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Fターム[5E346FF04]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 導体層間接続の方法 (9,115) | 孔あけによるもの(スルーホール等) (5,634) | メッキによるもの (3,094)

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【課題】接続端子の密着強度を十分に高めることができ、信頼性の高い多層配線基板を提供する。
【解決手段】多層配線基板10において、配線積層部30の上面31には、ICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42が形成され、下面32側には、母基板接続端子45が形成されている。配線積層部30の下面32側には、ソルダーレジスト38が配設されている。ソルダーレジスト38に接している樹脂絶縁層21には複数の開口部37が形成される。母基板接続端子45は、開口部37内に埋設されかつ端子外面45aが樹脂絶縁層21の表面21aよりも内層側に位置している。ソルダーレジスト38は開口部37内に入り込んで端子外面45aの外周部に接触している。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の実装時及びそれ以降に発生し得る基板の反りを低減すること。
【解決手段】配線基板(パッケージ)10は、複数の配線層11,13,15,17,21が絶縁層12,14,16,18,20を介在させて積層され、各絶縁層に形成されたビア13a,15a,17a,21aを介して層間接続された構造を有している。配線基板10の、半導体素子41が実装される側と反対側の最外層の絶縁層20もしくはその近傍部分に、半導体素子41と同程度の弾性率及び熱膨張係数を有するシート状部材30が埋設されている。このシート状部材30は、半導体素子41が実装された後の基板面と直交する方向での弾性率及び熱膨張係数の分布をほぼ対称系とするのに十分な弾性率及び熱膨張係数を有する材料からなる。 (もっと読む)


【課題】積層工程時の剥離を防止しつつ高精度なアライメントマークを形成することが可能な多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の多層配線基板の製造方法は、支持基材11に銅箔14a(金属層)と銅箔14b(下地層)とからなる剥離シート14を配置し、剥離シート14の所定の有効領域に対し、その外周側の第1のシート部分と、その内周側に位置する複数のアライメントマークAMに対応する第2のシート部分とをそれぞれ除去し、その上部に樹脂材料層20を積層形成する。その後、積層工程によりビルドアップ層を形成した分離前積層体10aに対し、剥離シート14の剥離界面を含む端面を露出させて剥離界面で剥離させて分離する。その後、分離後の積層体に対し、高い位置精度を有するアライメントマークAM用いつつ、最終的に多層配線基板を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】電子部品が搭載された基板の反りを回避又は抑制させることができ、これにより製品の信頼性を向上させることが可能な電子部品内蔵基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電子部品内蔵基板2は、電子部品5の一側に設けられた第1の樹脂又は樹脂組成物からなる絶縁層21,31の一方と、電子部品5の他側に設けられた第2の樹脂又は樹脂組成物からなる絶縁層21,31の他方と、電子部品5が内蔵された層と同層に設けられたコア部材6と、絶縁層21に設けられており且つコア部材に接続された少なくとも1つ以上のビア導体25と、絶縁層31に設けられており且つコア部材6に接続された少なくとも1つ以上のビア導体35とを備えており、絶縁層21,31のそれぞれに形成されたビア導体25,35の数が、互いに異なるように形成されている。 (もっと読む)


【課題】高密度な半導体素子を内蔵した薄型で高信頼性の配線基板を提供する。
【解決手段】半導体素子117を内蔵する配線基板において、配線基板は、支持基板101と、支持基板上の半導体素子と、半導体素子の外周側面を覆う周辺絶縁層113と、配線基板の上面側の上面側配線と含む。半導体素子は、半導体基板103と、半導体基板上に交互に設けられた第1配線および第1絶縁層を含む第1配線構造層と、第1配線構造層上に交互に設けられた第2配線および第2絶縁層を含む第2配線構造層とを含む。上面側配線は、半導体素子の直上から、半導体素子の外縁より外側の周辺領域へ引き出されたファンアウト配線を含む。ファンアウト配線は第2配線を介して第1配線に電気的に接続される。第2配線は第1配線より厚く、上面側配線より薄い。第2絶縁層は樹脂材料で形成され、第1絶縁層より厚い。 (もっと読む)


【課題】薄型化及び素子端子間の狭ピッチ化を可能にする一方で、基板の反りの低減化を図り、POP構造等に容易に適用可能とすること。
【解決手段】半導体装置10は、電極端子21が形成されている側の第1の面20a及びこれと反対側の第2の面20bを有する半導体素子20と、該半導体素子が埋め込まれた絶縁層31と、該絶縁層を挟んでその両面にそれぞれ少なくとも1層ずつ積層された絶縁層33,35,37及び配線層32,34,36,38とを備える。半導体素子20の電極端子21は、絶縁層31に形成されたビア32aを介して第1の面20a側の配線層32に直接接続され、この配線層32は、絶縁層31,35に形成されたビア36aを介して第2の面20b側の配線層36に接続されている。 (もっと読む)


【課題】コア用の配線導体においてもその幅や間隔を20μm以下とするとともにコアの配線導体を自動光学検査装置により正確に検査することが可能な高密度な微細配線を有する配線基板を提供すること。
【解決手段】両面に銅箔が積層されたコア用の絶縁板1に設けたスルーホール7内に第1の導体層13を被着するとともに孔埋め樹脂8を充填し、次に絶縁板1の表面に銅箔の層が残るようにして孔埋め樹脂8の両端を研磨して平坦化し、次に絶縁板1上下面の銅箔の層をエッチング除去してから絶縁板1および孔埋め樹脂8上に第2の配線導体14a・14bをセミアディティブ法に被着させてコア用の配線導体4を形成するとともにコア用の配線導体4の表面を梨地面とした後、自動光学検査装置により検査する。 (もっと読む)


【課題】実装される半導体チップの端子部の狭ピッチ化に対応した配線基板を提供する。
【解決手段】半導体チップが実装される配線基板1であって、厚さ方向に互いに並行して延在する複数の貫通孔11が形成された陽極酸化層12と、複数の貫通孔11のうち導体で充たすように設けられた線状導体部14、15、16とを備えている。線状導体部15は、一端部が端子部34と接合され、他端部が配線パターン18bと接合されている。また、線状導体部16は、一端部が端子部33と接合され、他端部が配線パターン18aと接合されている。線状導体部14は、一端部が端子部35と接合され、他端部が接続部22と接合されている。 (もっと読む)


【課題】使用後に絶縁材からの配線の剥離が容易な配線基板及びその製造方法、並びに配線基板の分解方法を提供する。
【解決手段】本開示の配線基板1は、絶縁材11と、絶縁材11上に形成された配線13と、絶縁材11と配線13との間に形成された金属炭酸塩又は金属炭酸水素塩を含む剥離層12とを有する。金属炭酸塩は、例えば、炭酸マグネシウム、炭酸タリウム、炭酸銀、炭酸銅、炭酸鉛、炭酸亜鉛、炭酸鉄、又は炭酸コバルトである。金属炭酸水素塩は、例えば炭酸水素ナトリウム、又は炭酸水素カリウムである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的信頼性を向上させる要求に応える配線基板を提供するものである。
【解決手段】本発明の一形態にかかる配線基板3は、第1樹脂材料と該第1樹脂材料よりも熱膨張率の小さい第1無機絶縁フィラー10aとを含む第1樹脂層7aと、該第1樹脂層7a上面に形成され、第2樹脂材料と該第2樹脂材料よりも熱膨張率の小さい第2無機絶縁フィラー10bとを含み、第1樹脂層7aよりも平面方向への熱膨張率の大きい第2樹脂層7bと、を備え、第1樹脂層7aは、上面に複数の第1凸部7a1を有し、該第1凸部7a1以外の領域のみに第1無機絶縁フィラー10aが配されており、第2樹脂層7bは、隣接する第1凸部7a1の間に介在される第2凸部7b1を有し、該第2凸部7b1内に第2無機絶縁フィラー10bが配されている。 (もっと読む)


【課題】配線層同士の相対的な位置精度が向上された多層基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】多層基板10は、厚い金属コア層11と、金属コア層11の上面に絶縁層を介して積層された配線層(第1配線層16A、第3配線層16C)と、金属コア層11の下面に絶縁層を介して積層された配線層(第2配線層16B、第4配線層16D)と、金属コア層11等を貫通して形成された確認孔28とを主要に具備している。確認孔28は、上方および下方の両方から位置認識を行うことが可能であるので、同一の確認孔28を基準として各配線層を形成することにより、配線層同士の位置精度が向上される。 (もっと読む)


【課題】樹脂絶縁層におけるクラックの発生を防止して信頼性の高い多層配線基板を提供すること。
【解決手段】配線積層部30の上面31側の樹脂絶縁層24には複数の開口部35,36が形成され、下面32側の樹脂絶縁層20には複数の開口部37が形成される。各開口部35,36,37に対応して複数の接続端子41,42,45が配置される。接続端子41,42の端子外面41a,42aの外周部は樹脂絶縁層24により被覆され、接続端子45の端子外面45aの外周部は樹脂絶縁層20により被覆される。第2主面側接続端子45は端子外面45aの中央部に凹部45bを有し、その凹部45bの最深部は端子外面45aの外周部よりも内層側に位置する。 (もっと読む)


【課題】樹脂絶縁層におけるクラックの発生を防止して信頼性の高い多層配線基板を提供すること。
【解決手段】多層配線基板10を構成する配線積層部30の下面32側の樹脂絶縁層20には複数の開口部37が形成され、各開口部37に対応して複数の母基板接続端子45が配置される。複数の母基板接続端子45は、銅層を主体として構成され、銅層における端子外面45aの外周部が最外層の樹脂絶縁層20によって覆われている。最外層の樹脂絶縁層20の内側主面20aと、端子外面45aの外周部との界面に、銅よりもエッチングレートが低い金属からなる異種金属層48が形成されている。 (もっと読む)


【課題】ビア形成コストを低減でき、ロールツーロール生産可能であるとともに、生産リードタイムを短縮可能であり、しかも回路品質に優れるフレキシブル配線板の製造方法及びそれを用いたフレキシブル配線板を提供すること。
【解決手段】本発明のフレキシブル配線板の製造方法は、ポジ型感光性樹脂を含む樹脂層と、樹脂層の両面に設けられた一対の導電層とを備えたフレキシブル配線板の製造方法であって、一対の導電層にコンフォーマルマスクを形成する工程と、導電層を介して樹脂層を露光・現像し、貫通ビアを形成する工程と、貫通ビアにめっきを施して一対の導電層を電気的に接続する工程とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】安価且つ安定的な基板の製造方法によって、多層プリント配線板の片面のビアホール開口面側のみにめっき皮膜を形成する。
【解決手段】可撓性絶縁ベース材1の両面にそれぞれ銅箔2及び銅箔3を形成した両面銅張積層板4と、可撓性絶縁ベース材6の片面に銅箔7を形成した片面銅張積層板8とを接着剤5で接着して3層の回路基材9を構成する。また、回路基材9の一方面側から非貫通の導通用孔10を形成して導電化処理を行う。この回路基材9を基板保持具(図示せず)に取り付け、該回路基材9の裏面側に遮蔽板13を配置して電解めっき処理を行う。これによって、導通用孔10側(ビアホール開口面側)の銅箔2及び導通用孔10の導電化処理部のみに片面めっき皮膜が形成され、裏面側の銅箔7にはめっき処理は施されない。 (もっと読む)


【課題】信号配線に例えば2.5GHzを超える高速信号を低損失で良好に伝送させることが可能であるとともに、良好な電源供給が可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】外周部および中央部に多数のスルーホール5を有するコア基板1の上下面にビルドアップ絶縁層2を介して信号配線および接地配線および電源配線を含むビルドアップ配線層3を積層してなる配線基板であって、前記外周部に小径スルーホール5Sを第1の隣接間隔で配列するとともに前記中央部に大径スルーホール5Lを前記第1の隣接間隔以下の第2の隣接間隔で配置し、小径スルーホール5Sに信号線を接続するとともに大径スルーホール5Lに接地配線および電源配線を接続した。 (もっと読む)


【課題】接続端子の密着強度を十分に高めることができ、信頼性の高い多層配線基板を提供する。
【解決手段】多層配線基板10において、配線積層部30の上面31には、ICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42が形成され、下面32側には、母基板接続端子45が形成されている。配線積層部30の下面32側の樹脂絶縁層21には複数の開口部37が形成される。母基板接続端子45は、開口部37内に埋設されかつ端子外面45aが樹脂絶縁層21の表面21aよりも内層側に位置している。 (もっと読む)


【課題】電源配線パターンの高密度化に対応しつつも、布線層の層数を増加させる必要はないため、全体として高密度化を図ることが可能で、工数や材料コストを抑制することが可能なマルチワイヤ配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】金属箔付き絶縁基板の金属箔を回路加工して形成した内層パターンを有する内層と、この内層上に積層され、絶縁層と接着層とを有する布線層と、この布線層の接着層に絶縁被覆ワイヤを布線して形成した布線パターンと、を備えるマルチワイヤ配線板において、前記布線層が、同一の前記接着層に、ワイヤ径の異なる複数の種類の布線パターンを、混在させて有するマルチワイヤ配線板及びその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】エンジンルーム内やエンジン直載等の高温の使用環境下においてもスルーホール接続信頼性を確保しつつファインパターンを形成することができ、さらに鉛フリーはんだ実装にも対応できる抵抗部品の実装信頼性も確保できる車載用プリント配線板を提供する。
【解決手段】各々の絶縁層4a〜4cは全て、板厚方向の熱膨張係数αzが55ppm/℃以下であり、各々の絶縁層4a〜4cのうち少なくとも抵抗部品10が実装された導電性回路層3aに隣接する絶縁層4aにおける板面方向の熱膨張係数αx、αyのいずれかが16.5ppm/℃以下であり、スルーホール5は、導電性金属めっき層7の厚みt2が18μm以下であり、最外層の導電性回路層3aは、絶縁層4aの表面に形成された導電性金属層6と導電性金属めっき層7とからなり、最外層の導電性回路層3aの厚みt3が30μm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】両面に実装された半導体素子同士を狭ピッチ及び短距離で接続することが可能な低コストの配線基板、および半導体装置を提供する。
【解決手段】本配線基板は、無機誘電体を含む絶縁性基材11と、前記絶縁性基材の一方の面から他方の面に貫通する複数の線状導体12と、を備えたコア基板13と、その両面に形成され、それぞれの面で前記線状導体の一部を介して電気的に接続された第1、第2配線層21,22と、を有し、それぞれの前記配線層を覆う第1、第2絶縁層14,15とを有し、同様の繰り返しにて第3,第4の配線層23,24が形成され、かつ前記第1配線層と第2配線層とは、前記線状導体の一部を介して電気的に接続されており、前記線状導体は、信号配線と接続される線状導体と、前記信号配線と接続される線状導体の周囲に位置する線状導体と、を有し、前記周囲に位置する線状導体は、グラウンド配線と接続される。 (もっと読む)


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