【課題】皮膜の更なる高硬度化と耐摩耗性を向上させ、耐熱性を改善して温度上昇よる摩耗増大を抑制した硬質皮膜を提供することである。更に、該硬質皮膜を複数層被覆した多層皮膜被覆部材、及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】基材表面に組成が異なる硬質皮膜を２層以上被覆した多層皮膜被覆部材であって、該硬質皮膜は少なくとも硬質皮膜Ａ及び硬質皮膜Ｂを有し、該硬質皮膜Ａは、Ｓｉ（Ｂ_ｕＣ_ｖＮ_ｗＯ_ｚ）で示され、但し、ｕ、ｖ、ｗ、ｚは各元素の原子％、ｕ＞０、ｖ＞０、ｗ＞０、ｚ≧０、ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｚ＝１、を満足する硬質皮膜、該硬質皮膜Ｂは、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒ、Ｖ、Ｓｉから選択される２種以上とＢ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｓから選択される１種以上を有する硬質皮膜であることを特徴とする多層皮膜被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】光情報記録媒体の記録密度を高めるために記録マークを小さくすることが可能であり、Ａｌ合金反射膜の反射率が高く、表面が平滑で、温度変化に伴う結晶粒の成長が小さくかつ反射率の変化が小さい、Ａｌ合金反射膜及び同Ａｌ合金反射膜を備えた光情報記録媒体並びに同Ａｌ合金反射膜形成用スパッタリングターゲットを得ることを課題とする。
【解決手段】光情報記録媒体に用いるＡｌ合金反射膜であって、Ｃｒ，Ｆｅ，Ｔｉをそれぞれ１．０〜４．０ａｔ％含有し、残部がＡｌ及び不可避的不純物からなることを特徴とするＡｌ合金反射膜、同Ａｌ合金反射膜を備えた光情報記録媒体及び同Ａｌ合金反射膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録ディスク用基板に気相中で成膜する際に膜厚に偏りが発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、磁気記録ディスク製造装置、および磁気記録ディスク製造用基板ホルダを提案すること。
【解決手段】 基板ホルダ３００は、磁気記録ディスク用基板１０の表面に下地層、磁性層、保護層などの薄膜を物理気相成長法により成膜する際に、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を保持した状態でターゲット２３１、２３２、２３３および２４４に対向配置される。複数枚の磁気記録ディスク用基板１０は成膜中、基板ホルダ３００上で自転するため、磁気記録ディスク用基板１０では、ターゲット２３１、２３２および２３３の半径方向において薄膜の膜厚に偏りが発生しない。 （もっと読む）

【課題】反射板用反射層およびこの反射板用反射層を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｍｇ：０．１〜１５質量％を含有し、さらに希土類元素の内の１種または２種以上を合計で０．１〜５質量％を含有し、残部がＡｌおよび不可避不純物からなる組成を有するアルミニウム合金からなる耐腐食性に優れた反射板用反射膜およびこの耐腐食性に優れた反射板用反射膜を形成するためのスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】反射板用反射層およびこの反射板用反射層を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｍｇ：０．１〜１５質量％を含有し、残部がＡｌおよび不可避不純物からなり、前記不可避不純物は１００ｐｐｍ以下に規定されている組成のアルミニウム合金からなる耐腐食性に優れた反射板用反射膜およびこの耐腐食性に優れた反射板用反射膜を形成するためのスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】耐食性および表面平滑性に優れた光記録媒体用アルミニウム合金反射膜およびこの反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｍｇ：０．１〜１５質量％を含有し、さらに必要に応じて希土類元素の内の１種または２種以上を合計で０．１〜１０質量％を含有し、残部がＡｌおよび不可避不純物からなり、前記不可避不純物は１００ｐｐｍ以下に規定されている組成のアルミニウム合金からなる。 （もっと読む）

【課題】高記録密度を有する垂直磁気記録媒体の量産を安定して行うためには、軟磁性下地層の特性を劣化させることなく成膜を行う技術が必要である。
【解決手段】基板１上に密着層２を形成し、次に第一軟磁性層３１及び第二軟磁性層３２をそれぞれ２５ｎｍ形成し、非磁性層３３であるＲｕを形成し、第三軟磁性層３４及び第四軟磁性層３５をそれぞれ２５ｎｍ形成して軟磁性下地層３を作製した。第一軟磁性層３1と第二軟磁性層３２及び第三軟磁性層３４と第四軟磁性層３５はそれぞれ強磁性的に結合しており、第二軟磁性層３２と第三軟磁性層３４はＲｕ非磁性層３３を介して反強磁性的に結合している。その後、基板半径方向に磁界を印加しながら冷却を行い、次に、中間層４であるＲｕを形成し、記録層５を形成し、保護膜６を形成した。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子の長寿命化には基板を加熱してから正孔輸送層を蒸着することが有効であるが、発光層蒸着時まで基板が高温であると発光効率が低下してしまう。
そのため、正孔輸送層蒸着後、発光層蒸着開始までに基板を冷却する必要があるが、基板の反成膜面側から加熱すると基板全体が高温になるために冷却するのに時間を要したり強制冷却手段が必要となる。
【解決手段】 正孔輸送層蒸着直前に成膜面側基板近傍から基板を加熱し、成膜面が所定の温度に達したら基板加熱ヒーターを退避させると同時に成膜を開始することで基板を冷却する工程や時間を大幅に削減できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一般に、大面積基板における堆積の均一性を向上させるため、大きな陽極表面積を有する物理気相蒸着（ＰＶＤ）チャンバにおいて、基板表面を処理する装置及び方法を提供する。
【解決手段】一般に、本発明の態様はフラットパネルディスプレイ工程、半導体工程、太陽素子工程又は他の基板処理工程で用いることができる。ある態様において、処理チャンバは１又はそれ以上の調整可能な陽極アセンブリを備え、これは処理チャンバの処理領域にわたって陽極表面積を増大し、より均一に分布させる。１の態様において、１又はそれ以上の調整可能な陽極アセンブリは真空を解除することなく堆積された陽極表面を堆積されていない新品と交換するために用いられる。他の態様において、接地経路を有する遮蔽フレームは、陽極面積及び堆積均一性を増大するため、基板表面の堆積層と接触する。 （もっと読む）

【課題】スパッタターゲットタイルを溶接して、大型スパッタターゲット及びターゲットアセンブリを提供する。
【解決手段】支持部の表面上に少なくとも２個のターゲットタイル５０１Ａ、５０１Ｂを並べて配置し、少なくとも２個のターゲットタイルの端部は隣接し、ターゲット材料の小片５５２又は粉体５５３上に少なくとも１の境界ライン５２１Ａを形成し、電子ビーム溶接チャンバ内のガスを排出し、少なくとも２個のターゲットタイル５０１Ａ、５０１Ｂ及びターゲット材料の小片５５２又は粉体５５３を、ターゲットタイルの溶融が開始する温度、物理的状態が変化する温度又は実質的に分解する温度以下の予備加熱温度まで予備加熱し、並べて配置された少なくとも２個のターゲットタイル５０１Ａ、５０１Ｂを大型ターゲットに溶接する。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板にＡｌ膜を成膜した表面鏡は、ガラス基板とＡｌ膜との密着性が弱く、硬度、耐高温、耐湿性、耐塩水性のについて十分な耐久性を有していないため、リアプロジェクションテレビの反射鏡に用いることが困難であった。
また、また反射角度が大きい場合の可視光線全域(４００〜７００nm)における反射率が低いという欠点があり、表面鏡の反射角を大きくして、リアプロジェクションテレビの奥行きを小さくすることが困難であった。
【解決手段】ガラス基板の表面がイオンエッチング処理され、金属膜がＡｌ膜を該イオンエッチング処理したガラス基板表面に成膜されてなる表面鏡である。
金属酸化物膜は、Ａｌ膜の上にＳｉＯ_２膜、Ｎｂ₂Ｏ₅膜を順次積層してなる。 （もっと読む）

【課題】 直受け構造コンロッドにおいて、従来のPb,Snもしくは樹脂系オーバレイの耐面圧性能は、20 〜25MPa程度であり、又Al-Pb系オーバレイは13MPa程度であり、半円形すべり軸受の耐面圧性能よりはかなり低い。本発明は、軸受面圧保証性能が高いMoS₂系コーティング軸受を提供する。
【解決手段】 コンロッド(1)摺動面にAl-Sn系合金2をスパッタにて被着し、Al-Sn系合金2上にMoS₂-樹脂系オーバレイ3を塗布焼付した直受コンロッド。 （もっと読む）

銅合金からなるキャリア層、及びこのキャリア層の上に施工された滑り層を有する滑り軸受け複合材料が開示される。前記銅合金は、０．５〜５重量％のニッケル、０．２〜２．５重量％のケイ素、≦０．１重量％の鉛を含む。前記滑り層は、中間層無しで施工されたスパッタ層であることができる。製造方法も開示される。 （もっと読む）

鋼製のキャリア層、銅合金製の軸受け金属層、及びこの軸受け金属層の上に施工された滑り層を有する滑り軸受け複合材料が開示される。前記の銅合金は、０．５〜５重量％のニッケル、０．２〜２．５重量％のケイ素、≦０．１重量％の鉛を含んでなる。前記滑り層は、中間層無しで施工されたスパッタ層であることができる。また製造法も開示される。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴディスプレー被覆用のＡｌ及びＡｌ合金系の一体構造の管状スパッタターゲットを製造することができる工業的にかつ経済的に魅力的な方法を開発すること
【解決手段】スパッタプロセスにおいて利用可能な管状領域に合わせ目又は継ぎ目がないターゲット材料を有する、特にＴＦＴディスプレーを製造するための管状スパッタターゲットにおいて、前記ターゲット材料がＡｌ又はアルミニウム合金からなることを特徴とする管状スパッタターゲット （もっと読む）

【課題】コストを抑えながら、メディアのデータ記憶能力を向上させ、正確なデータ位置制御を維持し、かつメディア・データの解像度を向上させるパターンド・メディア・インプリント・マスタを作製する装置、システム、および方法を提供する。
【解決手段】基板１０２および蒸着マスク１１０は、蒸着プロセスの間、基板および蒸着マスクが一体の要素として作用するように、間にあるスペーシング要素１０８によって固定的に取り付けられる。蒸着マスク１１０は、リソグラフィ・プロセスによって生成された複数の開口１１２を包含する。材料は、固有の蒸着角度で配向された１を越える蒸着源３００から、蒸着マスク１１０を介して基板上に蒸着される。従って、得られる基板１０２の蒸着パターンは、蒸着マスク開口１１２の密度よりも高い密度を示す一方で、蒸着パターンの歪みが回避される。 （もっと読む）

【課題】 Ａｌやその合金の蒸着被膜を、希土類系永久磁石などの被処理物の表面に、突起物の生成や損傷を効果的に抑制しつつ、優れた生産性でもって形成する方法を提供すること。
【解決手段】 真空処理室内に、蒸着材料の溶融蒸発部と、複数個の被処理物を収容するための収容部材を備えた蒸着装置を用い、複数個の被処理物を収容した収容部材を水平方向の回転軸線を中心に回転させながら、Ａｌまたはその合金の蒸着材料を被処理物の表面に蒸着させるに際し、予め、被処理物を２００℃〜３５０℃に加熱しておいてから蒸着を開始することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】画素電極と直接接続でき、しかも、約２５０℃といった比較的低い熱処理温度を適用した場合でも充分に低い電気抵抗率と優れた耐熱性とを兼ね備えた配線材料を有する薄膜トランジスタ基板を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタと透明画素電極を有し、Ａｌ合金膜と酸化物導電膜が、高融点金属を介さずに直接接続しており、その接触界面にＡｌ合金成分の一部または全部が析出もしくは濃化して存在する薄膜トランジスタ基板であって、Ａｌ合金膜は、合金成分として、グループαに属する元素を０．１〜６原子％、およびグループＸに属する元素を０．１〜２．０原子％の範囲で含有するＡｌ−α−Ｘ合金からなり、グループαは、Ｎｉ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ｇｅの少なくとも一種、グループＸは、Ｍｇ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｄｙの少なくとも一種である。 （もっと読む）

【課題】 製造時及び使用時に生じる反り（変形）が小さく、ターゲットを精度良くかつ効率的に製造することができ、また安定した成膜操業を行うことのできるＡｌ−Ｎｉ−希土類元素合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 Ｎｉ及び希土類元素を含むＡｌ基合金スパッタリングターゲットであって、該ターゲット平面に垂直な断面を倍率：２０００倍以上で観察したときに、アスペクト比が２．５以上で円相当直径が０．２μｍ以上の化合物が、５．０×１０⁴個／ｍｍ²以上存在していることを特徴とするＡｌ−Ｎｉ−希土類元素合金スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 原料フィルムの成膜面に対してマスクパターンを高精度に形成することができる巻取式真空成膜装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ１１と、原料フィルム１２の巻出し部１３及び巻取り部１５と、原料フィルム１２に密着しこれを冷却するキャンローラ１４と、原料フィルム１２に金属膜を蒸着させる蒸発源１６と、原料フィルム１２の成膜面に、金属膜の蒸着領域を画定するマスクパターンを形成するマスク形成ユニット２０とを備え、このマスク形成ユニット２０において、原料フィルム１２へ上記マスクパターンを印刷塗布する版胴３２を、シームレススリーブ印刷版で構成する。 （もっと読む）