【課題】本発明の課題は、本発明の課題は、離型処理が不要で、かつ繰り返し転写におけるパターンの転写精度が劣化しない微細構造体層を有するソフトスタンパである微細パターン転写用スタンパを提供することにある。
【解決手段】本発明は、支持基材１上に微細構造体層２を有する微細パターン転写用スタンパ３において、前記微細構造体層２は、複数の重合性官能基を有するシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有する一種又は複数種のモノマ成分と、を主に含む樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止しうる防眩フィルムを製造するための金型を製造する。
【解決手段】防眩フィルム製造用金型の製造方法であって、第１めっき工程と、研磨工程と、感光性樹脂膜形成工程と、露光工程と、現像工程と、第１エッチング工程と、感光性樹脂膜剥離工程と、第２めっき工程とを含み、前記感光性樹脂膜形成工程において、感光性樹脂膜の膜厚の変動係数が１０％未満になるように感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜が形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被成型品をシート状モールドから引き剥がすために、平板状のシート状モールドを移送し位置決めするシート状モールド移送位置決め装置において、シート状モールドが弛んだり切れたりすることを防止する。
【解決手段】シート状モールドＭのモールド原反ＭＢを設置するモールド原反設置装置９と、モールド原反設置装置９から繰り出している平板状のシート状モールドＭＡを巻き取るモールド巻き取り装置１１と、引き剥がしをするときに平板状のシート状モールドの形態が変化しても、平板状のシート状モールドの張力を一定に維持する張力維持手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントプロセス法において、中間スタンパの作製に使用できる光硬化性転写シートであり、微細凹凸パターンを有する金型との離型性、凹凸パターンが転写される光硬化性樹脂との離型性が良好であり、且つ転写性に優れた光硬化性転写シートを提供する。更に、それを用いた凹凸パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】加圧により変形可能で、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤を含む光硬化性組成物からなる光硬化性転写層１１を有する光硬化性転写シートであって、前記ポリマーが、主鎖に脂環式構造を有する繰り返し単位、及び（メタ）アクリレート繰り返し単位を含む樹脂からなり、且つ前記ポリマー中の脂環式構造を有する繰り返し単位の含有率が１５〜７０質量％であることを特徴とする光硬化性転写シート１０。更に、これを用いた凹凸パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂のパターン欠陥を生じないもしくは低減させたナノインプリント方法、およびそれに用いるモールドを提供する。
【解決手段】凹凸パターン１２を表面に有するモールド１１を、被加工基板１４上の光硬化性樹脂１５に押し付けると共に、前記モールド１１を介して前記光硬化性樹脂１５を感光させる光を照射することによって前記光硬化性樹脂１５を硬化させて前記凹凸パターン１２を転写するナノインプリント方法であって、前記モールド１１表面の表面自由エネルギーと、前記硬化した後の光硬化性樹脂１５表面の表面自由エネルギーとの少なくとも一方の表面自由エネルギーが、５ｍＪ／ｍ²以上で３０ｍＪ／ｍ²以下である。 （もっと読む）

【課題】容易に所望の表面形態に形成され、所望の反射防止特性を有する導電性表面、更には光透過可能な低反射導電性表面を有する材料と、その製造方法を提供する。
【解決手段】モールドを用いて形成された、反射防止特性を備えた凹凸パターンを有する表面上に、透明な導電性材料からなる透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする低反射導電性表面を有する材料、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭ観察が可能であり高スループットで検査を行うことができ、かつ、高精細なパターン形成が可能な光インプリント用のモールドと、これを用いた光インプリント方法を提供する。
【解決手段】光インプリント用のモールド１を、透明基材２と、この透明基材２の一方の面２ａに位置し所望の凹凸構造を有する透明導電パターン層４と、透明基材２の他方の面２ｂに位置する透明導電裏面層７と、透明導電パターン層と前記透明導電裏面層とを電気的に接続する表裏接続部材８と、を備えたものとする。 （もっと読む）

【課題】成形型の型面に離型剤を塗布することなく、離型性を向上させ、また、感光性樹脂自体の樹脂組成を変えることなく、同じ照度・照射時間でありながら感光性樹脂の硬化性を向上させて結果として離型性を向上させ、欠陥のない光学部品を得ることができる光学部品の製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基板２上に供給された感光性樹脂１Ａに成形型３を型押しした状態で、上記光透過性基板２を透して光照射し光学部品１を製造するに際し、上記成形型３として、型面３ａでの、波長３６５ｎｍの光の反射率が、４６％以上に設定されているものを用いる。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、大面積の基体のナノパターン形成において有用である方法および装置に関し、可動式のナノ構造化されたフィルムは放射線感受性材料をイメージングするために用いられる。ナノパターン形成技術は近接場フォトリソグラフィーを利用し、ナノ構造化されたフィルムは、放射線感受性層に達する光度を調節するために用いられる。近接場フォトリソグラフィーはエラストマー位相シフトマスクを利用してもよく、または、表面プラズモン技術を用いてもよく、ここで可動式のフィルムは金属ナノホールまたは金属ナノ粒子を含む。 （もっと読む）

【課題】大面積かつ表面に微細な櫛型の形状を有する構造体の製造方法、その構造体によって作製される樹脂成形用金型の製造方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂より選ばれる少なくとも２種類以上の異なる樹脂１，２からなる積層構造体３を形成する工程と、前記積層構造体を切断し、前記２種類以上の異なる熱可塑性樹脂１，２が配列して露出した切断面を形成する工程と、前記切断面から前記積層構造体３を構成する熱可塑性樹脂の内の少なくとも１種類の樹脂を優先的に除去することで前記切断面上に櫛型の凹凸構造を形成する工程とを、含むことを特徴とする櫛型構造を有する樹脂構造体５の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】合成皮革の製造に用いることが可能であり、剥離性に優れ、合成樹脂フィルム等からなる基材を用いず単体であっても剥離フィルムとして使用でき、さらには合成皮革にシボ加工を施すことができる、合成皮革製造用剥離フィルムを提供する。
【解決手段】シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を延伸して得られる合成樹脂フィルムからなる剥離層を有することを特徴とする合成皮革製造用剥離フィルム。 （もっと読む）

【課題】微細な格子状突起パターンあるいはそれに類似の突起パターンを表面に有する微細構造体を簡便かつ安価に、しかも高い寸法精度で歩留まりよく製造できるとともに、高い寸法精度及び良好な寸法安定性、特に湿度変化に対する良好な寸法安定性を同時に満足させ得るような可とう性成形型を提供すること。
【解決手段】可とう性成形型が、ポリマー材料及び強化材の複合材料からなる支持体と、前記支持体によって支持された、微細構造表面をその表面に備えた賦形層とを有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】マイクロニードルシートは、母材に凹部を形成したスタンパーにニードル原料を注入して作製するが、スタンパーの凹部は微小なため、空気が抜けずにニードルが形成できない部分が生じるといった課題があった。
【解決手段】マイクロニードルシートのスタンパーの凹部の底に母材を貫通する貫通孔を穿設する。この貫通孔によって空気は抜け、凹部の底までニードル原料が充填されたマイクロニードルシートを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、簡便に、金属加工品、微細部品を製造するための金属膜（金型）のパターンおよびその形成方法を提供することにある。
【解決手段】シード膜２が成膜された基板３上に塗布された硬化性樹脂組成物４と、所定パターンを有するモールド５とを相対移動させて、硬化性樹脂組成物４に所定パターンを転写した状態で、硬化性樹脂組成物４を硬化させることで転写されたパターン形状を有する硬化樹脂４´を得る。硬化樹脂４´よりモールド５を取り外し、金属膜を形成する領域の残渣の硬化樹脂４´´を除去後、電鋳処理を経て金属膜１１を形成し、その後不要となった硬化樹脂４´を除去する工程を経て形成される。この際、プラスチックモールドと特定の重量平均分子量以下である重合性化合物を配合した可視光硬化性樹脂を使用することにより、より簡便な金属膜のパターンの製造プロセスが提供される。 （もっと読む）

【課題】基材上に残膜がないまたは薄いパターンを形成可能な微細マスクパターンの形成方法、基材に対して精度よくかつ容易にリソグラフィ加工が可能なナノインプリントリソグラフィ方法および微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】この微細マスクパターンの形成方法は、微細凹凸構造１１ａを有する型１４に膜１５を形成し、型上の膜を型の微細凹凸構造の凸面１１ｂまたは凸面の近傍まで除去し、型上の膜を除去した後の表面１５ａに基材１６を重ね合わせて物理的相互作用により密着させ、基材から型を除去することで、基材上に微細凹凸構造１１ａに対応した膜１５からなる微細マスクパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】高価なモールドもしくはテンプレートを容易に複製することができ、その複製物をレプリカモールドとして安価で量産性に優れた光ナノインプリントに適用することが可能な光硬化性転写シートを提供する。
【解決手段】官能基当量が３００〜１００００ｇ／ｍｏｌの熱硬化性の官能基を分子内に２つ以上有する変性ポリジメチルシロキサン（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）及び熱硬化剤（Ｃ）を含有する光硬化性樹脂組成物が熱硬化された層を有することを特徴とする光硬化性転写シート。光硬化性樹脂組成物層は熱硬化性の官能基が水酸基の場合には分子内に２つ以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物（Ｃ１）を含有し、熱硬化性の官能基がエポキシ基の場合には酸無水物（Ｃ２）を含有し、好ましくは、更に熱硬化反応促進剤（Ｄ）及び／または光重合開始剤（Ｅ）を含む。 （もっと読む）

【課題】被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】基材加工工程にて、凸構造部４に所望の開口６ａをもつ遮光性エッチングマスク６が配設され、この開口に対応した凹部５が形成されている基材を作製し、レジスト層形成工程にて、ポジ型感光性レジスト膜２１を形成し、開口６ａの開口幅よりも大きな波長の光を基材２側から照射して遮光性エッチングマスク６をマスクとしてポジ型感光性レジスト膜２１を露光し、現像してレジスト層２２を形成し、リフトオフ工程にて、基材に遮光膜８を形成し、その後、レジスト層２２を剥離して、凸構造部４の側面および凸構造部４の周囲の基部３のみに遮光膜８を残し、除去工程にて、凸構造部から遮光性エッチングマスクを除去する。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性が良好であり、金属製モールドからの除去が容易な樹脂モールドを用いて、金属製モールドを製造する。
【解決手段】金属製モールドの製造方法は（Ｉ）（ａ）グリシジル基を含有するビニルモノマーから導かれる構成単位と（ｂ）含有しない構成単位とを含有すると共に、架橋剤から導かれる構成単位を０〜１０重量部含有する樹脂（Ａ）を基板上に塗布し、樹脂層を形成する工程と、（ＩＩ）前記樹脂層表面にマスターモールドを熱転写して樹脂モールドを製造する工程であって、樹脂層が前記樹脂（Ａ）のエポキシ価からの変化量５％以下のエポキシ価である樹脂モールドを製造する工程と、（ＩＩＩ）前記樹脂モールド上に金属層を形成する工程と、（ＩＶ）前記金属層の形成された樹脂モールドを、ガラス転移温度以上の温度に加熱するか、または溶剤に浸漬するで、分離して金属製モールドを得る工程とを、含む。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、簡素な構成や工程で、前記被成型品での気泡の発生を防いだ転写をする。
【解決手段】シート状のモールドＭに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Ｗに転写するための転写装置１において、転写をするときに、被成型品Ｗと、被成型品Ｗと協働してシート状のモールドＭを挟み込んで押圧する押圧体５とが内部に位置する真空成型室１７であって、被成型品が設置される真空成型室１７と、押圧体５が位置する真空成型室とに、シート状のモールドＭによって仕切られる真空成型室１７を形成する真空成型室形成手段と、前記真空成型室を仕切るシート状のモールドに貫通孔を形成する貫通孔形成手段９と、前記真空成型室を減圧する減圧手段１１とを有する。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを硬化樹脂の表面に有する子モールドまたは物品の製造方法であって、硬化樹脂の表面の離型性や防汚性を向上できる製造方法を提供する。
【解決手段】波長２４５〜２６５ｎｍの光のモル吸光係数（ε）が３０以上である光硬化性組成物２０を親モールド１０の表面に接触させる工程と、親モールド１０の表面に光硬化性組成物２０を接触させた状態で光硬化性組成物２０に光を照射し、光硬化性組成物２０を硬化させて硬化樹脂とする工程と、硬化樹脂から親モールドを分離して子モールド（物品）を得る工程と、子モールド（物品）の表面に、波長２５０〜４００ｎｍの光の照度が６５０ｍＷ／ｃｍ^２以上であり、かつ波長２５０ｎｍ以下の光の照度が３５０ｍＷ／ｃｍ^２以下である光源から、波長３６５ｎｍの光の光量が４５０ｍJ／ｃｍ^２〜５００００ｍJ／ｃｍ^２となるように光を照射する工程とを有する子モールド（物品）の製造方法。 （もっと読む）