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Fターム[4G030GA11]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 製法 (11,361) | 杯土の構成原料 (3,529) | 原料粉末の粒度限定 (886)

Fターム[4G030GA11]に分類される特許

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【課題】従来のハニカム触媒体より多くの触媒を担持することができ、圧力損失が小さく、かつ、高い強度を有するハニカム触媒体の担体として使用可能なハニカム構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径0.5〜10μmでアスペクト比5〜20のアルミナを含有するセラミック原料及び分散媒を含む成形原料を混練して坏土を得る坏土調製工程と、得られた坏土をハニカム形状に押出成形して一方の端面から他方の端面まで貫通する複数のセルが形成されたハニカム成形体を得る成形工程と、得られたハニカム成形体を焼成してハニカム構造体を得る焼成工程と、を備えるハニカム構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】開気孔率と機械的強度とをともに十分な高さで備えるハニカム構造体を提供する。
【解決手段】コージェライトを主成分とする多孔質の隔壁3と、隔壁3により区画形成されて一方の端部7aから他方の端部7bまで通じる複数のセル5とを有し、隔壁3の開気孔率が58〜70%かつ隔壁3の平均細孔径が15μm以上であるとともに、隔壁3の断面像においては、島状に散在する骨格の断面像についての輪郭の長さをLとし、骨格の断面像と外接する円の円周の長さCとするときに、骨格の断面像の輪郭の長さLの平均値が140〜300μmかつL/Cの平均値が2.5〜3.0を満たすハニカム構造体1。 (もっと読む)


【課題】分極方向と分極方向に直交する方向との応力状態の違いを測定することができる圧電/電歪セラミックス焼結体の応力状態測定方法を提供する。
【解決手段】母相と前記母相中に分散された添加材相との複合構造を有する圧電/電歪セラミックス焼結体について、分極していない状態で、予定分極方向及び予定分極方向に直交する方向の2方向からラマン分光分析を行い、予定分極方向を分極方向として分極された圧電/電歪セラミックス焼結体について、分極方向及び分極方向に直交する方向の2方向からラマン分光分析を行い、分極していない圧電/電歪セラミックス焼結体についての2方向からのラマン分光分析の結果と、分極された圧電/電歪セラミックス焼結体についての2方向からのラマン分光分析の結果とから、圧電/電歪セラミックス焼結体の応力状態を得る圧電/電歪セラミックス焼結体の応力状態測定方法。 (もっと読む)


【課題】シートアタックや経時安定性の問題を解決することができ、かつ、脱脂工程等を行う用途に使用する場合であっても、分解残渣が極めて少ないセラミックスラリー組成物及び該セラミックスラリー組成物を用いたセラミックグリーンシートを提供する。
【解決手段】セラミック粉末、少なくともビニルアルコール単位、アセタール単位、アセラル単位で表される構造単位を有するポリビニルアセタール樹脂及び臭素を含有しないエポキシ樹脂を含有し、前記エポキシ樹脂の含有量が、前記ポリビニルアセタール樹脂100重量部に対して、2〜15重量部であるセラミックスラリー組成物。 (もっと読む)


【課題】新規なセラミックスおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミックスの製造方法は、圧粉体を水熱処理し、前記水熱処理後の圧粉体を焼結する方法である。ここで、水熱処理温度が100〜370℃の範囲内にあることが好ましい。また、焼結温度が700〜1600℃の範囲内にあることが好ましい。生成したセラミックスは、密度が70〜100%の範囲内にあり、グレインサイズが0.01〜100μmの範囲内にある。また、配向セラミックスである場合は、配高度が50〜100%の範囲内にあり、圧電定数が10〜5000pC/Nの範囲内にある。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラス粉末の粉砕時間を短縮しかつ安定させることができるガラスセラミックグリーンシートの製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明のガラスセラミックグリーンシートの製造方法は、ガラス粉末を、有機溶剤、玉石と混合して所定粒径まで粉砕してスラリーを作製し、その後このスラリーをシート成形することからなるガラスセラミックグリーンシートの製造方法であって、前記粉砕を室温より高い温度で一定に保持した状態で行うようにしたものである。 (もっと読む)


【課題】単一配向の結晶配向性が高いセラミックス薄膜を得ることができるセラミックス前駆体薄膜の製造方法および前駆体溶液を提供する。
【解決手段】本発明に係るセラミックス前駆体薄膜の製造方法は、金属アルコキシド溶液を希釈した希釈溶液に、アモルファス粉末を混合し、金属アルコキシド系化合物を含む前駆体溶液を作製する前駆体溶液作製工程と、前記前駆体溶液を用いてゲル膜を成膜するゲル膜成膜工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低温焼結が可能で、高周波領域での誘電損失が低く、メッキ耐食性に優れたセラミックス焼結体を得ることが可能なセラミックス組成物、該組成物から得られるセラミックス焼結体、及び該焼結体を用いた電子部品を提供する。
【解決手段】固相反応法により合成されたディオプサイド結晶粉末100質量部に対し、SrTiO粉末を6〜19質量部、Al成分を酸化物換算で1.4〜6質量部、Li成分を酸化物換算で0.3〜0.9質量部、B成分を酸化物換算で1.6〜3.2質量部、Zn成分を酸化物換算で3.2〜5.1質量部、Cu成分を酸化物換算で0.5〜0.9質量部、Ag成分を酸化物換算で0〜3質量部、Co成分を酸化物換算で0〜4.5質量部含有するセラミックス組成物。該組成物を用いて、セラミックス焼結体及び電子部品を得る。 (もっと読む)


【課題】焼結体組織が均一であり加工性に優れ、焼結体本来の呈色が保持された酸化アルミニウム焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】結晶粒子と粒界相とからなる酸化アルミニウム焼結体であって、結晶粒子中に酸化チタンが0.08質量%以上0.30質量%以下固溶している。このように結晶格子中に酸化チタンが固溶し、粒成長が促進されているため、焼結体組織が均一になり、加工性が良好となる。また、チタン酸アルミニウムの生成や酸化チタンの酸素欠損が生じ難い。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタに使用できる非シリコン系半導体薄膜、及びそれを形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】ガリウムが酸化インジウムに固溶していて、原子比Ga/(Ga+In)が0.05〜0.08であり、全金属原子に対するインジウムとガリウムの含有率が80原子%以上であり、Inのビックスバイト構造を有することを特徴とする酸化物焼結体。 (もっと読む)


【課題】肉厚が6mm以上の肉厚品を得る場合に、乾燥工程に長い時間をかけることなく、焼成時の爆発、割れ、クラック等が生じることなく、かつ寒冷地で利用する際にも問題にならない程度に吸水率の小さな陶磁器板を提供すること。
【解決手段】0.1mm以上0.5mm以下の骨材と、アノーサイトとを含有し、吸水率が2.5%未満の、1160℃未満の温度で焼成することにより得られる、陶磁器板。 (もっと読む)


【課題】軽量磁器の製造には、可塑性・焼成結晶性・耐火性などに優れた軽量磁器を、長期的に安定供給することが必要である。火山岩分類の流紋岩を微粉砕した中空発泡ガラス球体を人工的に超軽量磁器粘土へと容易に変換・生成できる製造方法を提供する。
【解決手段】嵩密度(タップ)が0.20〜0.41範囲の火山岩分類の流紋岩にある微粉小球状中空発泡ガラス球体の軽量骨材(タイセツバルーン)を主体に配合した磁器坏土泥漿を石膏鋳型に鋳込み成型した成型物を完全乾燥し、4ミクロン以下の無機中空多孔質に還元焼成して超軽量磁器を製造する。さらに耐火性と熱量性を高める目的で、タイセツバルーン表面を酸化アルミニウムで被覆すること、また高強度化の目的でカリ長石をさらに配合することも有効である。 (もっと読む)


【課題】粗大な粒子が存在しない焼結体の製造に適した一酸化チタン粉末等の低原子価酸化チタン粉末、及びそれを用いて製造した酸化亜鉛系焼結体を提供する。
【解決手段】BET比表面積が1m/g以上10m/g以下であり、レーザー回折・散乱法により測定した粒度分布における積算体積分率90%粒径が5μm以下である一酸化チタン粉末等の低原子価酸化チタン粉末は、粉砕ボール径が1mmφ以上10mmφ以下であるボールミルにより粉砕処理が施された後、目開きが50μm以上120μm以下の篩にかけて選別されたものである。 (もっと読む)


【課題】TFT特性の均一性、TFT特性の再現性及びTFTの歩留りが良好なTFTパネルが得られる複合酸化物焼結体、及びそれからなるスパッタリングターゲットを提供すること。
【解決手段】In、Zn及びSnを含み、焼結体密度が相対密度で90%以上であり、平均結晶粒径が10μm以下であり、バルク抵抗が30mΩcm以下であり、直径10μm以上の酸化スズの凝集粒子数が、1.00mmあたり2.5個以下である複合酸化物焼結体。 (もっと読む)


【課題】熱伝導率が高く、効率のよい放熱性を達成でき、電子機器等の発熱部位における冷却用途に利用でき、しかも機械的強度や耐熱衝撃性にも優れる、アルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの製造方法、および上記の機能が発揮できる結晶粒の成長を抑えたアルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの提供。
【解決手段】アルミナ(Al23)の含有量が99.5質量%以上で、かつ、平均粒子径が0.2〜1μmであるアルミナ粉末を原料として用い、該粉末を50〜100μmの顆粒状にする顆粒化工程と、該顆粒化工程で得られた顆粒状のアルミナを含む原料を加圧成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体を大気雰囲気中で加熱して、1,480〜1,600℃の焼成温度で焼成して焼結体を得る焼成工程とを有する熱放射部材用セラミックスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】比抵抗値を広い範囲内で調整することができると共に、比抵抗値の温度依存性を調整することが可能な導電性セラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】導電性セラミックス焼結体は、ドーパントを含む半導体セラミックスの第一相10と、非導電性セラミックスの第二相20とを具備し、第二相が第一相に取り囲まれて散在している海島構造を有する。上記構成において、第一相は、第一相全体におけるドーパントの平均濃度よりドーパントの濃度が高く、第二相を被覆しているD高濃度相11と、第一相全体におけるドーパントの平均濃度よりドーパントの濃度が低いD低濃度相12とからなるものとすることができる。 (もっと読む)


【課題】六方晶系窒化ホウ素を快削性付与剤として含み、比較的低温で、かつ、無加圧下でも製造が可能な快削性セラミックス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の快削性セラミックスは、快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、焼結助剤としてのアルミノケイ酸塩粉体と、基材としてのセラミックス粉体(ただし六方晶系窒化ホウ素及びアルミノケイ酸塩は除く)との混合物の焼結体からなり、前記六方晶系窒化ホウ素粉体の粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式:{(FePt100−x(100−y)(100−z)、ここでAがAuおよびCuの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により30≦x≦80、1≦y≦30、3≦z≦63で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、AuPt合金粉およびCuPt合金粉の少なくとも一方と、AgPt合金粉と、FePt合金粉と、Pt粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、熱伝導性に優れた窒化ホウ素粒子及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】
ホウ酸メラミンと、粉末X線回折法による黒鉛化指数(GI)2.0以下、平均粒子径5〜40μmの鱗片状窒化ホウ素粉末からなり、平均粒子径が40〜300μmである複合粒子。有機バインダーを0.05〜1.0質量%含有した水溶液100質量部に対し、ホウ酸メラミン100質量部に対して鱗片状窒化ホウ素が1.0〜20質量部の混合物10〜50質量部含有するスラリーを用いて、噴霧造粒する複合粒子の製造方法。複合粒子を、非酸化性雰囲気下600〜1300℃で焼成後、非酸化性雰囲気下1600〜2200℃で焼成する窒化ホウ素粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】予備スパッタ工程に要する時間を短縮化し、そのばらつきも小さくなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、酸化亜鉛を主成分とする焼結体からなり、焼結体の表面の水との接触角が80°以下である。これは、アセトン又はアルコールを用いて表面が洗浄されることによる。そして、この洗浄後、湿度が40〜80%、温度が室温から100℃以下の環境化で1時間以上静置されることが好ましい。 (もっと読む)


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