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Fターム[5E346FF04]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 導体層間接続の方法 (9,115) | 孔あけによるもの(スルーホール等) (5,634) | メッキによるもの (3,094)

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【課題】部品内蔵基板の絶縁層に埋設されたチップ部品の外部電極を絶縁層上の電極層に接続するビア又はスルーホールのストレート性を高くする。
【解決手段】絶縁層2に埋設されたチップ部品3の外部電極4a、4bにつき、上面側の延長部分42の少なくともビア5の形成位置42aを、表面粗さの指標Rzにおいて、0<Rz<5μmを満たすように平坦化して表面の湾曲を解消し、それによって、絶縁層2に形成するビア5又はスルーホールのストレート性を高くする。 (もっと読む)


【課題】内部クッションを使用せずに低フローでかつボイドフリーの成形が可能な層間接着シートおよびそれを用いた多層フレキシブル配線板を提供する。
【解決手段】プリプレグ2の片側に接着剤層3を設けた層間接着シート1を用い、予め回路形成したフレキシブル内層回路板の両面に、該層間接着シート1の接着剤層3を回路に接するように内側にして重ね合わせ、さらに層間接着シート1の外側に銅箔を重ね合わせて加熱加圧により一体成形してなる多層フレキシブル配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】絶縁樹脂層の表面段差が小さい多層配線板の製造方法、および、それにより得られる多層配線板を提供する。
【解決手段】(a)少なくとも一方の面に回路を備えた回路付基板2と、キャリアフィルム11表面に絶縁樹脂層12が形成されてなる絶縁樹脂付フィルム1であって絶縁樹脂層における温度170℃、面圧力0.65MPa・s、保持時間10分後の樹脂フロー量が50%以上である絶縁樹脂付フィルム1と、金属板3とをそれぞれ準備する工程;および、(b)回路付基板2と絶縁樹脂付フィルム1と金属板3とを、回路付基板の回路面と、絶縁樹脂付フィルムの絶縁樹脂層面とが対向し、かつ、絶縁樹脂付フィルムのキャリアフィルム面と金属板とが対向するように順に配置して熱圧着することにより、回路付基板表面に絶縁樹脂付フィルムをラミネートする工程。 (もっと読む)


【課題】配線板の表面および裏面に実装される電子部品を1回の接続工程で製造可能とした部品内蔵多層配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態の部品内蔵多層配線板は、第1の印刷配線板と、第1の印刷配線板と同じ大きさの第2の印刷配線板と、第1の印刷配線板の表層に実装される第1電子部品と、第1の印刷配線板と第2の印刷配線板の間に内蔵され、第1電子部品と対向する前記第1の印刷配線板の裏層に実装される第2電子部品とを有する。そして、第1の印刷配線板の第1電子部品および第2電子部品の両端に設けられるスルーホールを用いて、第1の印刷配線板と第1電子部品との接続時に、第1の印刷配線板と第2電子部品との接続を同時に行う。 (もっと読む)


【課題】 高周波領域のICチップ、特に3GHzを越えても誤動作やエラーの発生しないパッケージ基板を提供する。
【解決手段】 コア基板30上の導体層34Pを厚さ30μmに形成し、層間樹脂絶縁層50上の導体回路58を15μmに形成する。導体層34Pを厚くすることにより、導体自体の体積を増やすし抵抗を低減することができる。更に、導体層34を電源層として用いることで、ICチップへの電源の供給能力を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、伝送信号強度の損失を抑制しつつ、反りの発生抑制および低剛性化を図ることができるサスペンション用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、ライト側配線構造およびリード側配線構造を有し、上記ライト側配線構造は、ライト側凹部を有する第一絶縁層と、上記ライト側凹部に形成されたライト側第一配線層と、上記ライト側第一配線層を覆う第二絶縁層と、上記第二絶縁層上であり、かつ、上記ライト側第一配線層に厚さ方向において重複するライト側第二配線層とを有し、上記リード側配線構造は、リード側凹部を有する上記第一絶縁層と、上記リード側凹部に形成されたリード側第一配線層と、上記リード側第一配線層を覆う上記第二絶縁層と、上記第二絶縁層上であり、かつ、上記リード側第一配線層に厚さ方向において重複するリード側第二配線層とを有することを特徴とするサスペンション用基板を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 樹脂基板、電子部品内蔵樹脂基板、電子部品を内蔵した電子部品などの電子デバイスの製造方法において、導電ビアと内部の接続用電極との接合を確実におこなう。また、そのような導電ビアを、簡易に形成する。
【解決手段】 本発明の電子デバイスの製造方法は、接続用電極1aが形成された配線基板2を準備する工程と、接続用電極1a上に柱状ダミー体4aを形成する工程と、柱状ダミー体4aを埋設して、配線基板2の主面に樹脂層5を形成する工程と、樹脂層5に埋設された柱状ダミー体4aを、樹脂層5は溶解しにくいが柱状ダミー体4aは溶解可能な薬液を用いて溶解し、樹脂層5に柱状ダミー体と略同形状の空孔6aを形成する工程と、空孔6a内に導電成分を充填し、導電ビア7aを形成する工程と、を備えたものとした。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、電子部品との接続信頼性を向上させる要求に応える配線基板およびその実装構造体を提供するものである。
【解決手段】
本発明の一形態にかかる配線基板3は、基体11と、該基体11の上面側のみに積層された複数の絶縁層14と、基体11の下面に部分的に形成された第1接続パッド7aと、基体11と該基体11に隣接する絶縁層14との間に部分的に形成された第1導電層10aと、隣接した絶縁層14同士の間に部分的に形成された第2導電層10bと、最上層に位置する絶縁層14の上面に部分的に形成された第2接続パッド7bと、を備え、基体11および絶縁層14の平面方向の熱膨張率は、第1接続パッド7a、第1導電層10a、第2導電層10bおよび第2接続パッド7bの平面方向の熱膨張率よりも小さく、絶縁層14の平面方向の熱膨張率は、基体11の平面方向の熱膨張率よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】配線間での銅のマイグレーションを防止して高集積化を図ることができる多層配線基板を提供すること。
【解決手段】多層配線基板10の配線積層部30において、上面31側には複数の開口部35,36を有するソルダーレジスト25が配設され、ソルダーレジスト25に接している最外層の樹脂絶縁層23にICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42が埋設されている。ICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42は、主体をなす銅層44と銅層44の外面を覆うめっき層46とにより構成される。ソルダーレジスト25と樹脂絶縁層23との界面に存在する導体層26は、銅層27と銅層27の外面を覆うニッケルめっき層28とにより構成される。 (もっと読む)


【課題】 環境や作業員への負荷が大きく高コストである過マンガン酸塩等を用いた処理を行うことなく、また内層金属をエッチングすることなく、ビア等に発生したスミアを効果的に除去し、内層金属回路とめっき金属との密着性、接続信頼性を向上させるための表面処理方法及び表面処理剤を提供する。
【解決手段】 樹脂を含有するプリント配線基板に形成されたブライドビア、スルーホール、トレンチ等の穴部に残存するスミアを、内層金属をエッチングすることなく除去するプリント配線基板の表面処理方法であって、プリント配線基板を、少なくとも過酸化水素を含有し、弱酸性から弱アルカリである第1の処理液に浸漬し、その後、そのプリント配線基板を、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理液に浸漬する。 (もっと読む)


【課題】プローブピンの半導体素子の電極への接続が確実に行なえるとともに、インピーダンスの不整合が小さいプローブカードおよびプローブ装置を提供することにある。
【解決手段】セラミック配線基板1の上面に複数の絶縁樹脂層2と複数の配線層3とが交互に積層され、絶縁樹脂層2の上下に位置する配線層3間が貫通導体4で接続された配線基板と、最上層の絶縁樹脂層2の上面の配線層3に接続されたプローブピン5とを具備しており、最上層直下の2層目から下に位置する絶縁樹脂層2の少なくとも1層に、平面視でプローブピン5の配線層3との接続領域を投影した領域に対応する、絶縁樹脂層2のヤング率よりも小さいヤング率の弾性樹脂領域6が設けられているプローブカードである。半導体素子の電極とプローブピン5との接触を確実にすることが可能となり、また高周波信号の伝送を良好にすることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】表面電極層等の剥がれが抑制されるプリント配線板、電子部品を実装したプリント回路装置、プリント回路装置の製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板51の基材1では、主表面に表面電極層2が形成され、所定の位置にスルーホール5が形成されている。スルーホール5の側壁には、スルーホール電極6が形成されている。基材1の内部には、内部電極層3が形成されている。内部電極層3は、スルーホール5の直径と同じ寸法を半径とする円の面積よりも大きい面積を有する。また、内部電極層3の厚さは、表面電極層2の厚さよりも厚くされている。 (もっと読む)


【課題】多孔性構造の酸化絶縁層を含んで放熱性が向上され、酸化絶縁層にエンベッドされた回路層を含んで微細パターンの形成が可能である放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の放熱基板100は、金属コア層10、金属コア層10の一面または両面に形成されて、金属コア層10に接触するバリア層及び直径が異なる第1ポアと第2ポアを含んでバリア層に連結された多孔性層で構成された第1絶縁層20、第1絶縁層20にエンベッドされ、多孔性層の第2ポアに充填されて第2ポアの側面で連結された第1回路層30、及び第1絶縁層20の多孔性層上に形成された第2絶縁層40を含む。また、本発明の放熱基板100は、第1回路層30が第2ポアの一部を充填して、第2絶縁層40が第1絶縁層20と平坦面を成すように第2ポアに充填されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】効率の良い新規なプリント配線板の製造方法を提供すること
【解決手段】このプリント配線板(図3A)の製造方法は、2組の支持板を用意するステップ(図4A)と、前記2組の支持板を張り合わせるステップ(図4B)と、前記貼り合わせた支持板の両面にランドを夫々形成するステップ(図4E)と、前記支持板の両面に、第1の樹脂層を夫々形成し、ビアホール用の穴を開口してビアホールを形成するステップ(図4G)と、前記貼り合わせた支持板を分離するステップ(図4N)とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を搭載する配線基板において、コア用の絶縁板に形成されたスルーホール直上にビルドアップ用のビアホール形成ができ、コア用の配線導体においてもその幅や間隔を20μm以下とした高密度な微細配線を有し、かつ厚みが140μm以下のコア用の絶縁板を使用可能な薄型の配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】スルーホール7を有するコア用の絶縁板1のスルーホール7内壁のみにスルーホール7と同軸の貫通孔を有するように第1のめっき導体層13を被着させ、次に貫通孔内および絶縁板1の上下面に、貫通孔内を充填するとともにコア用の絶縁板1の上下面において配線導体4を形成する第2のめっき導体層14を被着する。 (もっと読む)


【課題】高密度に集積できる電磁結合構造、多層伝送線路板、及びそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】マイクロ波帯の周波数帯域で使用される電磁結合構造であって、内側誘電体層23が、複数のグランド層となる内側導体層12、15の間に挟まれて積層された積層体と、積層体を間に挟んで対向する一対の外側誘電体層21、25と、一対の外側誘電体層21、25を間に挟んで対向する一対の外側導体層11、16と、を備える。積層体には、内側誘電体層23及び複数のグランド層となる内側導体層12、15を貫通する孔Sが設けられており、孔Sの内壁に形成された管状の金属膜3を介して、複数のグランド層となる内側導体層12、15が電気的に接続されることにより、一対の外側導体層11、16が電磁結合されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高い容量を備える電子部品を提供する。
【解決手段】 Siコンデンサ10では、下部電極42と誘電体層44と上部電極46とから成るコンデンサ部40が、Si基板20に形成されたトレンチ30の壁面上に形成されているめ、下部電極42−誘電体層44−上部電極46の面積を広げることができ、高い容量を得ることができる。また、トレンチ30の内部に樹脂充填材52が充填されているため、トレンチ30の側壁で生じる応力を可撓性の有る樹脂充填材52で吸収することができ、凹部(トレンチ)を狭い間隔で設け容量の増大を図っても、トレンチ30の側壁へクラックが入ることが無い。 (もっと読む)


【課題】故障が発生しにくく、信頼性の高い多層配線板及びその多層配線板を製造する多層配線板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】多層配線板であって、基板と、基板上に配置された第1導電体、第1導電体の基板から離れた面に積層された第2導電体、及び第1導電体と第2導電体との間に配置された応力緩和層を備えるランドと、ランドと接し、前記ランドと電気的に接続されている接続部と、を有することで上記課題を解決する。 (もっと読む)



【課題】接続端子の密着強度を十分に高めることができ、信頼性の高い多層配線基板を提供する。
【解決手段】多層配線基板10において、配線積層部30の上面31には、ICチップ接続端子41及びコンデンサ接続端子42が形成され、下面32側には、母基板接続端子45が形成されている。配線積層部30の下面32側には、ソルダーレジスト38が配設されている。ソルダーレジスト38に接している樹脂絶縁層21には複数の開口部37が形成される。母基板接続端子45は、開口部37内に埋設されかつ端子外面45aが樹脂絶縁層21の表面21aよりも内層側に位置している。ソルダーレジスト38は開口部37内に入り込んで端子外面45aの外周部に接触している。 (もっと読む)


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