脂と異なる光透過率を有する第2の光硬化樹脂が設けられる。 (もっと読む)


【課題】高精度な溝形状が外周面に形成されたプリズムシート製造用のロール金型の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のロール金型の製造方法は、シート状の基材上に略三角柱状の微細なプリズム部が繰り返し配置されたプリズムシートを製造するためのロール金型であって、プリズム部と相補的な形状を有する微小溝が外周面に設けられているロール金型の製造方法であって、少なくとも外周面に被削材が配置されたロール状の金型材料4の外周面を第1のバイト8で切削し、微小溝の深さの80%ないし95%を切削加工する第1切削工程と、第1のバイトとは異なる第2のバイト10で、微小溝の残り深さ分を切削加工する第2切削工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】細孔の深さのバラツキが抑えられたインプリント用ロール状モールドを製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、陽極酸化槽の電解液に浸漬されたアルミニウムからなる円筒状のアルミニウム基材に、通電部材を用いて通電して陽極酸化処理を行い、表面に複数の凹凸を有するロール状モールドを製造する方法であって、前記通電部材が前記アルミニウム基材に当接した状態で、前記アルミニウム基材の中心軸を回転中心として、前記アルミニウム基材を回転させながら、前記通電部材を通じて前記アルミニウム基材に通電を行う陽極酸化工程、を含むロール状モールドの製造方法等に関する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基本微細構造体同士を可能な限り近接させて、しかもこの基本微細構造体を高精度に位置決めした微細構造体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、表面に微細な凹凸パターンを形成した基本微細構造体3が基材2上で複数隣接して並ぶように配置した微細構造体1の製造方法において、前記凹凸パターンの反転凹凸パターン4bが形成された金型11上で前記凹凸パターンを有する硬化樹脂からなる前記基本微細構造体3を成形する基本成形工程と、この基本成形工程で得られた前記基本微細構造体3を前記基材2に移動する移動工程と、を有し、前記基本成形工程と前記移動工程とを2回以上繰り返すことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面に微細な凹凸形状が継ぎ目なく形成された、機械強度に優れたロール状モールドとその製造方法を提供する。
【解決手段】陽極酸化ポーラスアルミナの規則的な細孔配列を利用して形成された凹凸形状が、表面に継ぎ目なく形成されている連続インプリント用ロール状モールドと、それを作製するために、表面にホールアレー構造またはピラーアレー構造を有するロール状モールドの作製には、陽極酸化ポーラスアルミナ層を形成したパイプまたは丸棒形状のアルミニウム材を鋳型として用い、陽極酸化ポーラスアルミナ層の細孔内へ物質の充填を行い、鋳型を溶解除去することで、細孔配列が転写されたロール状モールドを製造できる。得られたロール状モールドは、ポリマー等の基板表面に継ぎ目なく微細なパターンを連続転写するためのインプリント用モールドとして使用できる。 (もっと読む)


【課題】外観が向上された金型を製造できる金型の製造方法、並びに、該製造方法によって製造された金型を用いることによって光学的性能が向上された、光学機能シート、光学フィルタ、及び表示装置を製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】円柱状体の外周面に平行に切削された複数の溝2と、該溝間に形成された山部3とを有する金型1の製造方法であって、山部の上面となる部分を切削した後に溝を切削することを特徴とする金型の製造方法、並びに、該製造方法によって製造される金型を用いる、光学機能シート、光学フィルタ及び表示装置の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】所定の微細な凹凸パターンを表面に有するモールドを用いたナノインプリントにおいて、基板上の硬化性樹脂にモールドを押し付け、その後これらを剥離する際に、硬化性樹脂パターンのそれぞれの凸部の端部が倒れることを抑制する。
【解決手段】ライン状の複数の凸部14および複数の凹部15から構成される微細な凹凸パターン13を表面に有するナノインプリント用のモールド1において、凹凸パターン13が、所定形状の端部15aを有する凹部15を少なくとも1つ含むものであり、所定形状が、上記端部15aを有する凹部15における当該端部15以外の部分であって当該端部15aに接続している接続部分15bの断面のアスペクト比よりも小さいアスペクト比の断面を当該端部15aが有するような形状であるものとする。 (もっと読む)


【課題】従来にない新規な手法によりパターン形成層を硬化させ、モールドの凹凸パターンを転写し得る微細構造体及びその製造方法を提案する。
【解決手段】転写部2となるパターン形成層2aにPTFE分散液を用いたことにより、モールド5の凹凸パターン上に形成したパターン形成層2aに対し電離放射線を照射することで、当該パターン形成層2aを硬化させることができる。かくして、本発明の微細構造体1の製造方法では、熱インプリント方式や、光インプリント方式とは全く異なる電離放射線Rによりパターン形成層2aを硬化させるインプリント方式であり、従来にない新規な手法によりパターン形成層2aを硬化させ、モールド5の凹凸パターンを転写し得る。 (もっと読む)


【課題】微細なパターンの形成に好適なインプリントモールド及びその作製方法、インプリントモールドを用いて製造されるパターン形成体を提供する。
【解決手段】インプリントモールドは、凹凸パターンが形成されている領域が、その周囲の面よりも高いメサ構造に形成される。このインプリントモールドの作製方法は、パターニングを行う領域の最外周を、所望のパターン領域の最外周よりも2μm以上外側に設定する。パターン形成体は、前記インプリントモールドの凹凸パターンを基材上の被転写層に転写して形成される。 (もっと読む)


【課題】2P法を用いて作製される微細構造転写物の厚みムラを低減すること。
【解決手段】(i)微細パターンAを備えたスタンパと透明基板とを用意し、スタンパまたは透明基板上に光硬化性樹脂原料を供する工程、(ii)光硬化性樹脂原料を挟むようにしてスタンパと透明基板とを対向配置させる工程、および、(iii)透明基板を介して光硬化性樹脂原料に光を照射して樹脂原料を硬化させ、それによって、微細パターンAの反転形状に相当する微細パターンが形成されて成る成形品を得る工程を含んで成り、工程(i)のスタンパとして、微細パターンAの形成領域内に隆起パターンBが設けられたスタンパを用い、工程(ii)では、隆起パターンBを介在させてスタンパと透明基板とを一定の間隔で対向配置させる。 (もっと読む)


【課題】大面積かつ表面に微細な櫛型の形状を有する構造体の製造方法、その構造体によって作製される樹脂成形用金型の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、少なくとも2つの溶融樹脂を縦方向に配列して隣接させた積層流を上下に2分割した後左右に配列させる工程を、左右を替えながら交互に繰り返して積層構造体を形成する工程(1)と、前記積層構造体の主面に、前記2種類以上の異なる熱可塑性樹脂が配列して露出した表面を形成する工程(2)と、前記表面から前記積層構造体を構成する熱可塑性樹脂の内の少なくとも1種類の樹脂を優先的に除去することで前記表面上に櫛型の凹凸構造を形成する工程(3)とを、含むことを特徴とする櫛型構造を有する樹脂構造体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】融点が300℃以上の被転写材料に対しても母型の転写パターンを破壊せずに繰り返し転写させることができる転写構造体の製造方法及びそれに用いる母型並びに耐熱性が高い微細構造体を提供する。
【解決手段】表面に転写パターンが形成された母型をオゾン洗浄し、オゾン洗浄した母型の表面に、下記一般式(I)で表されるシランカップリング剤の膜を形成し、シランカップリング剤の膜が形成された母型の表面に被転写材料を付与するとともに300℃以上に加熱することにより被転写材料に母型の表面の転写パターンを転写させる(式(I)中、nは10、12、又は14の整数を示し、mは3又は4の整数を示し、X、Y、Zは、それぞれ独立して、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、又はハロゲン原子を表す。)。
(もっと読む)


【課題】高い精度で安定したパターン形成が可能であり、取扱い性にも優れたモールドと、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールド1の一方の面をパターン形成用の凹凸構造領域2を有するパターン形成面1Aとし、他方の面をベース面1Bとし、少なくともパターン形成面1Aおよびベース面1Bにポリジメチルシロキサン層を備えたものとし、パターン形成面1Aに位置するポリジメチルシロキサン層3を、低分子量シロキサンを[−Si(CH32O−]k(kは3〜20の整数)で表される環状構造としたときに、低分子量シロキサンの含有量が2000ppm以上である高含有率ポリジメチルシロキサンからなるもの、ベース面1Bに位置するポリジメチルシロキサン層4を、上記の低分子量シロキサンの含有量が1000ppm以下である低含有率ポリジメチルシロキサンからなるものとした。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置において基板保持面またはモールド保持面に存在する異物を除去するために有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に塗布された樹脂とモールドのパターン面とを接触させて該樹脂を硬化させるインプリント装置100は、前記基板を保持する基板保持部4と、モールド保持面MSで前記モールドを保持するモールド保持部3と、前記モールド保持部3に対して前記基板保持部4を相対的に移動させる駆動機構と、前記基板保持部4により前記基板の代わりにクリーニング部材12が保持されて前記クリーニング部材12と前記モールド保持面MSとが接触した状態で前記モールド保持部3に対して前記基板保持部4が相対的に移動するように前記駆動機構を制御し、これにより前記モールド保持面MSをクリーニングする制御部20とを備える。 (もっと読む)


101 - 120 / 782