【課題】スタンパの生産性に優れ、光硬化性樹脂層に対する離型性が良好であり、離型時の強度に優れ、紫外光（ＵＶ光）の透過性に優れ、かつ使用後のリサイクル性にも優れた、ＵＶナノインプリント技術に好適な、硬化樹脂組成物用樹脂スタンパ、中でも光多層記録媒体用の樹脂スタンパを提供する。
【解決手段】ポリカーボネート（Ａ成分）１００重量部及び屈折率（ｎＤ）が１．４２〜１．６０であるシリコーン化合物（Ｂ成分）０．１〜１０重量部よりなるポリカーボネート樹脂組成物（Ｃ成分）から形成されてなる、硬化性樹脂組成物用樹脂スタンパ、並びにかかる硬化性樹脂組成物用樹脂スタンパを形成するためのポリカーボネート樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】テンプレートの表面に離型剤を適切に形成する。
【解決手段】テンプレート処理装置１は、テンプレート搬入出ステーション２と処理ステーション３とを一体に接続した構成を有している。テンプレート搬入出ステーション２は、複数のテンプレートＴを保有可能で、且つ処理ステーション３に対してテンプレートＴを搬入出する。処理ステーション３は、搬送ラインＡに沿ってテンプレートＴを搬送する複数の搬送ローラを備えている。搬送ラインＡには、搬送中のテンプレートＴに対して所定の処理を行う、前洗浄ユニット２１、塗布ユニット２２、加熱ユニット２３、温度調節ユニット２４、リンスユニット２５、離型剤改質ユニット２６、後洗浄ユニット２７がテンプレートＴの搬送方向に順に配置されている。離型剤改質ユニット２６では、テンプレートＴの外側領域の離型剤に紫外線を照射して、当該紫外線の離型効果が弱められる。 （もっと読む）

【課題】化学的、熱的および機械的なストレスに対して高い耐久性を有し、熱ＮＩＬおよび光ＮＩＬを含む種々のナノリソグラフィー技術に好適に用いることができるレプリカモールドおよび、簡便かつ安価にレプリカモールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）：


（式中、Ｘは−Ｙ−Ａで示され、複数のＸが存在する場合、Ｘは同一または異なっていてもよく、Ａはラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する基またはエポキシ基であり、Ｙは、主鎖が炭素、酸素およびケイ素よりなる群から選択される３〜１０個の元素からなる連結基である）で示されるＴ単位が複数個組み合わさって構成された重合性シルセスキオキサンを含む樹脂組成物を用いて、レプリカモールドを作製する。 （もっと読む）

【課題】使用時における平坦化が抑制される離型シートを提供することを目的とする。
【解決手段】離型シート１０は、基材１２と、電離放射線硬化樹脂からなり基材の両側にそれぞれ配置された第１樹脂層１４および第２樹脂層１６と、を有する。基材は、一方の側の表面に凹凸形状が形成されるとともに、他方の側の表面にも一方の側の表面の凹凸形状に対応した凹凸形状が形成されている。第１樹脂層１４および第２樹脂層１６は、基材の表面の凹凸形状に沿うようにして延びている。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスに時間やコストが掛からず、タクト低減可能で、高精度かつ急速な加熱・冷却性能を達成する微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】微細構造の熱転写を行う微細構造転写装置は、受圧部２と、加圧部１と、これら受圧部と加圧部の対向面に取り付けられた転写部１０とを備えており、転写部は、断熱部材１０５と、断熱部材表面に取り付けられた加熱冷却部材１０２と、加熱冷却部材の表面に取り付けられたトッププレート１０１を備えており、当該トッププレートは、それに代えて、保持部材によって前記加熱冷却部材の表面に取り付けられた平坦補償用のウェハ１０６又は表面に微細なパターンが形成した金型１０７とすることができ、更に、トッププレート、又は、ウェハ又は金型は、加熱冷却部材に対して分離可能となっている。 （もっと読む）

【課題】原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供する。
【解決手段】エンボス装置１０は、原反５０に形成すべき凹凸柄５５に対応した凹凸形状を有するエンボス型面２５を有するエンボスロール２０と、エンボスロールに対向して配置され、エンボスロールとの間で原反を圧するようになるバックアップロール３０と、を備える。バックアップロールは、心部材３２と、心部材上に設けられ、エンボスロールのエンボス型面と対面する表層部３４と、を有する。表層部は、樹脂３６を含む基部層３４と、基部層上に形成されためっき層３８と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 柔軟性を有し、離型性に優れ、ディスプレイ画面のような大面積転写にも対応可能で、かつ経済的にも有利なインプリント用モールドであって、さらに、光学部材の材料として有用な環状オレフィン共重合体への熱インプリントにも用いることができるインプリント用モールドおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 繊維状構造体と硬化した樹脂から成り、少なくとも、転写パターンの存在する領域で、前記繊維状構造体の空隙が、前記硬化した樹脂によって満たされており、前記繊維状構造体の表面に、前記硬化した樹脂からなる三次元形状の転写パターンが形成されていることを特徴とするインプリント用モールドにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高転写率の熱可塑性樹脂製エンボスシートを製造できるエンボス転写用熱可塑性樹脂シートを提供する。
【解決手段】エンボス転写用熱可塑性樹脂シート11は、熱可塑性樹脂製の基材層11Aと、この基材層11Aに積層する転写面層11Bとを備えた積層構造である。転写面層11Bは、ガラス転移点（Ｔｇ）が、基材層11AのＴｇよりも１℃以上低い構成とするか、易滑性添加剤を含有させた構成とするかの少なくともいずれか一方とする。基材層11Aは、Ｔｇが５０℃以上２００℃以下とする。転写層11Bの表面にエンボスパターンを転写することで、熱可塑性樹脂製エンボスシートを製造する。 （もっと読む）

【課題】ランプイメージの低減を可能にするとともに高い光の集光・拡散特性を備えた光学部品及びこれを用いたバックライトユニット、ディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に光を集光もしくは拡散させる光学形状を有してなる光学部品３０であって、もう一方の面に十点平均粗さＲｚがＲｚ≦２００（μｍ）であって、算術平均粗さＲａが０．１＜Ｒａ＜１０００（μｍ）となる凹凸構造３１Ａを備えており、前記光学形状は、互いに間隔を空けて複数が配列され、各々がレンズを構成する凸部３２を有しており、凸部３２の前記一方の面に接している部分の幅をＸ、高さをＹとしたとき０．５＜Ｙ／Ｘ＜１．０となり、かつ５０≦Ｘ≦２００（μｍ）であって、凸部３２の幅Ｘと凸部３２同士の最も短い間隔Ｔが０．０２≦Ｔ／Ｘとなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ロール状金型の外周面に形成された加工パターンを保護することができる光学シートの製造方を提供する。
【解決手段】プリズムパターン３ａが形成されたロール状金型３の外周面と、シート基材９の間にモノマーを配置して、このモノマーにＵＶ光を照射して、シート基材９の表面にプリズム１５を形成するためのロール状金型３の保護方法およびロール状金型３を用いた光学シートの製造方法であって、ロール状金型３の外周面を保護するための保護シート２３を、ロール状金型３の外周面に予め配置し、該保護シート２３は、モノマーによって、シート基材９の表面に接着されてロール状金型３の表面から除去されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】
金属との滑り性が良好で、かつプレス成形の際の金型への移行が抑制された離型層を有する形状転写性の高い微細形状転写用フィルムを提供する。
【解決手段】
少なくとも片方の面が熱可塑性樹脂で構成された基材フィルムの該熱可塑性樹脂表面に、高温粘着強度が５．０ｇ／１０ｍｍ以下であり、かつ厚みが０．５μｍ以下である離型層を有する微細形状転写用フィルム。 （もっと読む）

【課題】金型ロールによりナノ構造が転写された被転写膜の厚みが不均一になることを防止することができ、また、金型ロールを容易に交換することができるローラー型ナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】金型ロールを回転させることで被転写膜の表面にナノメートルサイズの突起を連続的に形成するローラー型ナノインプリント装置であって、上記金型ロールは、外周面にナノメートルサイズの窪みが形成された円筒体であり、上記ナノインプリント装置は、上記金型ロールの内周面に囲まれた領域に、流体の注入により膨張可能な弾性膜を備える流体容器を有し、上記弾性膜を収縮させた状態で金型ロールの着脱を行い、上記弾性膜を膨張させた状態で金型ロールを内側から保持するローラー型ナノインプリント装置である。 （もっと読む）

【課題】薄膜にスタンパを押し当てて凹凸パターンを形成した場合に、基板表面の隣接する凸部間に実質的に残膜が存在しない凹凸パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板表面に形成され、硬化性材料を主成分として含む薄膜に、弾性材料から構成される凹凸型が設けられたスタンパを押し当てた状態で、加熱及び／又は光照射を付与することにより、前記基板表面に凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成工程を含み、且つ、下式（１）を満たす凹凸パターン形成方法。
・式（１） Ｈ（薄膜）＜Ｈ（凹凸型）＜Ｈ（凸部）
〔式（１）中、Ｈ（薄膜）は、上記凹凸パターン形成工程実施前の上記薄膜の硬度、Ｈ（凹凸型）は上記凹凸型の硬度、Ｈ（凸部）は、上記凹凸パターン形成工程実施後の上記凹凸パターンを構成する凸部の硬度を表す。〕 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数回の転写加工成型を好適に行なうことの出来る針状体製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】針状体形状が形成された針状体原版の針状体形状形成側に充填材料を充填する工程と、前記充填材料を硬化させる工程と、硬化させた前記充填材料を前記針状体原版から剥離して針状体用複製版を得る工程と、前記針状体用複製版の針状形状形成側に電離放射線を照射する工程と、を有することを特徴とする針状体用複製版の製造方法であり、さらに、該複製版を使用して針状体を複製する針状体製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ポリマー表面に微細パターンを形成する際に必要なエネルギーを少なくし、凹凸パターンを有するポリマーシートをより簡単に低コストで作製する方法を提供する。
【解決手段】水系のポリマーラテックスを基材上に塗工する塗工工程、塗工したポリマーラテックスを乾燥させてポリマーシートを形成する乾燥工程、およびポリマーシートに凹凸型のパターンを有するモールドを押し当てる転写工程を含む、凹凸パターンを有するポリマーシートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の細りやばらつきを少なくした微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】モールドを押し付けて形成した転写層パターン３を形成し、転写層パターン３に被パターン形成膜４を形成し、その後、転写層パターン３を除去して、被パターン形成膜４形成時の会合界面（点線部）からエッチングを進行させて、被パターン形成膜４をエッチングして最終パターン７を形成する。 （もっと読む）

【課題】寸法の変動を低減し、コストの増大を抑制するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜が形成された基板上に定義されるパターン領域に複数の第１露光区画を互いに隣接させて配列し、パターン領域の全面にわたり第１露光量で、マスクパターンを第１露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。第１露光区画と同一の大きさの第２露光区画を複数配列し、マスクパターンが有する繰り返し図形のピッチに対応する幅の任意の整数倍で第１露光区画に対して行方向及び列方向にずらして互いに部分的に重畳するように設定して、パターン領域よりも広い領域にわたり第２露光量で、マスクパターンを第２露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。第１及び第２露光量の合計が、パターン領域内ではレジスト膜の描画像が所望の寸法範囲の寸法で形成され、パターン領域外では描画像が形成されないようにする。 （もっと読む）

【課題】ポリマーフィルム表面相互作用を改良する。
【解決手段】本プロセスにおいて、ポリマーキャリア目的物は、光重合性化合物、重合を開始する性能を有する光開始剤又は触媒、及び半フッ素化分子を含む化学組成物で被覆される。そのように形成されるポリマー型は半フッ素化部分を有し、これは表面上及びパターン形成された表面の近傍領域に多く存在する。このポリマー型はナノインプリントリソグラフィープロセスにおける改良された性質を有するテンプレートとして適する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント装置におけるインプリント時のレジスト層の残渣を無くして、微細なパターンの形成、高密度なビットパターンド媒体を製作する。
【解決手段】レジストの表面に微小な凹凸パターンを有するモールド４１を押し当てることによって、モールド４１上の突起部４７で凹凸をレジストの表面に転写するナノインプリント装置において、モールド４１の突起部４７の頂面に連続する溝部４８を設けておき、モールド４１をレジストに押し当てる時に、レジストの一部がこの溝部４８内に収容されるようにして、レジスタの残渣が少なくなるようにしたナノインプリント装置である。 （もっと読む）

【課題】発明の課題は、長距離秩序性に優れ、欠陥の少ないミクロ相分離構造からなる微細構造を有する高分子薄膜の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、ブロック共重合体組成物が、少なくともブロック鎖Ａ１とブロック鎖Ａ２とからなるブロック共重合体Ａを主成分とし、ブロック鎖Ａ１を主成分とする高分子相Ｐ１に相溶するブロック鎖Ｂ１と、ブロック鎖Ａ２を主成分とする高分子相Ｐ２に相溶するブロック鎖Ｂ２とを有するブロック共重合体Ｂを副成分として配合されてなり、このブロック共重合体組成物が付与される基板表面は、第１の素材１０６からなる表面に第２の素材１０７からなるパターン部材が離散的に配置される微細構造を有する高分子薄膜の製造方法である。 （もっと読む）