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Fターム[4K022CA17]の内容

化学的被覆 (24,530) | 前処理 (4,223) | 液体浸漬、塗布 (2,196) | 無機質成分 (1,492) | 金属、金属化合物 (1,076)

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【課題】金属混合液を用いて基板上に金属膜を適切且つ効率よく形成する。
【解決手段】金属膜形成システム1は、ウェハWを搬入出する搬入出ステーション2と、ウェハW上に前処理液を塗布し、ウェハW上に下地膜を形成する前処理ステーション3と、下地膜が形成されたウェハW上に金属混合液を塗布し、ウェハW上に金属膜を形成する主処理ステーション4と、搬入出ステーション2、前処理ステーション3及び主処理ステーション4を接続するロードロックユニット10とを有している。前処理ステーション3、主処理ステーション4、ロードロックユニット10は、それぞれ内部を不活性ガスの大気圧雰囲気又は減圧雰囲気に切り替え可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】パターン外析出を抑制し、密着力を向上させることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ1と、半導体ウエハ1上にパターンニングして形成され最表面に複数の凹部9が形成されたAl−Si金属層2と、Al−Si金属層2上と半導体ウエハ1が露出した箇所上に形成された酸化膜11と、Al−Si金属層2上に酸化膜11を介して各凹部9を埋め込むように形成されたNiめっき膜3およびAuめっき膜4とを備える。 (もっと読む)


【課題】基材表面上に優れた平滑性及び密着性を有し、かつ、優れた金属めっきの外観を形成させることができるめっき前処理方法の提供。
【解決手段】
基材上に、(i)複素環を有する化合物と(ii)酸化剤として機能し且つ無電解めっきの触媒能力を有する金属塩とを含むめっき下地層を形成する方法であって、
該めっき下地層は以下の(a)乃至(c)のいずれかの方法により形成することを特徴とするめっき前処理方法。
(a)前記基材を、前記複素環を有する化合物及び前記金属塩を含む水溶液に浸漬し、そして引き上げる工程を含む方法
(b)前記基材を、前記複素環を有する化合物を含む水溶液に浸漬し、そして引き上げた基材を、前記金属塩を含む水溶液に浸漬する工程を含む方法
(c)前記基材を、前記金属塩を含む水溶液に浸漬し、そして引き上げた基材を、前記複素環を有する化合物を含む蒸気に接触する工程を含む方法 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、表面が平滑であっても、その表面上に形成されるめっき膜(金属膜)と高密着性を達成し、絶縁信頼性に優れたポリマー層を形成しうる被めっき層形成用組成物、および、該組成物を用いて得られるポリマー層を有する積層体を提供することにある。
【解決手段】ラジカル重合性基と、めっき触媒またはその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基と、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、一級アミノ基、および二級アミノ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの官能基とを含むポリマーを、含有する被めっき層形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を効率的に製造することができる金型製造装置を提供する。
【解決手段】前記無機薄膜5上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の1つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤を含有する自己組織化膜40を形成する自己組織化膜形成部2と、前記自己組織化膜40の表面を洗浄する洗浄部3と、前記自己組織化膜40上に通電層41を形成する通電層形成部4とを備え、前記自己組織化膜形成部2、洗浄部3、および通電層形成部4は不活性ガス雰囲気に保持されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】優れた電気導電性を有し、かつ凝集性が少なく、Ni被膜の厚みが均一な、Niメッキ粒子を提供する。
【解決手段】芯材粒子の表面に無電界Niメッキ法によりNi被膜を設けたNiメッキ粒子において、Ni被膜中の厚み方向のP含有量を、芯材粒子側からNi被膜表面側に漸減させる。具体的には、EDXにより求めた、Ni被膜中のPとNiの含有比P/Niを、芯材粒子側界面からNi被膜の厚みの10%以下の領域で0.15<P/Ni<0.40とし、Ni被膜表面からNi被膜の厚みの10%以下の領域で0.02<P/Ni<0.15とし、それらの領域に挟まれた中央部の領域で0.05<P/Ni<0.20とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、多孔体の内部に薄膜化した金属充填層を有する複合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】多孔質基材の片側から金属源(イオン、微粒子、化合物)あるいは金属源及びゲル化剤を含む前駆体溶液を浸透させたのち、反対側から前駆体溶液が滲出する前に該前駆体溶液を固化させて細孔複合体(A)を得る工程、前記細孔複合体(A)に、前記前駆体溶液を浸透させた反対側から、還元剤を含む溶液を浸透させることにより、前記細孔複合体(A)の細孔内に金属種核を担持させる工程、前記工程で得られた金属種核を担持した細孔複合体(B)を無電解メッキ処理する工程を含むことを特徴とする複合体の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、次の連続工程を含むを金属材料による、(コ)ポリマー製基材の表面をコーティングするための方法に関する:a)少なくとも1つのこの金属材料の前駆体の存在下で、フェントンタイプの化学反応によって、この表面を酸化処理に供する工程;およびb)この前駆体をこの金属材料に変換する工程。 (もっと読む)


本発明は、コア/シェル(core/shell)構造の伝導性金属粒子を含む分散液にカルボン酸を添加することにより、伝導性金属コーティング液を製造する段階と、前記伝導性金属コーティング液を基材の上部にコーティングし、熱処理して、コア/シェル構造の伝導性金属粒子の表面の酸化膜を除去する段階と、前記酸化膜が除去された伝導性金属粒子で薄膜を形成する段階と、を含む伝導性金属薄膜の製造方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、色素増感太陽電池(DSSC)の分野に関するものであり、幅広い種類の基材に適用できる対向電極の低温プラチナイズ方法に関する。 (もっと読む)


【課題】Znを含む化合物からなる基板に密着性良く無電解めっきを形成する製造方法を提供する。
【解決手段】Znを含む化合物からなる基板11を硫酸銅溶液に浸漬してこの基板11上にCu薄膜12を形成する。その後、該Cu薄膜12が形成された基板11にCuよりもイオン化傾向の大きな金属を接触させたまま無電解めっきを開始して、無電解めっき膜13を形成する。 (もっと読む)


【課題】 微細なパターンを有するパターン構造体を製造できるパターン構造体の製造方法、前記パターン構造体を製造する際に用いることができる金属構造体含有高分子膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 イオン伝導性ドメインと非イオン伝導性ドメインとからなるミクロ相分離構造を有する高分子膜と、前記イオン伝導性ドメインに局在する金属構造体と、からなることを特徴とする金属構造体含有高分子膜。 (もっと読む)


【課題】めっき触媒等の金属に対して充分な吸着性を有し、吸水性が低く、重合性に優れ、且つアルカリ水溶液による加水分解を抑制しうる新規共重合ポリマーの提供。
【解決手段】下記式(1)で表されるユニット、及び、下記式(2)で表されるユニットを含むポリマー。式(1)及び式(2)中、R〜Rは、夫々独立して、水素原子、又は置換若しくは無置換のアルキル基を表し、Rは、無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表し、V及びZは、夫々独立して、単結合、置換若しく無置換の二価の有機基、エステル基、アミド基、又はエーテル基を表し、L及びLは、夫々独立して、置換若しくは無置換の二価の有機基を表す。
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【課題】めっき液の寿命低下を抑制しつつ、はんだ濡れ性を向上し、窒化珪素基板表面へのめっき付着を防止した回路基板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒化珪素基板上に形成された導電部を含んだ回路基板であって、導電部の表面はNiSOを含むめっき液を用いてめっきされており、当該めっき表面のグロー放電発光分析により見いだされるS成分のピークが、Ni成分のピークよりも小さい回路基板である。 (もっと読む)


【課題】めっき下地層を形成する下地塗料、それを用いる筐体の製造方法及びそれにより製造される筐体を提供する。
【解決手段】無電解めっき法により基材表面に、黒色とは異なる色調を有するめっき下地層を形成する下地塗料であって、
前記下地塗料は、導電性又は還元性の高分子微粒子、バインダー、着色剤及び溶媒を含み、前記着色剤は、耐薬品性を有する黒色とは異なる色調の平均粒径0.1ないし1μmの粒子又は厚さ0.1ないし1μmの金属フレークであり且つ前記下地塗料中の全固形分に対して5ないし50体積%(v/v)の範囲で添加され、前記溶媒は、酢酸ブチルの揮発速度を100とした場合の揮発速度が30以下である低揮発性有機溶媒を含むものである下地塗料。 (もっと読む)


【課題】長尺フィルム等に対して、連続して均一な高圧処理を行える方法および装置の提供。
【解決手段】高圧処理チャンバー内でロール状に巻回された被処理体を繰り出して走行させながら超臨界または亜臨界状態の高圧流体と接触させて高圧処理を行った後、ロール状に巻回することを特徴とする連続高圧処理方法、および高圧処理チャンバーを備えると共に、高圧処理チャンバー内に、被処理体の繰り出し手段と、複数の送りローラと、処理体の巻き戻し手段とを備えたことを特徴とする連続高圧処理装置である。 (もっと読む)


【課題】低コストで簡略化した突起電極の形成方法、及びこれに用いる置換金めっき液を提供する。
【解決手段】本発明に係るバンプ2の形成方法は、電極12上に形成された導電性のコア21の表面を、亜硫酸カリウムとポリエチレンイミン又はその誘導体とを含む置換金めっき液を用いて被覆する被覆工程を包含し、一回の被覆工程において、厚さ0.1μm以上0.5μm以下の金膜22をコア21の表面に形成する。これにより、バンプ2を形成するに十分な膜厚の金膜22を形成するために、被覆処理を繰り返し行う必要がない。その結果、製造工程を簡略化し、コストを低減させることが可能になる。 (もっと読む)


この発明の方法は、(a)第一の金属またはその合金のナノ粒子の分散によって構成される電気絶縁性または半導電性の基板を備える段階と、(b)前記基板上に阻害物質の層を塗布し、光学的、熱学的、化学的、または電気化学的誘起により、該阻害物質の層を部分的に除去または非活性化し、それにより第一の金属またはその合金の少なくとも一部を露出させ、電子回路のパターンを得る段階(b)と、(c)無電解処理により、段階(b)で得られた前記基板に存在する、第一の金属またはその合金が露出した部分に、第二の金属またはその合金の層を堆積させる段階であって、これによって段階(b)を経た後でも該基板上に存在する阻害物質が、第一の金属またはその合金上に堆積される第二の金属またはその合金を部分的に阻害することで、第二の金属またはその合金が、段階(b)で得られた、第一の金属またはその合金の露出した部分に、選択的に堆積されることを確実にする段階を備える。 (もっと読む)


【課題】連続生産プロセスに適した無電解めっき処理により、高い密着強度を有する無電解めっき膜を形成できる、めっき膜を有するプラスチック部材の製造方法を提供する。
【解決手段】高圧二酸化炭素を用いて、プラスチック部材1または成形前の溶融樹脂に対して金属錯体を与えて、上記金属錯体もしくはその変性物が分散したプラスチック部材1を得ることと、上記金属錯体もしくはその変性物が分散した上記プラスチック部材1を、アルコールを含有した無電解めっき液に常圧下で浸漬させることとを含むめっき膜2を有するプラスチック部材1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】繊維材料を一度に多量に処理することが可能で、しかも、繊維の表面にメッキ処理により均一な金属皮膜を密着性よく形成することで、導電性のバラツキを少なくすることが可能な導電性繊維の製造方法、及びそれに用いる繊維材料を提供する
【解決手段】油剤を含有しない開繊処理された繊維のマルチフィラメント糸が多孔性管を芯として捲き回すことで、捲き硬度が一定範囲に制御された繊維材料を、有機金属錯体を含む超臨界流体又は亜臨界流体に浸漬して繊維表面に有機金属錯体を吸着させる工程と、繊維表面に吸着した有機金属錯体を還元して活性化させる工程とを含むメッキ前処理を行った後、メッキ前処理された繊維材料をメッキ液に浸漬して無電解メッキ処理を行うことを特徴とする導電性繊維の製造方法。 (もっと読む)


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