【課題】周縁部と内側部とに段差を有する極薄の半導体ウエハを安全にかつ確実に支持する。
【解決手段】周縁部１７Ａが肉厚に形成され内側部１７Ｂが肉薄に形成された半導体ウエハ１７をチャック１１上に載置して支持し、当該半導体ウエハ１７にプローブ針７を接触させて検査を行うプローバである。チャック１１は、半導体ウエハ１７の周縁部１７Ａに当接して当該周縁部１７Ａを支持する周縁支持部１２と、当該周縁支持部１２に対して段差を設けて半導体ウエハ１７の内側部１７Ｂに当接してこの内側部１７Ｂを支持する内側支持部１３と、前記周縁支持部１２と内側支持部１３とを相対的にずらして任意の高さの段差を作る移動機構１４とを備えて構成した。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生が少ない試料位置決め装置を提供する。
【解決手段】駆動源１からの駆動により水平方向に往復運動する駆動部１０と、鉛直方向に昇降し、試料台６２上より試料を持ち上げるための昇降部３０と前記駆動部１０および前記昇降部３０と連動して水平方向に往復運動する伝達部２０と、試料を径方向に移動させて所定位置で抑止する抑止体４３、および前記駆動部１０と連動して水平方向に往復運動するととともに前記抑止体４３の運動を誘導する誘導体４４を有する位置決め部４０とからなる。 （もっと読む）

【課題】 物体の搬送先の装置の構成の簡略化を図りつつ、該搬送先の装置への物体の投入再現性に基づく誤差を解消できるようにする。
【解決手段】 第１ベース部材ＷＬＢと、第１ベース部材ＷＬＢ上に支持されており、且つ所定の受渡位置Ｐ４へ物体Ｗを保持して搬送する搬送部材１４３とを有し、受渡位置Ｐ４に位置された物体Ｗの周縁部の一部を、第１ベース部材ＷＬＢとは振動伝達が分離された第２ベース部材（ＭＣＬ）上に支持されている検出装置Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３と協働して計測するために該周縁部の一部を照明する照明装置ＥＬ１，ＥＬ２，ＥＬ３を、搬送部材１４３上に設けて構成される。 （もっと読む）

【課題】真空装置内でのワーク把持にアクチュエータを用いることによって生じる複雑な機構や配線配管を排除することが可能な真空処理装置及び方法を提供すること。
【解決手段】一定内圧のバルーン２０４を下部に設けたステージ２０３とステージ２０３の動きを案内するガイド２０５を、真空容器２０１内に配置する。この状態のステージ２０３上にワーク２０２を設置し、真空容器２０１内を排気ポンプ等にて真空引きし減圧すると、真空容器２０１内でバルーン２０４の内圧と外圧の間に生じる圧力差によってバルーン２０４の体積が膨張し、その体積変化でステージ２０３を押し上げることによってワークを規正することができる。 （もっと読む）

【課題】扉部材を容易な制御により滑らかに駆動することができ、また、アライメント作業の手間を減らすことができ、さらに、扉部材を、蓋体の開閉方向に駆動するときに、退避方向に対する位置が絶対的に変化しないように支持できるロードポートを提供する。
【解決手段】駆動ストロークの第１の範囲ＤＺで、退避方向移動機構１３０に、駆動力供給部１２０の駆動力を伝達し、扉部材１０３を蓋体Ｐ３の開閉方向とは異なる退避方向に移動し、また、駆動ストロークの第２の範囲ＤＸで、開閉方向移動機構１４０に、駆動力供給部１２０の駆動力を伝達し、扉部材１０３を開閉方向に移動した。 （もっと読む）

【課題】処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において強磁性体材料からなる磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができる成膜装置を提供する。
【解決手段】搬送系における磨耗カス発生箇所近辺に、該磨耗カス発生箇所において発生した強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着して、磨耗カスの発生箇所からの分散を防止するための、第１の磨耗カス吸着部１０を備えているもので、該第１の磨耗カス吸着部１０は、磁性体材料からなる吸着用材１１に接してマグネット１２を配して、該吸着用材１１に磁気を帯びさせたものである。 （もっと読む）

【課題】研磨対象のウエハをより均一な状態で基板フォルダに貼り付ける。
【解決手段】貼り付け室１１１及びダイヤフラム室１２１を排気し、例えば、１０００Ｐａ程度に減圧し、貼り付け室１１１及びダイヤフラム室１２１が同様に減圧された状態で、温度制御機構１０６を動作させ、基板ホルダー１０３が１５０℃程度に加熱された状態とする。この後、ダイヤフラム加圧部１２５を動作させ、ダイヤフラム室１２１にエアを送り込み、ダイヤフラム１０４を真空チャンバー下部１０１の側に張り出させ、変形したダイヤフラム１０４によりウエハＷを基板ホルダー１０３の側に押し付ける。 （もっと読む）

【課題】 小形コンパクトであり、ＸＹθテーブルを小ストロークで正確に移動させることのできるＸＹθテーブル駆動機構。
【解決手段】 テーブル１をＸＹ平面のＸ方向とＹ方向に移動可能およびＸＹ平面で回転可能に保持するスラスト軸受構造のテーブルガイド１０と、テーブル側面をＸ方向に押圧するＸ軸押圧体３０ａおよびＸ軸押圧体３０ａをＸ方向に往復駆動させるＸ軸駆動ユニット４０ａと、テーブル側面をＹ方向に押圧するＹ軸押圧体３０ｂおよびＹ軸押圧体３０ｂをＹ方向に往復駆動させるＹ軸駆動ユニット４０ｂと、テーブル側面をＹ方向に押圧してＸ軸駆動ユニット４０ａとＹ軸駆動ユニット４０ｂとの協働でテーブル１をＸＹ平面で回転させるθ軸押圧体３０ｃおよびθ軸押圧体３０ｃをＹ方向に往復駆動させるθ軸駆動ユニット４０ｃとで構成する。 （もっと読む）

【課題】
簡素且つコンパクトでありながら、高精度な駆動を実現できる位置決め装置を提供する。
【解決手段】
真空チャンバ１に内外の差圧差が生じると、底面１ａが上方に湾曲するように変形するが、ベース２は、底面１ａに対して支持筒２ａにより３点で支持されているので、底面１ａが変形した場合でも、安定して支持されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】ロードロック室等の基板を収容する容器内において、基板周りのスペースを極力小さくして基板の位置合わせを行うことができる基板位置合わせ装置を提供すること。
【解決手段】基板位置合わせ装置は、基板Ｓの搬送方向に直交する一対の端面Ｓ１を押圧する一対の第１のポジショナー７と、基板Ｓの搬送方向に沿った一対の端面Ｓ２を押圧する一対の第２のポジショナー８とを具備し、第１および第２のポジショナー７、８はそれぞれ、シリンダ機構７１、８１、およびシリンダ機構７１、８１のピストン７４、８４の進出により端面Ｓ１、Ｓ２を押圧する押圧子７０、８０を有し、第１のポジショナー７は、ピストン７４の進出により、押圧子７０を、基板Ｓの搬送経路外に退避させる退避位置と基板Ｓを押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部７２をさらに有する。 （もっと読む）

【課題】粘着シートから半導体チップを確実にピックアップすることができるようにしたピックアップ装置を提供することにある。
【解決手段】粘着シートの上面に貼られた半導体チップを吸着ノズルによってピックアップする半導体チップのピックアップ装置であって、
上面が粘着シートの下面を吸着保持する保持面に形成されたバックアップ体１と、吸着ノズルによってピックアップされる半導体チップを粘着シートを介して突き上げる突き上げ部材１３と、バックアップ体に設けられ粘着シートの突き上げ部材によって突き上げられる半導体チップが貼着された部分を加熱するヒータ２４とを具備する。 （もっと読む）

【目的】搬送物の搬出入を並行して迅速に行うことのできる簡便なストック装置を提供する。
【構成】工程ラインに介在されて該ラインに流される搬送物を一時的に貯蔵するストック装置であり、水平状に配される複数段の棚５を有するラック４と、その各棚５に対し搬送物を搬入するべくラック４よりも搬送物の搬送方向上流側に昇降可能にして設けられる搬入コンベヤ６と、ラック４の各棚５から搬送物を搬出するべくラック４よりも搬送物の搬送方向下流側に昇降可能にして設けられる搬出コンベヤ７とを備える。搬入コンベヤ６は搬送物を載せて該搬送物を搬入する棚５の高さ位置まで移動される一方、搬出コンベヤ７は搬出する搬送物が載せられた棚５の高さ位置まで移動される。又、ラック４の各棚５は、搬入コンベヤ６による搬送物の搬入時と搬出コンベヤ７による搬送物の搬出時に走行駆動されるコンベヤから成る。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基台上にステージベースを備えたステージ装置およびこのステージ装置を備えた露光装置に関し、ステージベースの変形を従来より大幅に低減することを目的とする。
【解決手段】 基台上にステージベースを配置するとともに、前記ステージベース上に配置されるガイド部材に沿ってスライダを案内し、前記スライダの移動によりステージを移動するステージ装置において、前記基台上に前記ステージベースを支持する支持手段と、前記ステージベースを押圧するとともに押圧力を制御可能な押圧手段と、前記ステージベースの傾きを検出する傾斜検出手段と、前記傾斜検出手段からの信号に基づいて前記押圧手段の前記押圧力を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で、試料の交換作業を短時間で行なえる真空搬送装置を実現し、しかも、占有面積が小さく、スループットを向上させた荷電粒子線検査装置を提供する。
【解決手段】２つの駆動源２，１０により回転および上下動作が可能なアーム１と、このアーム１の両端に、アーム１の回転に伴って回転するように支持されて試料を載置する第１のハンド２２と第２のハンド２３とを上下方向に離間させて配置して、アーム１の回転と上下動作の制御のみにより試料の搬送とその交換を可能した真空搬送装置２６を構成し、また、この真空搬送装置２６を荷電粒子線検査装置の予備排気室ではなく真空試料室内に配置した。 （もっと読む）

【課題】 電子部品を保持して工程処理機構に対し間欠的に搬送する電子部品の保持搬送機構に係り、特に、電子部品の保持手段を駆動制御する保持機構に関するものである。
【解決手段】 本発明は、電子部品を保持し且つ往復自在な可動保持手段と、搬送機構と、工程処理機構に対し電子部品の受け渡し及び受け取りを行うように可動保持手段を移動させるための保持部駆動機構及び制御装置により構成されている。本発明の主要部である保持部駆動機構は、モ−タ、エンコ−ダ、円筒カム及びロッドにより構成され、当該円筒カムの角度を変えることにより、リニアリテイの傾きを各工程処理毎に最適になるように設定することができ、各工程処理に最適な圧力角の設定、及び高精度なモ−タパルス分解能によるＺ軸位置制御を可能とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カップの駆動機構や位置合わせ機構の駆動機構等に要するスペースの削減や省コストを図ることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを保持する保持機構６１と，保持機構６１に保持された基板Ｗを囲むカップ６２，６３と，保持機構６１に対する基板Ｗの位置を合わせる位置合わせ機構６５とを備えた装置４５Ａにおいて，カップ６２，６３及び位置合わせ機構６５を保持機構６１に保持された基板Ｗに対してそれぞれ相対的に昇降させる移動機構６６を備えた。 （もっと読む）

【課題】エア浮上によって板ガラスの荷重を最小化させた状態で、板ガラスをその場で回転させたり所望の方向に移送させたりすることができる板ガラスの方向転換装置を提供する。
【解決手段】板ガラス８をエア浮上させるためにエアを吐出するエア吐出板１１を有するエアチャンバと、該エアチャンバにエアを供給するエア吐出ファンが設けられたエア吐出機と、エア吐出機の外周面の隣接部に設けられ、板ガラスを所定方向に移送させる複数のローラー２２が備えられたローラー移送機と、前記エア吐出機の中央部に配置され、ローラー移送機上に置かれている板ガラスをその場で回転させるターニング機とを含んで構成される。板ガラスとローラー２２間の接触面積を最小化させるので板ガラスの表面損傷発生率を著しく下げられることは勿論、板ガラスの大きさにかかわらず全般的に方向転換装置の構造が簡素化され、回転装備の動力と構造を小型化できるなどの効果を有する。 （もっと読む）

【課題】主にパーティクルの発生を防止できる部品搬送装置及びその収納方法を提供する。
【解決手段】第１のモータ４８の回転軸が回転すると第１のモータ側マグネット部材４６が回転軸と共に回転し磁力の相互作用により軸部材側マグネット部材１８、リンクアーム組２０の一方側リンクアーム２０Ａが回転する。一方側リンクアーム２０Ａが回転すると各リンクアーム側マグネット部材２６、３０の磁力の相互作用により同じリンクアーム組２０の他方側リンクアーム２０Ｂも回転する。また同様にしてリンクアーム組２０と連結する他のリンクアーム組２８、３４も回転する。これらの回転により各リンクアーム組２０、２８、３４が伸縮可能となる。このように第１モータ４８の駆動力を非接触で各リンクアーム組２０、２８、３４まで伝達させることができ各構成部材の摩擦等によるパーティクルが発生することがない。 （もっと読む）

【課題】電気研磨および／または電気めっきプロセスにおいて、ウェーハを移動させるロボットアセンブリにおいて、エンドエフェクタ真空カップ内の粒子を取除き、真空通路に酸などが入るのを防止する装置および方法を提供する。
【解決手段】エンドエフェクタ３０６は、真空弁３２２を介して真空源と、窒素弁３２０を介して加圧窒素源と連結されている。真空弁３２２がオンされると、ウェーハをエンドエフェクタ３０６に押し付けて保持するように、真空カップ３０２内の圧力を低下させる。真空弁３２２がオフされ、かつ、窒素弁３２０がオンされると、エンドエフェクタ３０６は、真空カップ３０２内の圧力が増大されウェーハを開放する。ウェーハが保持されていない時、または移動されていない時は窒素弁３２０をオン状態のままにして、真空カップ３０２内において周囲環境圧力に近いか、またはこの周囲環境圧力よりも高い圧力を維持する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ干渉計とミラーを用いて位置計測をするステージ装置において、計測誤差の影響を低減することを目的とする。
【解決手段】 レーザ干渉計と、前記レーザ干渉計からの光を反射するミラーとを用いてステージの位置を計測するステージ装置であって、前記ミラーの形状を算出するミラー形状算出手段と、前記ミラー形状算出手段からの出力に基づいて、前記ミラーの温度を調節する温度調節手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）