【課題】板状の型を湾曲させたロール型を用いた光ナノインプリントの生産性を改善し、且つ型固定方法に起因する凹凸間の非成形部を低減する光ナインプリント装置を提供する。
【解決手段】ロール型１３、紫外線ランプ１４を備え、ロール型１３は、回転可能なシリンダ１４と、シリンダ１４の外周面に配列された微細凹凸パターン形成用の板状型１３ａ，１３ｂ，１３ｃを有し、板状型１３ａ，１３ｂ，１３ｃは、シリンダ１４の周方向に延在しシリンダの外周径と一致する円弧に湾曲された一定の幅と、シリンダ１４の軸と平行する方向に延在する長さを有し、板状型１３ａ，１３ｂ，１３ｃの幅方向の一端にシリンダ１４の半径方向へ突出する係合部１３ｇ，１３ｈ，１３ｉが板状型の長手方向に延在して設けられ、シリンダ１４に設けた係合溝１４ａ，１４ｂ，１４ｃ各板状型の係合部を係合することで各板状型をシリンダに装着する。 （もっと読む）

【課題】不可逆的な接着や欠陥が発生することなく、基板から容易かつ反復的に離型され、他の樹脂層にサブミクロンのパターンを形成するのに十分高いモジュラス、優れた化学安定性および寸法安定性を有する多層構造の有機モールドを実現できるようにする。
【解決手段】他の樹脂層に微細パターンを形成するための多層構造の有機モールドは、シート状の支持体層と、支持体の上に形成され、活性エネルギー硬化型の樹脂組成物からなり、微細パターンを有する有機モールド層とを備えている。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れた離型剤が不要なフィルム又はシート表面成形用の表面が極低表面エネルギーな転写ロール、及びその製造方法、それを用いて製造した表面に微細な凸凹を有するフィルム又はシートを提供する。
【解決手段】少なくとも表面をブラスト加工、あるいはディンプル加工、化学エッチング加工、電解エッチングする工程と、撥水撥油防汚性離型膜５を形成する工程とによるか、もしくは少なくとも表面をブラスト加工あるいはディンプル加工する工程と、化学エッチングあるいは電解エッチングする工程と、撥水撥油防汚性離型膜５を形成する工程とにより、微細な凸凹もしくは複合的に大きな凸凹と小さな凸凹が施された表面を撥水撥油防汚性離型膜５で被覆することにより、離型剤が不要な転写ロール６を提供する。 （もっと読む）

【課題】転写用の凹凸面の面積が大きい場合であっても、つなぎ目を設けることなく容易に製造されることが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】液晶物質はその自己組織化する性質に基づいて表面にレリーフ構造が形成されるが、この性質を応用して液晶物質を含有させることにより、該液晶物質の配向によってレリーフ構造が形成された凹凸面を有するナノインプリント用モールドを得る。該液晶物質の重量平均分子量は１０００以上であることが好ましく、また該液晶物質はらせん構造が形成されるように配向していることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】微細な凹凸パターンが形成された樹脂製のレプリカモールドを高精度にかつ大量に高い生産性で製造できる樹脂製モールド作製用積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本願発明の樹脂製モールド作製用積層体１０は、マスターモールドを用いた圧縮成形により樹脂製モールドを作製する際に圧縮成形に供される積層体であって、互いに対向する一対の基体１１，１２と、一対の基体１１，１２間に挟まれた液状あるいはゲル状の硬化性樹脂材料の層１３と、硬化性樹脂材料の硬化物からなり、前記一対の基体１１，１２間に挟まれた流動抑止体１４とを有し、硬化性樹脂材料の層１３が、一対の基体１１，１２および流動抑止体１４によって封入されている。 （もっと読む）

【課題】接着剤層が不要で、対象物との剥離性が向上したシリコーンゴムシートを提供する。
【解決手段】下記の第一加熱工程（Ｈ１）および第二加熱工程（Ｈ２）によって形成されたシリコーンゴム１層からなることを特徴とする、シリコーンゴムシート。第一加熱工程（Ｈ１）：液状シリコーンを加熱して半硬化シリコーンゴムを形成させる工程。第二加熱工程（Ｈ２）：半硬化シリコーンゴムを更に硬化させる工程。 （もっと読む）

【目的】本発明は、モールド作製方法に関し、一定面積のマスクを電子描画で作製し、作製したマスクを電子線露光でモールド上に順次マスク露光した後に現像し、大面積のモールドを短時間に作製してスループットを向上させることを目的とする。
【構成】マスクを、レジストを塗布したモールドの所定位置に近接して位置づけるステップと、近接して位置づけた状態で、電子線をマスクに照射してマスク上の微小パターンを透過した電子線をマスク上のレジストに露光するステップと、露光した後に、マスクを次の位置に位置づけた後、露光することを繰り返すステップと、繰り返した後に、モールド上の露光されたレジストを現像するステップと、現像した後のモールドをエッチングし、マスク上のパターンに対応するパターンをモールド上に形成するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】新規な樹脂管の製造方法を提供する。
【解決手段】棒材を加熱工程に耐える水溶性の材料（例えば塩）で軸線が曲線である曲線部を有する形状に形成し、液晶ポリマーのシート材３１を棒材３０に所望の複数回巻き付けて保持して加熱する加熱工程を備える。曲線部３０ａに対してはシート材を巻き方向に長尺な形状にして螺旋状に巻き付け、螺旋状のシート材の巻き始め端部及び巻き終わり端部を溶着させて棒材への巻回状態を保持する。さらにシート材の外周面に耐熱フィルムを（曲線部に対しては螺旋状に）巻き付けた上で、オートクレーブで加熱工程を実行する。本加熱工程により、シート材を溶融させて樹脂管に成形する。耐熱フィルムを巻き替えて再度加熱工程を実行し、ＣＦＲＰの外管を成形したら、棒材を水に溶かして樹脂管から取り除く。 （もっと読む）

【課題】剥離性が高いインプリント用モールド構造体、転写工程後にレジストからモールドを剥離する際、レジストに転写されたパターンの破損を低減するインプリント方法、並びに信号品位を向上させた磁気記録媒体及びその製造方法の提供。
【解決手段】転写工程と、硬化工程とを少なくとも含むインプリント方法に用いられるインプリント用モールド構造体１であって、前記インプリント用モールド構造体１の前記転写面の硬度をＨＭＳとし、前記転写工程における前記インプリントレジスト層の硬度をＨＢＲとし、前記硬化工程後における前記インプリントレジスト層の硬度をＨＡＲとしたとき、ＨＢＲ＜ＨＭＳ＜ＨＡＲ（ただし、ＨＭＳ≦１ＧＰａ）を満たすインプリント用モールド構造体等である。 （もっと読む）

【課題】スタンパと被転写体の剥離による静電気を確実かつ簡単に除去することができる微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】微細な凹凸パターンが形成されたスタンパを被転写体に接触させて、被転写体の表面にスタンパの微細な凹凸パターンを転写する微細構造転写装置が提供される。そして、スタンパが少なくともパターン形成面に導電膜を有し、スタンパは導電性の保持具に固定され、導電膜は保持具と導体で接続され、保持具は装置内でアースに接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被加工基材の端部から表面への微小粉末の回り込みが抑制されるレジストパターン形成方法等の提供。
【解決手段】レジストパターン形成方法は、被加工基材１０の少なくとも端部１１の微小粉末を除去するクリーニング工程と、端部の微小粉末が除去された被加工基材の表面に、インプリントレジスト層を形成するインプリントレジスト層形成工程と、複数の凸部と、該凸部の間に形成される凹部とからなる凹凸部を表面に有する凹凸型の該凹凸部を押し当て、該凹凸部のパターンが反転した、レジストパターンを前記被加工基材の表面に形成するレジストパターン形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上の薄いレジストに対して良好にパターンを転写できる樹脂インプリントスタンパを提供する。
【解決手段】中心部に貫通孔を持つドーナツ状の樹脂材料からなり、表面の一部にトラックピッチ１００ｎｍ以下で複数のランド／グルーブが円周上に配列したパターン部を有し、前記パターン部の端から内周側へ向かって３ｍｍ未満の領域に、前記パターン部の上面に対して１０μｍを超える高さをもつ突起および段差を持たないことを特徴とする樹脂インプリントスタンパ５０。 （もっと読む）

【課題】溶液処理による配向下地層表面の汚染が無く、エッチングに起因する基板の凹部底面の面状低下の影響が無く、高記録密度の磁気記録層を高品質に維持できる磁気記録媒体、及び簡便にパターン形成した磁気記録層を基板上に形成することができる磁気記録媒体の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂層形成工程と、凹凸部を表面に有するモールド構造体を樹脂層表面に押し当てて凹凸部を樹脂層へ転写するインプリント工程と、樹脂層に形成された凹凸部における凹部底面に残存する樹脂膜をドライエッチングにより除去し、該凹部に対応する基板表面を露出させ凸部樹脂層のみを基板上に残す残膜除去工程と、凹部に対応する基板表面に凸部樹脂層の凸部高さの半分以下の厚みとなるように磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程と、磁気記録層が付着した凸部樹脂層を除去する凸部樹脂層除去工程と含む磁気記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比の周期的な構造を有する３次元モールドを、製造効率良く製造する方法と、この製造方法によって得られる３次元モールド、加工物、及び樹脂成形品を提供する。
【解決手段】本発明の３次元モールドの製造方法では、レジスト層を基体上に備える被加工物を準備する工程、第一の加熱工程、照射工程、第二の加熱工程、及び現像工程を少なくとも有する。レジスト層は、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランの加水分解物および縮合物の少なくとも一方を含む。下記一般式（１）において、Ｒ^１は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。第二の加熱工程ではレジスト層を３００℃以上で加熱する。更にこの製造方法によって得られる３次元モールドをモールドとして、加工物及び樹脂成形品を作製する。
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【課題】転写された微細構造体と設計寸法との間を好適に見積もれるインプリントモールドを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、凹凸パターン幅が小さくなるに従って凹部の側壁角度が傾斜が大きくなることにより、硬化収縮による傾斜変化とインプリントモールドの凹部の傾斜形状とが互いに相殺されるため、凹凸パターン幅の異なる凹凸パターンが転写された微細構造体の側壁角度のバラツキを抑制することが出来る。よって、側壁角度のバラツキを抑制されることから、転写された微細構造体と設計寸法との間を好適に見積もることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】無端状モールド等に適用し得る無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射により作製する方法の提供。無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法の提供。無端状モールド、樹脂パターン成形品及び光学素子の提供。
【解決手段】本発明の無端状パターン作製方法は、電子ビーム又はイオンビームの照射により硬化又は可溶化する感応性基板を用いる場合には、円周方向で無端の感応性基板を回転方向に回転させる工程と、前記基板に所定の角度で電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、前記照射により又は前記照射後の現像により前記基板の一部を除去する工程とを有する。基板が感応性基板ではない場合、円周方向で無端の基板上に感応性膜を付与する。ビーム照射は、基板を回転方向に回転させながら行なっても、前記基板を回転させずに行なってもよい。但し後者の場合には照射していないときに基板を回転させる。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルム成形において、ナノオーダの微細な凹凸形状を樹脂フィルムに高精度に転写できるようにすること。
【解決手段】金属製のロール本体１１の外周面の全周に層状に形成されて外表面に微細凹凸形状を形成された合成樹脂製の凹凸形状外層１３を有する樹脂フィルム成形ロール、及び樹脂フィルム成形用ロール・ツー・ロール装置を提供すること。このフィルムは液晶表示装置のバックライトの光拡散板等に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】プレスを繰り返し実施しても緩衝材の厚み減少分が元の状態近くまでその都度復元し、シート状基材に転写ムラを発生することなく転写成形することのできる微細形状転写シートの製造装置と微細形状転写シートの製造方法を提供する。
【解決手段】微細形状が表面に形成された金型３と、金型３の表面にシート状の樹脂基材２を押圧するプレート板１５ａと、シート状の樹脂基材２とプレート板１５ａとの間に設けられた緩衝材１７とを含む微細形状転写シートの製造装置１であって、緩衝材１７のクッション量が５０μｍ以上かつ変形回復率が４０％以上であること。また、当該緩衝材１７を介してプレート板１５ａによりシート状の樹脂基材２を金型３に押圧して樹脂基材２の表面に微細形状を転写する製造方法。 （もっと読む）

【課題】電鋳可能な樹脂版を得る第一のパターン形成材料と第二のパターン形成材料を提供し、前記パターン形成材料を用いパターン形成体を提供する。
【解決手段】第一の金属原版の凹状パターン又は凸状パターンを転写するパターン形成材料から成るパターン形成体又はパターン形成体から第二の金属原版を形成する複製方法において、パターン形成体は、第一層と第二層の二層から成り、第一層は、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤から成る組成物の第一のパターン形成材料から成り、第二層は、エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤から成る組成物の第二のパターン形成材料から成ることを特徴とするパターン形成体に関するものである。 （もっと読む）

【課題】親モールドの破損が抑えられ、微細パターンの転写精度が高く、転写の際の圧力を低くでき、かつ硬化性樹脂の使用量が抑えられる、微細パターンを有する物品の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】親モールド１００の表面に形成された微細パターンを一旦、転写基材１０４に転写して反転パターンを有するレプリカモールドを製造し、ついでレプリカモールドの表面に形成された反転パターンを物品本体１０２の表面に転写して微細パターンを有する物品を製造するに際し、親モールド１００の微細パターンが形成された表面に、第１の供給手段１７から第１の硬化性樹脂を供給し、該第１の硬化性樹脂を、親モールド１００の微細パターンの転写基材１０４への転写に用いる。 （もっと読む）