【課題】硬化後の塗工層の両端部領域から硬化樹脂が剥がれることが抑えられることにより、高品質で欠陥なく、かつ生産性よく光学フィルムを製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学フィルムの製造方法は、基材フィルム上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程と、塗工層の基材フィルムの搬送方向と直交する方向の両端部領域に、活性エネルギー線を照射する第１硬化工程と、塗工層の表面に鋳型の表面を押し当てた状態で、基材フィルム側から塗工層に活性エネルギー線を照射する第２硬化工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明のナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィーによるパターン形成方法において、レジスト膜の剥がれが生じ難い形状転写層を形成することができるという効果を奏するものである。
【解決手段】 （Ａ）重合性化合物と、（Ｂ）２５℃、１ａｔｍの条件下においてＡＳＴＭ−Ｄ３５３９に準拠して測定される相対蒸発速度の値が、酢酸ブチルの値を１としたとき１〜１５の範囲内にある有機溶媒とを含有し、（Ａ）成分１００重量部に対して（Ｂ）成分を０．０１〜１０重量部含有する、ナノインプリントリソグラフィー用硬化性組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】温度変化によりマスクとローラーモールドの相対位置にズレが生じたとしても当該ローラーモールドのレジスト上での描画位置のズレを最小化できるようにする。
【解決手段】温度変化による影響を受けない系として扱うことができる絶対系を規準としてローラーモールド１００の位置を測定し、さらに、電子ビーム照射装置２から照射された電子ビームの一部を透過させるマスク３の位置を測定し、ローラーモールド１００と、該ローラーモールド１００を支持するローラー支持治具２０と、マスク３と、該マスク３を支持するマスク架台３０とのうちの少なくとも一つにおいて相対的位置ズレが生じた場合に、ローラーモールド１００およびマスク３の位置の絶対系との差分に基づく相対的ズレ量を検出し、ローラーモールド１００およびマスク３の少なくとも一方を動かし、電子ビームによるローラーモールド１００のレジスト上での描画位置のズレを最小化する。 （もっと読む）

【課題】インプリントプロセスにおけるアライメントに関する制御条件を工夫し、より好適なアライメント制御が可能となるインプリント方法を提供する。
【解決手段】モールドと基板の位置合わせの制御を行って、基板上のパターン形成層にモールドに形成されたパターンを転写するインプリント方法であって、
位置合わせの制御を開始した後、位置合わせの制御を行いながらモールドと基板を近づけることにより、モールドとパターン形成層を接触させる工程と、
モールドとパターン形成層とが接触した後に位置合わせの制御を停止する工程と、
位置合わせの制御を停止した状態でパターン形成層に接触したモールドと基板を更に近づける工程と、
モールドと基板が更に近づいた状態で、パターン形成層を硬化させる工程と、
パターン形成層が硬化した後に、モールドと基板の間隔を広げる工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法により、安価で優れた異方拡散性能を発現する異方性拡散フィルムを製造できる方法を提供する。
【解決手段】厚さが１０μｍ〜３００μｍである二軸延伸シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）フィルムを、加圧ロール１１と研磨ロール１２の間で挟持することにより、フィルムの表面に、表面粗さが０．２μｍ〜１μｍである凹凸を設ける。 （もっと読む）

【課題】厚さが薄い等、剛性が小さくシワの入りやすいフィルムに対しても、高品位かつ幅方向に均一に高精度なパターン形状を連続的に転写できる微細構造転写フィルムの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】表面に微細構造が形成されたエンドレスベルト状の金型３を、加熱ロール４に抱かせながら加熱する金型加熱工程と、成形用フィルム２ｂと金型とを密着させた状態で、加熱ロール４と、ニップロール６により加圧する加圧転写工程と、金型３と成形用フィルム２ｂを密着させたまま冷却ゾーンまで搬送する搬送工程と、金型とフィルムを密着させたまま金型側から冷却する金型冷却工程と、冷却後の成形用フィルム２ｂを剥離する剥離工程とを含む微細構造転写フィルムの製造方法であって、加圧転写工程、搬送工程、金型冷却工程、及び剥離工程において、前記成形用フィルムの前記転写側表面とは逆側の面に保護フィルムを積層させた状態にする。 （もっと読む）

【課題】 小さな剥離力で被転写材料層からモールドを引き離すことができ、被転写物である被転写材料がモールドに付着するという不都合の発生を回避できるインプリント方法とインプリント装置とを提供する。
【解決手段】 本発明のインプリント方法は、モールドの凹凸構造領域を有する面とインプリント用の基板との間に、被転写物である被転写材料を介在させて、凹凸構造パターンを有する被転写材料層を形成する被転写材料層形成工程と、被転写材料層形成工程におけるインプリント用の基板とモールドとの間隙距離を広げるように引き剥がし力を作用させて被転写材料層からモールドを引き離す剥離工程と、を有し、引き剥がし力は、少なくとも２種類以上の異なる弾性の部分、または少なくとも２以上の異なる剛性の部分を介して、モールドと被転写材料層とが接触している領域に不均一に伝えられるように構成される。 （もっと読む）

【課題】所定の角度から入射する外光を効率よく吸収することが可能な光学シート、及びこれを備える表示装置を提供する。
【解決手段】透光性を有する基材層１１と、基材層の一方の面に積層された光学機能層１２と、を備え、光学機能層は、透光性を有するとともに基材層の面に沿った方向に所定の間隔で並列される光透過部１３と、光透過部間に形成され、光を吸収可能とされる光吸収部１４と、を具備し、隣接する光吸収部と光透過部との界面は湾曲するように形成されており、光学機能層の層厚方向断面において光透過部は四角形断面を有し、該四角形断面のうち対向する１組の辺は前記界面を構成する辺であり、該四角形の２つの対角線のうちの一方である第一の対角線が光学機能層の出光面法線との成す角をθ_１とし、２つの対角線のうちの他方である第二の対角線が出光面と成す角をθ_２としたとき、θ_１＜θ_２である光学シートを備えるものとする。 （もっと読む）

【課題】 被転写物である被転写材料層の形態に応じて、より小さな剥離力での剥離が可能となり、被転写物である樹脂がモールドに付着するという不都合の発生を回避できるインプリント方法とインプリント装置とを提供する。
【解決手段】 本発明のインプリント方法は、被転写材料層からモールドを引き離す剥離工程において、モールドと被転写材料層との接触領域を認識して求める接触領域認識操作と、認識した接触領域の形状に基づいて当該形状の重心を求める重心位置決め操作と、求めた重心をベースとしてモールドまたはインプリント用の基板に対して引き剥がしの力を加える力点を定めて、力点に引き剥がしのための力を作用させる引き剥がし操作と、を有するように構成される。 （もっと読む）

【課題】微細かつ均一なパターンの形成に好適なパターン形成方法およびパターン形成体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、レジストパターンが形成される領域は、ハードマスク層に形成した段差の領域よりも大きくし、ハードマスクの上段部は基板表面を覆うようにハードマスク層を残存させることと、下段部は基板表面の一部が露出するようにハードマスク層へ異方性エッチングを行うことで、基板に均一なパターンを形成することが出来る。 （もっと読む）

【課題】ロール状に巻き取っても凹凸パターンが潰れず、光学的性能等の凹凸パターン本来の機能を発揮できる凹凸シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸パターン３０が形成され、ロール状に巻き取られる凹凸シートであって、その両端部にシートの長手方向に沿ってシート厚みが他の部分よりも厚い帯状段差部３４を設ける。この凹凸シートは、ダイから押出した樹脂シート２０にこのシート２０より狭幅の帯状基材２４をラミネートし、型ローラにより凹凸パターン３０を転写した後、両端はみ出し部２０Ａ．２０Ｂを折り曲げ接着することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】生産性を高めつつ、モールドと基板上の樹脂との引き離し力の増大を抑えることができるインプリント方法を提供する。
【解決手段】このインプリント方法は、基板上の複数の被処理領域にて、複数のパターン領域Ｐ１〜Ｐ４が形成された型７ａによりインプリント材を成形して硬化させ、被処理領域にパターンを形成する。ここで、型７ａまたは基板の少なくとも１つを変形させつつ、型７ａとインプリント材とを互いに引き離す際に、複数のパターン領域Ｐ１〜Ｐ４にて引き離されるタイミングがそれぞれ異なる。 （もっと読む）

【課題】第１の型と第２の型とを用いて成形品を成形する成形品成形装置において、従来よりも短いタクトタイムで精度の高い成形品を得る。
【解決手段】下型Ｍ１と上型Ｍ２とを用いて成形品Ｗ１を成形する成形品成形装置１において、下型型設置体９と下型設置体９に対して相対的に移動位置決め自在である上型設置体１１とを備えた成形品成形部３と、成形品Ｗ１における、第１パターンＷ３と第２パターンＷ４との間の位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定部５と、成形品成形部３で成形品Ｗ１を成形しているときに、成形品Ｗ１の測定を位置ずれ量測定部５で行い、この測定結果に応じて上型設置体１１の相対的な位置を補正し成形品成形部３で次の成形品Ｗ３の成形をする。 （もっと読む）

【課題】 テンプレート領域内において光硬化樹脂に均一な光強度の光を照射することができるインプリント用テンプレート、その製造方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 実施形態に係るインプリント用テンプレートは、第１の基板を持ち、前記第１の基板の主面上に第１の凹凸パターンを有する第１の光硬化樹脂が設けられる。前記第１の基板の主面上に前記第１の凹凸パターンとはパターン密度が異なる第２の凹凸パターンを有し、かつ前記第１の光硬化樹脂と異なる光透過率を有する第２の光硬化樹脂が設けられる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、所望の反射防止機能を有する反射防止フィルムを製造可能とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法、上記製造方法により製造された反射防止フィルム製造用金型および反射防止フィルムの製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、表面に複数の微細孔が形成された反射防止フィルム製造用金型の製造方法であって、表面がアルミニウムからなる金属基体を用い、陽極酸化法によって上記金属基体の表面に上記複数の微細孔を形成して反射防止フィルム製造用金型を形成する陽極酸化工程と、上記陽極酸化工程で得られた反射防止フィルム製造用金型表面の正反射率を測定し、上記正反射率が所定の検査基準を満たすものであるか検査する検査工程とを有し、上記検査基準は、上記正反射率が７０．９％〜７８．２％の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置などのディスプレイの光源からの照明光路制御用光学レンズシートに関するものであって、その表面を形成している単位となる光学レンズが規則的に配置されている場合、液晶パネルの画素と光学レンズが干渉してモアレを生じ易いという問題と、その単位となる光学レンズの表面形状によっては、耐擦傷性や輝度の低下を生じるという問題があり、それらの解決を課題とする。
【解決手段】単位となる光学レンズの表面に、その単位寸法より微細な寸法の微細凹凸部を、３箇所以上で前記表面に沿って、前記表面を覆うように設けることにより、前記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】高精度な溝形状が外周面に形成されたプリズムシート製造用のロール金型の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のロール金型の製造方法は、シート状の基材上に略三角柱状の微細なプリズム部が繰り返し配置されたプリズムシートを製造するためのロール金型であって、プリズム部と相補的な形状を有する微小溝が外周面に設けられているロール金型の製造方法であって、少なくとも外周面に被削材が配置されたロール状の金型材料４の外周面を第１のバイト８で切削し、微小溝の深さの８０％ないし９５％を切削加工する第１切削工程と、第１のバイトとは異なる第２のバイト１０で、微小溝の残り深さ分を切削加工する第２切削工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】離型層を備えたモールドを用いたナノインプリントにおいて、離型層中の離型剤の離型性能を低下させずにナノインプリントを繰り返し実施することを可能とする。
【解決手段】離型層を備えたモールドを用いたナノインプリント方法において、凹凸パターンを被加工基板上に塗布された光硬化性樹脂に向けて、モールドで光硬化性樹脂を押圧し、露光量が３０〜１００ｍＪ／ｃｍ^２である弱露光を光硬化性樹脂に行って光硬化性樹脂を半硬化せしめ、半硬化した光硬化性樹脂からモールドを剥離した後、半硬化した光硬化性樹脂に再露光を行う。 （もっと読む）

【課題】ハードマスクパターンを用いたドライエッチングで基板の表面に凹凸のパターンを形成する場合に、パターンの側面をボーイング形状にしないで垂直面に近づける。
【解決手段】基板上にハードマスク層を形成する第１工程（Ｓ２）と、ハードマスク層を覆う状態でレジスト層を形成した後、レジスト層をパターニングしてレジストパターンを形成する第２工程（Ｓ３〜Ｓ５）と、レジストパターンをマスクに用いてハードマスク層をエッチングしてハードマスクパターンを形成する第３工程（Ｓ６）と、ハードマスクパターンをマスクに用いて基板をドライエッチングすることにより、基板に凹凸のパターンを形成する第４工程（Ｓ８）と、を含み、第４工程（Ｓ８）においては、ハードマスクパターンの後退に寄与するガスを添加したエッチングガスを用いて基板をドライエッチングすることにより、基板のエッチングの進行とともにハードマスクパターンを後退させる。 （もっと読む）

【課題】転写材を短時間でテンプレートパターンの凹部に充填することができるインプリント方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のインプリント方法では、テンプレートに形成されたテンプレートパターンが転写される被転写基板に、転写材としてのレジストを滴下する。そして、前記テンプレートを前記被転写基板上のレジストに押し当てるとともに、この状態で前記レジストを硬化させる。その後、硬化したレジストから前記テンプレートを引き離すことによって、前記テンプレートパターンに対応する転写パターンを前記レジストへパターニングする。そして、前記硬化したレジストから前記テンプレートを引き離した後から次のショットのレジストに前記テンプレートを押し当てるまでの間の所定のタイミングで、前記テンプレートを前記テンプレートパターン面側から脱気する。 （もっと読む）