【課題】新規なジヒドロキシボリル基含有含窒素複素環誘導体、及び該誘導体を有効成分とする医薬、及び、多工程を要せず環境への負荷が少ないジヒドロキシボリル基含有含窒素複素環誘導体の製造法の提供。
【解決手段】新規なジヒドロキシボリル基含有ジヒドロキシピリミジン−２−オン(又は、チオケトン）誘導体、ジヒドロキシボリル基含有１，４−ジヒドロピリジン誘導体及びジヒドロキシボリル基含有ジヒドロピラノ[２，３−ｃ]ピラゾール化合物、該化合物を有効成分とする癌治療薬、並びに、該化合物の多成分原料からのワンポット合成法。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィンを製造する触媒システムの助触媒であるホスホニウム化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ホスホニウム化合物助触媒製造方法に係り、詳細には、［（Ｒ_１）−Ｐ（Ｒ_２）_ａ（Ｒ_２’）_ｂ］ＨＸで表示されるプロティック（Protic）ホスホニウム化合物と、［Ｃ］［Ａｎｉ］で表示される塩化合物との反応により、ホスホニウムを有する塩化合物からなる助触媒を製造する方法を提供する。これにより、該ホスホニウム助触媒化合物の製造方法は、極性環状オレフィン重合用助触媒であるホスホニウム塩化合物を高収率で製造できる。 （もっと読む）

【課題】ＣＯ_２等の酸性ガスを選択的に分離・精製するための吸収剤の提供。
【解決手段】イミダゾリウム、ピリジニウム、ピロリジニウム、ピペリジニウム、アンモニウム及びホスホニウムから成る群より選ばれるカチオン、並びに下記一般式（７）：


｛式中、Ｒ’_１、Ｒ’_２、Ｒ’_３及びＲ’_４は、明細書に記載の通りである。｝
で表されるボレートを含むイオン液体。 （もっと読む）

【課題】 優れたガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）；
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は明細書に定義されるとおりである。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、テトラカルボキシジイミド骨格を有する該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】[4-(1,3,4-オキサジアゾール-2-イル)フェニル]ボロン酸の化学製造法の提供。
【解決手段】下式で表される化合物の製造法であって、


（式中、Ｘ１はＯ、ＮＲ１又はＳから選択され、そして、Ｘ２はＣＨ又はＮから選択され、ここで、Ｒ１は窒素保護基である。）例えば、2-(4-ブロモフェニル)-1,3,4-オキサジアゾールの（ｉ）メチル−又は場合により置換アリール−リチウム、次いで、(ii)ｎ−ブチル−、ｓ−ブチル−、ｔ−ブチル−又はｎ−ヘキシル−リチウム、次いで、(iii)-ボレートエステルとの逐次反応を含む、前記製造法。 （もっと読む）

【課題】特定の構造で示される金属錯体を短時間で、高収率で得ることができ、且つ、通常の反応容器を使用して引火性の高くない有機溶剤で生産できる製造方法を提供する。
【解決手段】金属塩（Ａ）、グリオキシム及び置換グリオキシム化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｂ）並びにハロゲン化ホウ素（Ｃ）を、２０℃における誘電率が１．８〜４．０の有機溶剤を含有する有機溶媒の存在下で反応させて得る、特定の構造で表される金属錯体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）


（式中、Ｘはアルキル基を示す。）で表されるジカルボン酸化合物(Ａ)と、マグネシウム、アルミニウム、クロム、鉄、ニッケル及び亜鉛などから選択される少なくとも１種の金属(Ｍ)と、該金属に二座配位可能な有機配位子(Ｂ)とからなる、その組成が


で表される金属錯体。 （もっと読む）

【課題】３価の金属イオンを含む多孔性金属錯体であって、水素、メタン、二酸化炭素等のガスに対して十分なガス吸蔵能を有する多孔性金属錯体及びその製造方法、並びに当該多孔性金属錯体を用いたガス貯蔵方法及びガス分離方法を提供すること。
【解決手段】３価の金属イオンと下記式（１）で表される芳香族トリカルボン酸との配位結合によって構成される金属錯体を含み、金属錯体の複数が集積して形成された細孔構造を有することを特徴とする多孔性金属錯体。


［式（１）中、ｎは０〜４の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】効率よくテトラシアノボレート化合物(VI)を得る製造方法の提供。
【解決手段】ホウ素化合物（例えば：三塩化ホウ素）と、ハロゲン化物イオンを対アニオンとするアンモニウム誘導体とをキシロール中混合し、次いで、トリアルキルシリルシアニドを添加して反応させ、過酸化水素で処理後酢酸ブチルで抽出し、酢酸ブチルを留去することにより式(VI)における［Ｋｔ］m+がアンモニウムカチオンでｍ＝1であるテトラシアノボレート化合物を得る。


（式中、［Ｋｔ］m+は、有機カチオン又は無機カチオンを表し、ｍは１〜３の整数を表す） （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、簡便な方法により、高純度ビス(シクロペンタジエニル)マグネシウム及びその製法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、マンガン原子の含有量が0.3質量ppm以下で、ケイ素原子の含有量が0.1質量ppm以下、且つアルミニウム原子の含有量が0.1質量ppm以下であることを特徴とする、高純度ビス(シクロペンタジエニル)マグネシウムによって解決される。
本発明の課題は、又、一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、同一又は異なっていても良く、炭素数１〜６のアルキル基を示す。）
で示されるジアルキルマグネシウムと、ジアルキルマグネシウム1モルに対して、2.05〜2.18モルのシクロペンタジエンを反応させた後、得られたビス(シクロペンタジエニル)マグネシウムを減圧下で昇華精製させることを特徴とする、高純度ビス(シクロペンタジエニル)マグネシウムの製法によっても解決される。 （もっと読む）

【課題】二族金属炭酸塩化された過塩基性のアルキルフェノールのマンニッヒ縮合物の新規な製法の提供。
【解決手段】炭酸塩化した過塩基性のアルキルフェノールのマンニッヒ縮合物の製法で、二酸化炭素とエチレングリコールの両原料としてエチレンカーボネートを使用する。エチレンカーボネートを用いる反応条件で、アルキルフェノールのマンニッヒ縮合物の炭酸塩化と過塩基化が可能で、又炭酸塩化した過塩基性のアルキルフェノールのマンニッヒ縮合物の粘度は許容レベル（１００℃で１０００cSt以下）になる。更に、Ｃ₂〜Ｃ₆アルキ
レングリコールと二酸化炭素を用いたアルキルフェノールのマンニッヒ縮合物の炭酸塩化にも関し、又炭酸塩化した過塩基性のアルキルフェノールのマンニッヒ縮合物を含む清浄分散酸化防止性添加剤であって、炭酸塩化した過塩基性のアルキルフェノールのマンニッヒ縮合物のＣａに対するＣＯ₂比が０．０１以上である添加剤にも関する。 （もっと読む）

【課題】室温近傍の温度域における水素の吸着量・放出量が比較的大きな有機金属錯体を得る。
【解決手段】有機金属錯体である［Ｃｕ₂₄（ピリジン−３，５−ジカルボキシラート）₂₀］_nは、繰り返し単位であるＣｕ₂₄（ピリジン−３，５−ジカルボキシラート）₂₀が複数個互いに結合して形成される。この有機金属錯体の単位胞は、その晶系が斜方晶系に属する。そして、この有機金属錯体における平面構造中には、原子が密充填されていない空洞（空間）が複数箇所存在する。この空洞は、開口径及び内径が数Åの孔形状であり、その内面にはＣｕ原子、Ｏ原子、Ｎ原子が露呈する。この空洞が、水素吸着サイトとして機能する。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法によって、高純度トリアルキルアルミニウムを得る方法を提供する。
【解決手段】トリアルキルアルミニウムとトリアルキルアミンとを反応させてアルミニウム−アミン錯体を形成させ、次いで、反応混合物を蒸留して該アルミニウム−アミン錯体を取得した後、該アルミニウム−アミン錯体からトリアルキルアミンを解離させて、遊離のトリアルキルアルミニウムを得ることを特徴とする、高純度トリアルキルアルミニウムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供。
【解決手段】ジフェニルジカルボン酸化合物と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、一般式（ＩＩ）


（式中、Ｒ^９〜Ｒ^１６はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、Ｒ^１０とＲ^１１、或いはＲ^１４とＲ^１５が一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。）で表される該金属に二座配位可能な有機配位子（ＩＩ）とからなる金属錯体、及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】構造式内でカルボキシル基が互いに最も遠い位置にあり、かつ環状に共役しているπ電子を１０個以上有し、かつ芳香環を構成する炭素原子が１０〜１８個である芳香族ジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、点群がＤ_∞ｈであり、かつ長軸方向の長さが８．０Å以上１６．０Å未満であり、かつヘテロ原子を２〜５個有する該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ、水素、アルキル基、ニトロ基などである。）で表されるジカルボン酸化合物と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオン(例えば、亜鉛イオン)と、二座配位可能な有機配位子となるトランス−１，２−ビス（４−ピリジル）エテンまたは４，４’−アゾピリジンから選択される少なくとも１種である化合物からなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】医農薬や機能性材料の原料となるビアリール類の合成中間体として重要な化合物であるアリール（ジオラート）ボラン類の簡便な製造方法の提供。
【解決手段】パラジウム触媒および酢酸塩の存在下、２，２’−ビ（１，３，２−ベンゾジオキサボロール）誘導体とベンゼン誘導体を反応させ、次いでジオール類を反応させてアリール（ジオラート）ボラン類（４）を製造する。


（式中、Ｒ^２は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を示す。ｎは１または２を示す。Ｒ^３およびＲ^４は同一または異なって、水素原子またはメチル基を示す。Ａはメチレン基、ジメチルメチレン基等を示す。） （もっと読む）

【課題】少ない工程かつ温和な反応条件で、高収率の（トリフルオロメチル）アルキルケトンを製造できる製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程を含む式（Ａ）で表される（トリフルオロメチル）アルキルケトンの製造方法。（ｉ）（シクロアルキル）アルキルエーテルの存在下で、マグネシウムと、式Ｒ^１Ｂｒで表わされる化合物（ただし、Ｒ^１はアルキル基を示す。）とを反応させて式Ｒ^１ＭｇＢｒ（ただし、Ｒ^１は前記と同じ意味を示す。）で表される化合物を得る工程。（ｉｉ）（シクロアルキル）アルキルエーテルの存在下で、式Ｒ^１ＭｇＢｒ（ただし、Ｒ^１は前記と同じ意味を示す。）で表される化合物と、式ＣＦ_３ＣＯＯＲ^２で表わされる化合物（ただし、Ｒ^２はエステル残基を示す。）とを反応させてグリニヤール試薬付加物を得る工程。（ｉｉｉ）付加物を加水分解することにより式（Ａ）で表される（トリフルオロメチル）アルキルケトンを得る工程。
（もっと読む）

【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ、水素、アルキル基、ニトロ基などである。）で表されるジカルボン酸化合物と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオン(例えば、亜鉛イオン）と、二座配位可能な有機配位子となる置換基を有してもよい４,４'−ビピリジル化合物とからなる金属錯体。 （もっと読む）