【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第１酸化物粉末がＴｉＯ₂粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯからなる群より選ばれた１種の粉末又は２種以上の混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物とのモル比が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高結晶性のＩＴＯ薄膜を成膜できる、低い酸化スズ含有量のＩＴＯ焼結体からなり、かつ、長時間にわたり安定した成膜を可能とする、高密度のＩＴＯスパッタリングターゲットを得る。
【解決手段】原料粉末として、比表面積値が３〜１５ｍ²／ｇ、平均粒径が０．１〜０．５μｍである酸化インジウム粉末と、比表面積値が１０〜１５ｍ²／ｇ、平均粒径が０．１〜１．５μｍである酸化スズ粉末とを用い、酸化スズの含有量を２．５〜５．２質量％に調整し、混合および粉砕し、１９６ＭＰａ以上の圧力で加圧成形し、常圧の酸素雰囲気中で、１０００℃以上の領域における昇温速度を１．０℃／分以上５．０℃／分以下、保持温度を１５００℃以上１６００℃以下、保持時間を２０時間以上３０時間以下として焼成して、得られるＩＴＯスパッタリングターゲットの平均密度を７．１ｇ／ｃｍ³以上、平均結晶粒径を３μｍ以上１０μｍ未満とする。 （もっと読む）

【課題】本発明では、比較的大きな部材にも適用することが可能な、導電性マイエナイト化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】導電性マイエナイト化合物の製造方法であって、（１）カルシウム（Ｃａ）とアルミニウム（Ａｌ）の割合が、ＣａＯ：Ａｌ_２Ｏ_３に換算したモル比で、１２．６：６．４〜１１．７：７．３となるように調合した原料粉末を用いて、マイエナイト化合物粉末を調製する工程と、（２）前記マイエナイト化合物粉末を、３００℃以上１２００℃未満の温度に保持し、焼結体を得る工程と、（３）前記焼結体を、還元性雰囲気下で１２００℃〜１４１５℃の範囲の温度に保持する工程と、を含むことを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングターゲットに用いた場合に異常放電を発生せず、比抵抗の小さな透明電極を得ることが出来る程度に緻密な酸化亜鉛系焼結体を得る。
【解決手段】低原子価チタンを２モル％超、１０モル％以下含有する酸化亜鉛焼結体であって、相対密度９５％以上で、かつ複合酸化物の含有割合が１０％以下である。この酸化亜鉛焼結体は、酸化亜鉛粉末と、亜鉛と低原子価チタンの複合酸化物粉末とを、低原子価チタンが２モル％超、１０モル％以下含有するように混合した後、成形し、次いで８００〜１５００℃の温度で焼結を行うことによって得られる。 （もっと読む）

【課題】高密度でバルク均一性が高く、製造時のみならずスパッタリング時にも、クラック、割れ、変形などが発生しない、円筒形スパッタリングターゲット用酸化物焼結体を得る。
【解決手段】２枚のメッシュ状の敷板(2)を隙間(9)を介して配置し、その上に、中空部分(8)の下方を隙間(9)が通過するように、成形体(1)を載置し、配管(3-1)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の下部付近となるように、配管(3-3)を、配管出口の高さが成形体(1)の高さ方向の上部付近となるように、配管(3-2)を、敷板(2)の隙間(9)を介して成形体(1)の中空部分(8)に雰囲気ガスが流れるように、それぞれ配管の長さを調整して、雰囲気ガスを炉内に流通させて焼成を行う。得られる酸化物焼結体のバルクの各点での、密度の相対標準偏差は１％以下、比抵抗値の相対標準偏差は10％以下、平均結晶粒径の相対標準偏差は５％以下、密度は理論密度の90％以上である。 （もっと読む）

【課題】 押出成形速度を上げた場合でも、押出負荷が小さく成形性の良いセラミック押出成型用分散剤を提供することである。
【解決手段】セラミック粒子、バインダー、分散剤及び水を含有する組成物を押出成形した後、焼成してセラミック成形体を製造するために用いられる分散剤において、（メタ）アクリル酸（塩）（Ａ）及び式（１）で表されるビニルモノマー（Ｂ）を必須構成単量体としてなるビニルポリマー（Ｐ）であって、（メタ）アクリル酸（塩）（Ａ）単位及びビニルモノマー（Ｂ）単位のモル数に基づいて、（メタ）アクリル酸（塩）（Ａ）単位の含有量（モル％）が７２〜９８、ビニルモノマー（Ｂ）単位の含有量（モル％）が２〜２８であるビニルポリマー（Ｐ）を含有することを特徴とするセラミック押出成形用分散剤を用いる。
【化１】
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【課題】透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。
【解決手段】第１酸化物粉末と第２酸化物粉末とを混合して作られた蒸着材において、
第１酸化物粉末がＳｉＯ₂粉末であって、第１酸化物粉末の第１酸化物純度が９８％以上であり、第２酸化物粉末がＺｎＯ、ＭｇＯ及びＣａＯからなる群より選ばれた１種の粉末又は２種以上の混合粉末であって、第２酸化物粉末の第２酸化物純度が９８％以上であり、蒸着材が第１酸化物粒子と第２酸化物粒子を含有するペレットからなり、蒸着材中の第１酸化物と第２酸化物とのモル比が５〜８５：９５〜１５であり、かつ、ペレットの塩基度が０．１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 たわみ試験においてクラックの発生が無く機械的信頼性に優れたガラスセラミック配線基板を提供する。
【解決手段】 ガラスセラミックスからなる絶縁層が複数積層された絶縁基体１と、該絶縁基体１の表面に形成された表面配線層２とを具備するガラスセラミック配線基板であって、前記絶縁基体１がセラミックフィラーとしてアルミナ粒子を含有するとともに、少なくともアルミナ（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）およびカルシウム（Ｃａ）を元素として含むガラス相とから構成されており、前記表面配線層１が銀を主成分とし、ロジウム（Ｒｈ）および酸化銅を含有するとともに、前記絶縁基体１の表面にアノーサイト相を主結晶相とするセラミック層７を有し、抗折強度が１９０ＭＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】耐リチウム反応性に優れ、かつ、軽量の炉材を提供すること。
【解決手段】ＭｇＯの含有率が３３〜９９．５質量％、ＭｇＯ と Ａｌ₂Ｏ₃ との合計含有率がＭｇＯ +Ａｌ₂Ｏ₃＝９５〜９９．９質量％、ＭｇＯ とＡｌ₂Ｏ₃との含有比率が、各質量％比で、Ａｌ₂Ｏ₃ / ＭｇＯ= ０．００３ 〜 ２．１、嵩比重が１．０〜２．５とする。 （もっと読む）

【課題】誘導加熱方式のホットプレス用焼成炉を用いたセラミック焼結体の製造において、セラミック焼結体の品質のバラツキを抑制すること。
【解決手段】誘導加熱方式の焼成炉１内に設けられた焼成室５内にセラミック粉末からなる被焼成物を配置し、一対の加圧部３により被焼成物の加圧を行いつつ加熱して焼成物を得るセラミック焼結体の製造方法に関する。該加熱は、一対の加圧部３から選ばれる少なくとも一方の加圧部３における加圧軸方向の両端部および中間部から選ばれるいずれかの部分に、加圧軸方向における常温での熱伝導率が焼成室５を構成する部材の熱伝導率の１０％以下となる低熱伝導材８を配置して行う。 （もっと読む）

【課題】粒成長が抑制され緻密で優れた機械的特性を備えた多結晶材料とその多結晶材料の簡便且つ効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】母材粒子電荷調整工程Ｓ２１および繊維状物質電荷調整工程Ｓ２２にてそれぞれ得られた母材粒子と繊維状物質とを混合して、両者を静電的引力によって結合させ、複合化する。繊維状物質の配合量を調節することで、疎密な状態でありつつ母材粒子の表面を包接する態様（網目状に包接）で、繊維状物質が母材粒子に付着された複合粒子を生成することができる。母材粒子が焼結する焼成温度において、繊維状物質は実質変化を起こさないものが選択されている。このため、焼成工程Ｓ４を経て得られる本多結晶材料は、粒成長が抑制され、結晶粒が微細で緻密、且つ、均質なものとなる。 （もっと読む）

【課題】結晶配向セラミックスの成長のシードとして好適に用いられる鉛系圧電材料を提供する。
【解決手段】上記課題は、粒子状の鉛系圧電材料であって、メジアン径が１μｍ未満であり、［算術偏差／平均］で表される粒度分布が１５％以下であり、全粒子のうち８５％以上が立方体形状を有する鉛系圧電材料によって解決される。 （もっと読む）

【課題】シートに発生するうねりの低減に適した、燃料電池用電解質シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、（Ｉ）セラミック多孔質スペーサとジルコニア系グリーンシートとを交互に積み重ねて、前記スペーサと前記グリーンシートとからなる第１の積層体を作製し、前記グリーンシートを所定の温度で焼成する工程と、（II）前記工程(Ｉ)によって得られた焼成シートを複数積み重ねて第２の積層体を作製し、前記第２の積層体に所定の荷重をかけて、前記工程（Ｉ）における焼成温度以下の温度で前記焼成シートを焼成する工程と、を含む。本発明の製造方法では、前記第２の積層体を、１０〜１００枚の前記焼成シートが互いに直接積み重ねられた焼成シート群を含む積層体とする、及び／又は、工程（II）の焼成において、最高温度から、前記最高温度よりも１００℃低温までの降温速度を５℃／ｍｉｎ以下とする。 （もっと読む）

【課題】蒸発速度、成膜速度を向上して製造コストを低減する。
【解決手段】ＺｎＯ蒸着材は、ＺｎＯの多孔質焼結体からなり、その焼結体が０．１〜５００μｍの範囲の平均気孔径を有する。その多孔質焼結体は３〜５０％の範囲の気孔率を有することが好ましく、１〜５００μｍの範囲の平均結晶粒径を有する粒子の焼結体であることが更に好ましい。その製造方法は、純度が９９．０％以上あって平均粒径が０．１〜１０μｍであるＺｎＯ粉末とバインダと有機溶媒とを混合してＺｎＯ粉末の濃度が４５〜７５重量％のスラリーを調製する工程と、そのスラリーに気体を吹込んで混入することによりガス含有スラリーを得る工程と、そのガス含有スラリーを噴霧乾燥して平均粒径が５０〜３００μｍの造粒粉末を得る工程と、その造粒粉末を成形して成形体を得る工程と、その成形体を所定の温度で焼結してＺｎＯ多孔質焼結体を得る工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】接合面を鏡面研磨することなくアルミナセラミックス焼結体が接合されたアルミナセラミックス接合体を提供する。
【解決手段】アルミナセラミックス接合体１０は、アルミナセラミックス焼結体１，２，３を接合面１ａ，２ａ，３ａで当接させた状態で焼結することにより接合されており、接合界面１１における空孔１２が５μｍ以下であり且つ空孔１２の割合αが３％以上４０％以下である。接合面１ａ，２ａ，３ａの表面粗さＲａを０．２５μｍ以上０．８０μｍ以下に研削したアルミナセラミックス焼結体１，２，３を焼結して形成される。 （もっと読む）

【課題】 高速成膜可能でバリア性・透明性に優れ、蒸着時のスプラッシュ発生を抑制した蒸着材料および、その蒸着材料を用いたガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 特定の酸化スズ系の蒸着材料が、上述の課題を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。二酸化スズと一酸化スズとを含有し、酸素とスズの原子比（Ｏ／Ｓｎ比）が１より大きく、１．８未満であり、見掛け密度が１．５〜４．０ｇ／ｃｍ^３であることを特徴とする蒸着材料を電子ビーム加熱方式により、樹脂基材上にガスバリア層を５００ｎｍ／分〜１２０００ｎｍ／分で真空蒸着により成膜する。 （もっと読む）

【課題】誘電体層の薄層化に適した誘電体スラリーを提供することができる誘電体スラリーの製造方法と、誘電損失が小さく、高誘電率で長寿命の積層セラミック電子部品とを提供すること。
【解決手段】誘電体粉末と溶剤とを少なくとも含む分散前処理溶液を、予備分散処理により混合分散する工程と、予備分散処理が行われた処理済み溶液を、湿式分級装置を用いて分級する工程と、を有し、予備分散処理が、予備分散処理前の溶液に含まれる誘電体粉末のＢＥＴ比表面積（α）に対する予備分散処理後の溶液に含まれる誘電体粉末のＢＥＴ比表面積（β）の変化率（１００×（β−α）／α）が１〜５％である。 （もっと読む）

【課題】セラミックス基板の絶縁破壊耐圧と熱伝導率との両立を図る。
【解決手段】非球状のセラミックス粒子と、それより粒径の小さいセラミックス粒子とを含む混合物を形成し、その混合物中の非球状セラミックス粒子に一定の方向性をもたせた後、焼成する。このようにすることで、非球状のセラミックス結晶粒子１１ａを含む結晶組織１１ｂを有していて、その第１面の粒度分布の中心粒径が１０μｍ乃至６０μｍで、第１面と直交する第２面の粒度分布の中心粒径が５μｍ乃至３０μｍである、絶縁破壊耐圧及び熱伝導率が共に良好な、セラミックス基板１１を得る。 （もっと読む）

【課題】 反射率が高く、かつ、良好な機械的特性も備えた発光素子搭載用基体および発光装置を提供する。
【解決手段】 セラミックスからなるセラミック基体であって、発光素子が搭載される一方の主面側に位置する第１の表層と他方の主面側に位置する第２の表層とを有し、前記第１の表層の単位面積あたりの円相当径0.8μｍ以上の気孔数が、前記第２の表層の単位面
積あたりの円相当径0.8μｍ以上の気孔数よりも多いので、発光素子搭載用基体１の反射
率を向上させることができる。また、第２の表層の気孔数が、第１の表層の気孔数より少ないので発光素子搭載用基体の強度を保持できる。また、この発光素子搭載用基体を発光装置に用いれば、反射率が高く、良好な機械的特性を備えた発光装置を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】色むらの少ない着色粒状物を提供する。
【解決手段】ガラスフリットを含むコーティング材Ｃとコア粒子Ｂとを混合する。前記コーティング材Ｃと前記コア粒子Ｂとの混合物Ｍを焼成して前記コア粒子Ｂの表面に前記コーティング材Ｃを溶着することによって、前記コア粒子Ｂの表面に着色層Ｔを形成した着色粒状物Ａに関する。前記コア粒子のみを焼成し、焼成後のコア粒子内のＬ＊ａ＊ｂ表色系における色差が３以下である。焼成時の熱でコア粒子Ｂの変色を少なくし、コア粒子Ｂの変色が着色層Ｔの発色に及ぶのを少なくすることができる。 （もっと読む）