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Fターム[4G030GA11]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 製法 (11,361) | 杯土の構成原料 (3,529) | 原料粉末の粒度限定 (886)

Fターム[4G030GA11]に分類される特許

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【課題】気密性の高い酸素分離膜を備える酸素分離膜エレメント及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明によって提供される酸素分離膜エレメントの製造方法は、一般式:Ln1−xAeCo1−yで示されるペロブスカイト型酸化物を含む多孔質支持体用原料粉末であって、平均粒径10μm以上の原料粉末を所定形状の成形体に成形する工程と、該成形体の表面部の少なくとも一部に、一般式:Ln1−xAeCo1−yで示されるペロブスカイト型酸化物から実質的に構成される酸素分離膜を形成するための前駆体を付与する工程と、成形体及び前駆体を1150℃〜1250℃の温度域にて24時間以上同時焼成することにより、多孔質支持体と該多孔質支持体の表面部に設けられた酸素分離膜とを同時に形成する工程と、を包含する。 (もっと読む)


【課題】スピネルを添加したアルミナカーボン系不焼成れんがにおいて水和反応を抑制し、各種スラグに対する耐食性、熱間強度を向上させるとともに、溶融金属保持炉から放出される熱ロスを削減するために熱伝導率維持特性を改善すること。
【解決手段】炭素原料を6質量%以上25質量%以下、アルミニウム及び/又はアルミニウム合金を0.1%以上4質量%以下、スピネル超微粉を2質量%以上20質量%以下、残部が主としてアルミナ原料からなる耐火原料配合物に有機バインダーを添加して混練し、成形後、1000℃以下で熱処理して得られる溶融金属保持炉の内張り用アルミナカーボン系不焼成れんがである。耐火原料配合物中のスピネル超微粉は、粒径が150μm未満で平均粒径が0.1〜50μm、MgO含有量が25〜50質量%で残部がAlからなる。 (もっと読む)


【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第1酸化物粉末と第2酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第1酸化物粉末がMgO粉末であって、第1酸化物粉末の第1酸化物純度が98%以上であり、第2酸化物粉末がZnO粉末であって、第2酸化物粉末の第2酸化物純度が98%以上であり、蒸着材が第1酸化物粒子と第2酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第1酸化物と第2酸化物との比率が5〜85:95〜15であり、かつ、ペレットの塩基度が0.1以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】取鍋、特に鋼浴部用耐火物に必要な残存膨張性、応力緩和能、耐スラグ浸潤性に優れ、カーボンによる溶鋼汚染を抑制できるアルミナ−マグネシア質耐火れんが及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミナ質原料と、粒度0.5mm以下の微粉を90質量%以上含有するマグネシア質原料を使用し、化学成分としてAlとMgOとの合量が85質量%以上、MgOが4〜20質量%、SiOが0.5〜5質量%、NaOとKOが合量で0.3〜2質量%、Cが0.5質量%以上、7質量%未満であることを特徴とし、これら各種原料を混合・混練し、得られた混練物をプレス成形した後、100〜1150℃の温度範囲で加熱処理することを特徴として製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低温同時焼成セラミック組成物及びこれを含む低温同時焼成セラミック基板並びにその製造方法に関する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る低温同時焼成セラミック組成物は、セラミック粉末20〜70重量部と、低温焼結用のガラス成分30〜80重量部とを含み、当該セラミック粉末は、板状セラミック粉末と球状セラミック粉末とを含み、当該板状セラミック粉末に対する当該球状セラミック粉末の含量比(球状セラミック粉末/板状セラミック粉末)が0〜1である。本発明に係る低温同時焼成セラミック組成物は、面方向(x−y方向)の収縮が抑制され、且つ優れた強度を有することができる。 (もっと読む)


【課題】異常放電を抑制し安定にスパッタリングを行うことのできるターゲット、金属又は合金用のエッチング液であるリン酸系エッチング液でもエッチング可能な透明導電膜が得られるターゲットを提供する。
【解決手段】インジウム、錫、亜鉛、酸素を含有し、六方晶層状化合物、スピネル構造化合物及びビックスバイト構造化合物を含むことを特徴とするスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】低温で焼結させることができ、かつ高い強度が得られるセラミックグリーンシート及びこれを焼成することにより形成したセラミック基板を得る。
【解決手段】無機粉末と有機樹脂とを含むセラミックグリーンシートであって、無機粉末は、無機粉末の合計重量を100重量%としたとき、酸化アルミニウムを72重量%〜98重量%、酸化銅を1重量%〜12重量%、酸化チタンを0.1重量%〜3重量%及び酸化ケイ素を0.25重量%〜10重量%の範囲でそれぞれ含むことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】アルカリ成分との反応が抑制され、かつ一層の軽量化が図られた断熱耐火物を提供すること。
【解決手段】本発明の断熱耐火物は、アルミナ又はジルコニアセラミックスからなり、シリカを含まないか、又は含んだとしても1重量%以下であり、気孔率が65〜85%であり、かつ圧縮強さが2MPaであることを特徴とする。この断熱耐火物は、アルミナ粒子又はジルコニア粒子、水溶性高分子材料、多糖類、焼成によって消失可能な造孔粒子、及び液媒体を混練して得られた混練物を、該造孔粒子が破壊されない圧力でプレス成形して成形体を得;次いで該造孔粒子が消失する条件下に該成形体を焼成することで好適に製造される。 (もっと読む)


【課題】優れた機械的強度を有し、かつ、基材と溶射層との密着性が高い焼成用道具材を提供する。
【解決手段】アルミナ−シリカ質の基材の表面に、アルミナからなる溶射層Xを有する焼成用道具材であって、下記式(1)及び(2)を満足し、かつ曲げ強さが25MPa以上であることを特徴とする焼成用道具材。
dp≧900 (1)
vp≧0.007 (2)
ここで、dpは、水銀圧入法により測定された前記基材の細孔径分布におけるピーク細孔径(nm)であり、vpは、ピーク細孔径dpにおける差分細孔容積(ml/g)である。 (もっと読む)


【課題】スパッタ成膜時に発生するノジュールを抑制し、酸化物半導体膜を安定かつ再現性よく得ることができるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】In元素、Cu元素及びGa元素をCu/(Cu+In+Ga)=0.001〜0.09及びGa/(Cu+In+Ga)=0.001〜0.90の原子比で含む金属酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】 打ち抜き加工時のクラックが抑制され、機械的な強度も高いセラミックグリーンシートおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 セラミック粉末1をバインダ2で結合してなり、バインダ2は、ポリビニルアセタール鎖にポリビニルアルコール鎖およびポリビニルチオール鎖が結合してなる変性ポリビニルアセタール鎖を主成分とする第1相2aと、アクリルポリマーまたはメタクリルポリマーを主成分とする第2相2bを含み、第1相2aおよび第2相2bは、第2相2bのビニル基が第1相2aのチオール基へラジカル連鎖移動反応することによって、第1相2aが海であり第2相2bが島である海島構造を形成して互いに結合しているセラミックグリーンシート3である。第1相2aでバインダ2の機械的な強度を高くし、柔軟な第2相2bでクラックCの進行を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】射出成形時の流動性が良好であり、脱脂時及び焼成時にクラックが発生しにくい、多孔質セラミックス製造用の射出成形用材料を提供する。
【解決手段】平均粒径50μmのシリカ粉末と、ポリエチレングリコール(平均分子量5000)と、パラフィンワックス(融点45℃)を、80:10:10の重量比になるように秤量した後に、これらを混合し、120℃で4時間混練して得られた射出成形用材料。 (もっと読む)


【課題】高温環境で使用される第1部材と第2部材との境界領域におけるシール性を高めるのに有利なセラミックス剤、高温組付体、高温組付体の製造方法を提供する。
【解決手段】第1部材と第2部材との境界領域に配置される耐熱シール剤は、合成されると体積膨張するセラミックスを形成する複数の材質のセラミックス粒子を含有する。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング法による透明導電膜の製膜時のノジュールの発生を抑止して安定性よく製膜することのできるスパッタリングターゲットおよびその製造法を提供する。
【解決手段】酸化インジウムと酸化ガリウムおよび酸化亜鉛からなる金属酸化物の焼結体であって、該金属酸化物がIn(ZnO)〔ただし、mは2〜10の整数である。〕、InGaZnO、InGaZnO、InGaZn、InGaZn、InGaZn、InGaZn、InGaZnおよびInGaZn10の群から選択される1種または2種以上の六方晶層状化合物を含有し、かつ、酸化インジウム90〜99質量%、酸化ガリウムと酸化亜鉛の合計1〜10質量%の組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング法を用いて酸化物半導体薄膜を成膜する際に発生する異常放電を抑制し、酸化物半導体薄膜を安定且つ再現性よく得ることができる酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】インジウム及びアルミニウムの酸化物を含有し、原子比Al/(Al+In)が0.01〜0.08である酸化物焼結体。 (もっと読む)


【課題】従来の製造方法に比較し所望の物性又は優れた性能を有するセラミックス粉末などを得ることができる、より効果的なマイクロ波加熱を使用した固相反応による粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉末を充填してなる粉体層にマイクロ波を照射し固相反応により粉末を製造する方法において、粉体層を流動化させ、かつ流動時の粉体層の充填率が所定の充填率になるように流動化ガスを供給しながらマイクロ波加熱する。流動化ガスを送り粉体層を流動化させることで粉体層の充填率が低下しかつ粉体層が混合され、結果、マイクロ波の吸収効率が高まり粉体層の温度が上昇する。これにより反応が促進され短時間内に所望の物性又は性能を有する粉末を得ることができる。このような製造方法は、酸化インジウムスズなど金属酸化物又は複合酸化物の製造に好適に使用することができる。 (もっと読む)


【課題】Crを含有した酸化物スパッタリングターゲットであっても、防着板からのdepo膜の剥がれ落ちを抑制可能な酸化物スパッタリングターゲットおよびこれを用いて成膜された光記録媒体用酸化物膜を提供すること。
【解決手段】ZnOおよびCrを含有する酸化物スパッタリングターゲットであって、さらにSiOを含有し、不可避不純物を除いた全金属成分量に対する原子比で、Zn:p%、Cr:q%およびSi:100−p−q%とされており、これらの成分組成が、33≦p≦90、8≦q≦65、85≦(p+q)≦99の関係を満たしている。 (もっと読む)


【課題】成膜時にスプラッシュ発生の抑制が可能であり、成膜装置の供給口での詰まりが発生しにくい酸化マグネシウム焼結体、及び、これを用いたPDPの保護膜用蒸着材、並びに、前記焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウムと、マグネシウム以外の周期表第2A族元素の酸化物3〜50質量%と、必要によりアルミニウム、イットリウム、セリウム、ジルコニウム、スカンジウム、及びクロムからなる群より選ばれる一種類又は二種類以上の元素を1000ppm以下を含む酸化マグネシウム焼結体であって、その形状が、円板状、楕円板状、多角形板状若しくは半月板状であるか、又は、立方体若しくは直方体の頂点に丸みを持たせた形状である酸化マグネシウム焼結体。 (もっと読む)


【課題】焼成時や使用時の熱による収縮および変形を抑制することができるセラミックス構造体の製造方法およびセラミックス構造体を提供する。
【解決手段】セラミックス構造体10の製造方法は、粒子径がメジアン直径の90〜110%になるまで分球したセラミックス粒子101を焼成(第1焼成工程)し、焼成したセラミックス粒子101を結合剤102と混練した後に所望する構造体の形状に成形し、得られたセラミックス成形体103を第1焼成工程よりも低い温度で焼成(第2焼成工程)する。この製造方法によれば、焼成時や使用時の熱によるセラミックス構造体の熱収縮および変形をより小さく抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】機械的強度が高く、放熱性に優れ、かつ、高反射性を有し劣化などによる反射性の低下が生じないセラミック焼結体を提供する。
【解決手段】粉体材料を混合したものを成形した後焼成して成るセラミック焼結体であって、セラミック焼結体を製造する際に用いる粉体材料は、主成分のアルミナと、ジルコニアと、マグネシア粉末とを含有し、ジルコニアの含有量の上限は、粉体材料の全重量に対して30wt%であり、マグネシアの含有量は、粉体材料の全重量に対して0.05〜1.00wt%の範囲内であり、ジルコニア中の不純物であるFeおよびTiの含有量を、FeをFeに,TiをTiOにそれぞれ換算して示した場合、Fe,TiOのそれぞれの含有量は、ジルコニアの全重量に対して0.05wt%以下であり、ジルコニアの粒度分布から求めた97%粒径は、1.5μm以下であることを特徴とするセラミック焼結体による。 (もっと読む)


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