【課題】インプリント技術を利用して、使用する樹脂の種類に制限を受けることなく高精度の凹凸パターンを有する局在型表面プラズモン共鳴デバイスを提供する。
【解決手段】局在型表面プラズモン共鳴センサーユニットの製造方法は、I）凹凸パターン形状を有する鋳型に、樹脂溶液を塗布し、乾燥させて前記凹凸パターン形状が転写された形状転写面を有する樹脂層を形成する工程、II）樹脂層に金属イオン含有溶液を接触させて金属イオンを樹脂層中に含浸させる工程、III）金属イオンを還元し、形状転写面を含む樹脂層の表面に金属を析出させて金属析出層を形成する工程、IV）金属析出層の上に、無電解めっきおよび／又は電気めっきを施すことにより金属めっき層を形成する工程、V）工程IVの後に、樹脂層を除去することにより、局在型表面プラズモン共鳴を生じる凹凸パターン形状を有する金属薄膜を形成する工程を備えている。 （もっと読む）

【課題】モールドの微細凹凸構造を繰り返し転写しても、モールドと硬化樹脂層との離型性および転写された微細凹凸構造の形状や表面特性を維持でき、微細凹凸構造を表面に有する物品を安定的に生産性よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】（Ｉ）モールド離型剤を含む離型処理溶液で、陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造を表面に有するロール状モールド２０の表面を被覆する工程、（ＩＩ）工程（Ｉ）の後、重合性化合物と重合開始剤と内部離型剤とを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物３８を、ロール状モールド２０とフィルム４２との間に挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層４４をフィルム４２の表面に形成し、微細凹凸構造を表面に有する物品４０を得る工程を有し、モールド離型剤と内部離型剤とのＳＰ値の差が２．０以下である。 （もっと読む）

【課題】隣接するフィールドへのレジストの浸み出しを防止し、ショット間の隙間を小さくし、インプリント装置に複雑な吸引機構を必要としないテンプレートを提供する。
【解決手段】凹凸パターンを形成したテンプレートを、光硬化性材料に押し付けると共に、前記光硬化性材料を光硬化させて前記凹凸パターンを転写するインプリント用テンプレートであって、インプリントに際して、前記光硬化性材料が毛細管力によって前記テンプレートのフィールドエッジに沿って均一に濡れ広がるのを補助し、かつ余分な前記光硬化性材料を吸収するための補助パターンが設けられており、前記補助パターンが、前記フィールドエッジの周辺に、前記フィールドエッジに平行に設けられているセグメント化された複数の凹部からなるラインパターンであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インプリント用テンプレートに設ける洗浄耐性に優れたハイコントラストの位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基材の一主面に凹凸パターンを形成したテンプレート１０を、被加工基板上の光硬化性材料に押し付けると共に、テンプレート１０を介して光硬化性材料を感光させる光を照射することによって、光硬化性材料を光硬化させて凹凸パターンを転写するインプリント方法に用いるテンプレートの位置合わせマーク１３であって、前記位置合わせマーク１３が、光透過性基材を掘り込んで形成した凹凸パターン部と、凹凸パターン部の光透過性基材上に形成された遮光膜パターン部１６からなり、前記遮光膜パターン部１６が遮光膜１４と該遮光膜上に設けた耐洗浄性保護膜１５との２層膜で構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スループットの観点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置は、基板２を保持する基板保持部１と、型５を保持する型保持部７と、凸部５１の側面を取り囲み且つ周辺部５２に対向するように配置された板部材３を含み、前記基板保持部と前記型の前記周辺部との間の空間を前記基板保持部の側の第１空間２１と前記型保持部の側の第２空間２２とに分離するように構成された分離部ＳＰと、ガス供給部６と、を備える。前記板部材は、開口を有し、前記型の前記凸部の側面と前記開口の内面との間に間隙Ｇが形成されている。前記ガス供給部は、前記パターンの凹部への樹脂Ｒの流入を促進するためのガスが前記間隙を通して前記第２空間から前記第１空間に供給され、更に前記凸部と前記基板との間の空間に供給されるように前記第２空間に対して前記ガスを供給する。 （もっと読む）

【課題】転写パターンの位置合わせ精度を向上させる。
【解決手段】インプリント方法は、被加工膜上に光硬化性有機材料を塗布する工程と、テンプレートの凹凸パターンを前記光硬化性有機材料に接触させる工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記テンプレートに力を加える工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記光硬化性材料に光を照射し、前記光硬化性材料を硬化させる工程と、前記光の照射後に、前記テンプレートを前記光硬化性材料から離型する工程と、を備える。前記テンプレートに加える力は、前記被加工膜の表面と前記テンプレートとの間隔に対応した大きさである。 （もっと読む）

【課題】従来の微細構造転写装置と比較して、スタンパの交換に要する時間を短縮することができると共に、スタンパの転写面に異物が付着するのを防止することができる微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】スタンパヘッド２３に取り付けられたスタンパ２を被転写体５に押し付けて、前記スタンパ２に形成された微細な凹凸パターンを前記被転写体５の表面に転写する微細構造転写装置１において、前記スタンパヘッド２３に対して近接移動可能な移動ステージ３１と、この移動ステージ３１に設けられたスタンパ保持部３２とを備え、前記スタンパ保持部３２が、前記スタンパ２の前記凹凸パターンの形成面を粘着保持可能な粘着層３５を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被印刷基板とスタンプとの間に気泡が入り込むことを抑制することによって、印刷精度を向上できるとともに、装置の小型化、省電力化を図ることができる印刷装置を提供する。
【解決手段】被印刷基板１とスタンプ部材２とを接触させることによって、印刷材料を被印刷基板１に印刷する印刷装置１０において、第１の保持機構２０及び第２の保持機構４０のいずれか一方を他方に対して相対移動させることによって、第１の保持機構２０に保持されている被印刷基板１と第２の保持機構４０に保持されているスタンプ部材２とを大気圧下で接触させる移動機構３０、５０と、互いに接触している被印刷基板１とスタンプ部材２とが大気圧下にある状態で、被印刷基板１とスタンプ部材２との隙間を真空排気することによって、スタンプ部材２を被印刷基板１に吸着させる吸着機構６０とを有する。 （もっと読む）

【課題】パーティクル等の異物の影響を低減したインプリント処理に有用な技術を提供する。
【解決手段】インプリント装置を含むインプリントシステムは、前記インプリント装置を格納する空間をインプリント処理がなされる第１空間と該第１空間を取り囲む第２空間とに分割する第１隔壁と、前記インプリント装置を格納する前記空間と当該空間を取り囲む第３空間とを仕切る第２隔壁と、前記第１空間及び前記第２空間に浄化された空気をそれぞれ供給する第１給気部及び第２給気部と、前記第１空間及び前記第２空間から空気をそれぞれ排出する第１排気部及び第２排気部と、前記第１空間内の異物の濃度を検出する検出器と、制御器とを備える。前記制御器は、前記検出器により検出された前記濃度が基準値を超える場合に前記第２空間を通過する空気の量に対する前記第１空間を通過する空気の量の比を増大させるように、前記第１給気部、前記第２給気部、前記第１排気部及び前記第２排気部を制御する。 （もっと読む）

【課題】正確なオーバーレイが可能なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置は、第１駆動機構と、第２駆動機構と、位置ずれ計測器と、制御器とを備える。第１駆動機構は、型３とインプリント材１８とが互いに接触するように型保持部４及び基板保持部６の少なくとも一方を駆動軸に沿って移動させる。第２駆動機構は、複数のショット領域のいずれかが型に対して位置決めされるように型保持部及び基板保持部の少なくとも一方を移動させる。位置ずれ計測器は、型とインプリント材とが互いに接触していない状態で型マークと基板マークとを型を介して、型マークと基板マークとの間の位置ずれ量を計測する。制御器は、型保持部及び基板保持部の少なくとも一方の駆動軸に沿う移動量と、型マークと基板マークとの間の位置ずれ量と、該移動量の情報と、位置ずれ計測器により得られた位置ずれ量の情報とに基づいて、第２駆動機構を制御する。 （もっと読む）

【課題】インプリント装置における型と基板とのアライメントの点で有利な技術を提供する。
【解決手段】基板上のインプリント材を型により成形して該基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記基板上のショット領域に対して設けられたマークを検出するオフアクシス検出系を含み、該マークの位置を計測する計測部と、前記インプリント処理を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記計測部による前記マークの位置の計測と、該計測の結果に基づく前記型と前記基板との間の相対位置の調整とが、前記基板上の複数のショット領域それぞれに関して行われるように、前記インプリント処理を制御する、ことを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】光源からの光を被照射面に均一に照射し、被照射面を均一に加熱することができる加熱装置及び加熱方法、並びに、転写率や生産性などを向上させることができる成形装置及びプラスチック成形品の成形方法の提供を目的とする。
【解決手段】加熱装置１は、断面形状が正方形のライトパイプ２と、このライトパイプ２と連結され、断面形状が正方形のライトボックス３と、このライトボックス３内に収容される光源４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】モールドと基板上の樹脂との接触位置の保持、かつ、位置決め精度の向上に有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】インプリント装置１は、型７を保持し、少なくともＺ軸に対して位置決め可能な型保持部１３と、基板１２を保持し、Ｘ、Ｙ、Ｚの３軸、かつ、該軸をそれぞれ中心とした回転方向のθｘ、θｙ、θｚの３軸の計６軸に対して位置決め可能な基板保持部４と、型保持部１３および基板保持部４の位置を制御する制御部６とを備える。ここで、制御部６は、型保持部１３または基板保持部４の少なくともいずれか一方を駆動させて型７とインプリント材とを互いに接触させる際に、型保持部１３または基板保持部４の少なくともいずれか一方の状態情報を参照し、型保持部１３および基板保持部４の位置の制御を実行する。 （もっと読む）

【課題】靱性に優れると共に、耐傷性の高い樹脂硬化物を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂硬化物（１）は、表面に微細凹凸構造（１０）が成型された樹脂硬化物（１）であって、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート及びウレタンジ（メタ）アクリレートの硬化物を含み、表面弾性率が０．０１ＧＰａ以上２ＧＰａ以下、且つ、表面硬度が０．０１ＧＰａ以上０．２ＧＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 パターンを有する領域の寸法のバラツキを抑制しつつ繰り返し再生可能なナノインプリント用モールドを作製する方法を提供する。
【解決手段】 ガラスモールド１における第２のメサ部１２の上面１２ａ上に設けられた樹脂製のパターン樹脂部４０がパターンＰを有している。したがって、ナノインプリント用モールド５０を繰り返し使用してパターンＰに汚れやキズが生じた場合には、酸素アッシング等を行うことにより、パターン樹脂部４０のみを除去して再生することができる。また、パターン樹脂部４０が、ガラスモールド１の主面１ａから突出した第２のメサ部１２の上面１２ａに塗布されたレプリカ用樹脂３０から形成される。したがって、ナノインプリント用モールド５０を繰り返し再生する場合において、パターンＰを有するパターン領域の寸法が、第２のメサ部１２の上面１２ａの寸法にバラツキなく固定される。 （もっと読む）

【課題】樹脂の切り替え時における金型表面への樹脂の付着を抑制でき、樹脂の切り替え後も樹脂の残存痕の転写を防止しつつ、樹脂の切り替え前と同様に、金型の表面構造をフィルム状支持体の表面に転写でき、かつ無駄を軽減したフィルムの製造方法の提供。
【解決手段】金型１１に連続搬送されるフィルム状支持体２１上に、２つ以上の樹脂供給手段１２，１３から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を順次切り替えて連続供給し、支持体２１と金型１１とで挟み、活性エネルギー線を照射して硬化させてフィルムを連続製造する方法であって、少なくとも２番目に供給される樹脂組成物は、活性エネルギー線が照射されないように支持体上に供給され、樹脂の切り替え時には、フィルム状支持体への供給中の樹脂組成物と、次の樹脂組成物の供給量の総量が一定またはそれ以上になるように樹脂組成物を切り替える、フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】様々な態様のサンプルドグレーティングを低コストで形成することが可能な形成方法等を提供する。
【解決手段】サンプルドグレーティング２１Ｐの形成方法は、複数の凹部３を含むパターン面１Ｐを有するナノインプリント用のモールド１を準備する工程と、周期的に設けられた光透過部７Ｔを有するマスク７を準備する工程と、半導体層２１上に、フォトレジスト層２７と、樹脂部２９とをこの順に形成する工程と、熱ナノインプリント法によってモールド１の複数の凹部３の形状を樹脂部２９に転写する工程と、マスク７を介してフォトレジスト層２７に露光光ＬＥを照射する工程と、フォトレジスト層２７を現像する工程と、フォトレジスト層２７の形状を半導体層２１に転写する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面の微細凹凸構造に欠陥が少ない高品質な物品を、安定的かつ容易に製造できる、微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有する金型６とフィルム７（基材）との間に活性エネルギー線硬化性組成物を挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、フィルム７の表面に微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層１２を形成することによって、微細凹凸構造を表面に有する物品１４を製造する方法であって、活性エネルギー線硬化性組成物として、１分子鎖中におけるジメチルシロキサン構造の比率の低い成分の含有量が高い、ジメチルシロキサン構造とエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性シリコーンオイルモノマーと、他の重合性化合物とを含むものを用い、金型６として、表面積１ｍ^２当りに付着したタンパク質が１０００個以下である金型を用いる。 （もっと読む）

【課題】より多くの良好なパターンを形成することができるパターン形成装置、パターン形成方法及びパターン形成用プログラムを提供する。
【解決手段】実施形態に係るパターン形成装置は、複数の小領域を含む転写領域を単位として、テンプレートに形成されたパターンを、基板上の複数の転写領域に順次転写するパターン形成装置であって、取得部と、分類部と、集計部と、転写部と、を備える。取得部は、基板に存在する欠陥部の検出情報を取得する。分類部は、取得部で取得した検出情報から、複数の転写領域を、欠陥部が存在しない第１転写領域と、欠陥部が存在する第２転写領域と、に分類する。集計部は、第２転写領域について、転写領域内での小領域の位置ごとに欠陥部の出現頻度を集計する。転写部は、集計部で集計した結果に基づき、欠陥部の出現頻度の高い位置の小領域に欠陥部が存在している第２転写領域から先にテンプレートによる転写を行う。 （もっと読む）

【課題】優れた防汚性、耐擦傷性および低反射性を有し、かつ耐候性に優れたナノ凹凸構造体を形成できるナノ凹凸構造用樹脂組成物、およびそれを用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材の提供。
【解決手段】４官能(メタ)アクリレートモノマー(Ａ)を５０〜９５質量部、ポリアルキレングリコール構造の繰り返し単位の合計が４〜２５の２官能(メタ)アクリレートモノマー(Ｂ)を５〜３５質量部、前記モノマー(Ａ)、(Ｂ)と共重合可能な単官能(メタ)アクリレートモノマー(Ｃ)を１５質量部以下含む重合反応性モノマー成分１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の活性エネルギー線重合開始剤(Ｄ)、０．０１〜３質量部の離型剤(Ｅ)、０．０１〜３質量部の滑剤(Ｆ)を含有するナノ凹凸構造用樹脂組成物、および該樹脂組成物を用いた自動車メータカバー用透明部材とカーナビゲーション用透明部材。 （もっと読む）