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Fターム[5E346GG22]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 製造・加工・処理手段 (12,987) | 製造工程・製造装置 (12,564) | エッチング工程 (1,186)

Fターム[5E346GG22]に分類される特許

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【課題】容易に得ることができ、更に穴又は凹凸を表面に有する部材に積層された場合に表面の平坦性を高めることができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤と、充填剤とを含む。上記充填剤は、ビニル基を有するシランカップリング剤により表面処理されている。本発明に係る樹脂組成物では、上記エポキシ樹脂と上記硬化剤との合計100重量部に対して、上記充填剤の含有量が160重量部以上、900重量部以下である。 (もっと読む)


【課題】出力特性が優れた高周波スイッチを提供する。
【解決手段】本発明の実施形態の高周波スイッチは、入力端子ANT1と複数のスイッチング素子と複数の高周波信号線と複数の出力端子RF1〜RF8とからなる高周波スイッチ回路部を有する高周波スイッチICチップ10を備える。前記入力端子ANT1と前記複数の出力端子の各出力端子RF1〜RF8は、それぞれ等しい長さの高周波信号線H1〜H8で接続される。前記複数の出力端子RF1〜RF8は、前記高周波スイッチICチップの外周の表面上に配置される。前記入力端子ANT1は、前記高周波スイッチ回路部の中心に配置される。 (もっと読む)


【課題】信号の反射損や挿入損が小さいとともに共振が発生しにくく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板10の上面側を絶縁基板10の中央部から外周部にかけて互いに隣接して延在し、外周部において互いの間隔が広がる帯状配線導体のペア80a,80bと、帯状配線導体のペア80a,80bとビアホール21,22を介して電気的に接続されたスルーホール導体のペア43a,43bと、絶縁基板10の下面に被着されており、スルーホール導体のペア43a,43bにビアホール24,25を介して電気的に接続された外部接続パッドのペア60a,60bとを有する配線基板であって、スルーホール導体のペア43a,43bのピッチが外部接続パッドのペア60a,60bのピッチよりも狭い。 (もっと読む)


【課題】半導体チップ接続の信頼性および配線板としての機能性を保全した上で、低コストで製造が可能な部品内蔵配線板を提供すること。
【解決手段】積層状に位置する、第1、第2の絶縁層と、端子パッドを有し該端子パッドを有する面が第1の絶縁層に対向するように、第2の絶縁層中に埋設された半導体チップと、第1の絶縁層上に、第2の絶縁層との間に挟まれるように設けられた、すずが含有される金属の皮膜によって被覆されたフリップ接続用のランドを含みかつ該ランドの表層を除いては該皮膜で被覆されていない第1の配線パターンと、半導体チップの端子パッドと第1の配線パターンのランドとの間に挟設された金バンプと、金バンプをその内部に封止するように設けられたアンダーフィル樹脂と、第1の絶縁層の第1の配線パターンが設けられた側の面とは反対の側の面上に設けられた第2の配線パターンとを具備する。 (もっと読む)


【課題】信号の反射損や挿入損が小さく、信号を正常に伝播させることが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】複数の絶縁層11〜17が積層されて成る絶縁基板10と、絶縁基板10の下面に形成されたペア伝送路用の外部接続パッドのペア41,42と、絶縁層11〜17間に配設されており、外部接続パッドのペア41,42に対応する位置に開口部91a〜96aが形成された複数の導体層22〜27と、開口部91a〜96a内に対応する位置において外部接続パッドのペア41,42に電気的に接続されて複数の絶縁層11〜17を貫通する貫通導体52〜57とを備える配線基板であって、導体層22〜27は、開口部91a〜96aを取り囲む電源パターン91〜96をその周囲の電源層73〜78から独立して有するとともに上下の電源パターン91〜96同士が貫通導体52〜57により同じ電源電位に接続されている。 (もっと読む)


【課題】 ループインダクタンスを低減できると共に高い信頼性を有するプリント配線板を提供する。
【解決手段】 コンデンサ20を収容するコア基板30に樹脂絶縁層144,244と導体回路158,258とを積層してなるプリント配線板10であって、コア基板30は、コンデンサ20を収容する通孔11Aの形成された第1のコア基板11の上下に第2、第3のコア基板12U,13Dを積層してなり、第1、第2、第3のコア基板11,12U,13Dは、芯材に樹脂を含浸してなり、樹脂絶縁層144,244は、芯材を有しない樹脂材料からなり、第2、第3のコア基板12U、13Dの少なくとも一方に、コンデンサ20の電極21,22に接続するバイアホール60を形成し、バイアホール60とコンデンサ20の電極21,22との間に電気的接続を取る。 (もっと読む)


【課題】埋め込み部品具有配線板およびその製造方法において、生産効率を向上すること。
【解決手段】第1の板状絶縁層と、第1の板状絶縁層上に配置され、該第1の板状絶縁層に対向する第1の面と該第1の面とは反対の側の第2の面とを有し、該第2の面に、電気導通する部材が露出するように設けられている電気/電子部品と、第1の板状絶縁層に対して積層する位置に設けられた、電気/電子部品が存在する領域に対応して、該電気/電子部品から離間した縁の開口部を有する第2の板状絶縁層と、第1、第2の板状絶縁層の間を満たすように、かつ、第2の板状絶縁層の開口部の縁と電気/電子部品との間を満たすように、設けられた絶縁樹脂部と、第2の板状絶縁層の第1の板状絶縁層に対向する側とは反対側の面上に設けられた配線パターンと、配線パターンと電気/電子部品の第2の面の電気導通する部材とを電気的に接続する導電部材とを具備する。 (もっと読む)


【課題】回路基板の高密度化を阻害せずにクロストークを十分に抑制することができるクロストーク抑制回路基板を提供する。
【解決手段】本発明のクロストーク抑制回路基板2は、樹脂製の絶縁基板4と、絶縁基板4の一方の面に位置付けられたグランド層8と、絶縁基板4のグランド層8とは反対側の面に位置付けられた配線回路12とを備え、この配線回路12は、所定のパターンにて形成された信号線16と、信号線16の外表面を覆う磁性体からなる被覆材14と、信号線16及び被覆材14を埋設する樹脂製の保護絶縁層18とを含む。 (もっと読む)


【課題】擬似ウエハーの樹脂層にレーザ等でビアホールを形成することなく、簡単な工程で微細な貫通ビアを形成してチップの実装密度を高める半導体装置を提供する。
【解決手段】複数の半導体チップ20と、複数の突起を有する金属構造体とを支持基板11上の所定の箇所に配置し、前記複数の半導体チップ及び前記金属構造体25を樹脂で覆って固化し、前記固化した樹脂の一部及び前記金属構造体の一部を除去、平坦化して、前記金属構造体の前記突起25aを貫通ビアとして露出させ、前記半導体チップ及び前記貫通ビアが埋め込まれた樹脂層を前記支持基板から剥離し、前記剥離面に所定の配線パターンを形成して擬似ウエハーを完成する。 (もっと読む)


【課題】例えば幅および間隔が20μm以下の微細な半導体素子接続パッドを含む配線を形成することが可能であるとともに、外部接続パッドを外部電気回路基板に接続したときに大きな応力が加わったとしても外部接続パッドに剥がれが発生することのない配線基板を提供すること。
【解決手段】絶縁基板1の一方の主面に半導体素子接続パッド5を含む第1の配線導体3がセミアディティブ法により被着形成されているとともに絶縁基板1の他方の主面に外部接続パッド6を含む第2の配線導体3がセミアディティブ法により被着形成されて成る配線基板であって、第1の配線導体3は一方の主面の絶縁層2上に被着された無電解めっき層3aおよびその上の電解めっき層3bから成り、第2の配線導体3は、他方の主面の絶縁層2上に直接被着された金属箔3cおよびその無電解めっき層3aおよびその上の電解めっき層3bから成る。 (もっと読む)


【課題】回路基板と端子とを電気的に接続しつつ、部品点数を増加させることなく、回路基板に端子を機械的に接続することができる回路基板の端子接続構造を提供すること。
【解決手段】回路基板100と金属材料からなる端子200との接続構造であって、回路基板100は、少なくとも熱可塑性樹脂を含む絶縁基材30と、絶縁基材30に設けられ、積層された導体パターン10と少なくとも一部が導体パターン10と電気的に接続される層間接続部20とを含む配線部と、を備える。そして、絶縁基材30の内部には端子200の一部が配置され、端子200と配線部の一部(層間接続部20)とが電気的に接続されるとともに、端子200における絶縁基材30内に配置された部位に絶縁基材30内における熱可塑性樹脂が密着して接続される。 (もっと読む)


【課題】層間導通部の補強効果を向上した多層配線板およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】第1絶縁樹脂層110の一方の主面に形成された第1導体回路パターン112を備えた第1基板11と、第2絶縁樹脂層120の一方の主面に形成された第2導体回路パターン122を備えた第2基板12と、第1絶縁樹脂層110を貫通して形成された層間導通部115とを有し、第1基板11と第2基板12とを積層し、層間導通部115を介して第1導体回路パターン112と第2導体回路パターン122とを接合した多層配線板において、第1導体回路パターン112と層間導通部115との接合部の周囲に空隙を介して第1絶縁樹脂層110上に形成された第1補強パターン114と、第2導体回路パターン122と層間導通部115との接合部の周囲に空隙を介して第2絶縁樹脂層120上に形成された第2補強パターン124とを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】銅コアボールをスペーサ部材として用いて上基板と下基板とを接続する際にモールド樹脂内に多量のはんだが閉じこめられない半導体パッケージの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】上基板20を含みその周囲に延在部40aを有する上基板用基板材40の接合パッドに、スペーサ部材として銅コアボール18を接合するとともに、下基板12を含みその周囲に延在部50aを有する下基板用基板材50を準備する。上基板用基板材40を銅コアボール18を介して下基板用基板材50に接続する。上基板用基板材40と下基板用基板材50との間にモールド樹脂22を充填して固定する。上基板用基板材40延在部40aと下基板用基板50の延在部50aとを含む部分を除去し、半導体パッケージ10を個片化する。 (もっと読む)


【課題】対をなす信号線同士の距離を小さく設定したとしても、3つのモードの特性インピーダンスを、Zdiff=2ZoおよびZcomm=Zo/2の関係からのズレを最小限に抑制して設計することができる回路基板を提供すること。
【解決手段】本発明の回路基板1は、絶縁体層2と、この絶縁体層2の一方の面側に設けられ、第1の信号配線3aと第2の信号配線3bとで構成される信号配線対30と、絶縁体層2の他方の面側に設けられたグランド層6とを有し、第1の信号配線3aと第2の信号配線3bとの間にグランド配線7aが配設されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】放熱特性を維持しながら、発熱素子より発生した熱から熱脆弱素子を保護することのできる放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コア金属層111及びコア金属層111に形成されるコア絶縁層112を含み、第1領域と第2領域とに区分されたコア層110、コア層110の第1領域に形成される回路層120、コア層110の第2領域に形成され、ビルドアップ絶縁層131及びビルドアップ回路層132を含むビルドアップ層130、コア層110の第2領域とビルドアップ層130の間に形成される接着層140、及びビルドアップ層130に実装されて接着層140に含浸される含浸素子150を含み、回路層120に発熱素子160を実装し、ビルドアップ層130に熱脆弱素子161を実装することにより、発熱素子160の熱による熱脆弱素子161の損傷を防止し、空間を効率的に活用する放熱基板100a及びその製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】多層配線が簡易な方法によって低コストで形成される電子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1配線層30の上に、絶縁層22の上に金属層32aが積層された積層膜CFを形成する工程と、積層膜CFの上に開口部23aが設けられたレジスト23を形成する工程と、レジスト23の開口部23aを通して金属層32aをエッチングすることにより金属層32aに開口部32xを形成する工程と、ウェットブラスト法により、金属層32aの開口部32xを通して絶縁層22をエッチングすることにより、第1配線層30に到達するビアホールVHを形成する工程と、ビアホールVHに導電性ペースト40又ははんだからなるビア導体を形成することにより、第1配線層30と第2配線層32となる金属層32aとをビア導体で接続する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 高周波領域のICチップ、特に3GHzを越えても誤動作やエラーの発生しないパッケージ基板を提供する。
【解決手段】 コア基板30上の導体層34Pを厚さ30μmに形成し、層間樹脂絶縁層50上の導体回路58を15μmに形成する。導体層34Pを厚くすることにより、導体自体の体積を増やすし抵抗を低減することができる。更に、導体層34を電源層として用いることで、ICチップへの電源の供給能力を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】ビアホール内の樹脂残り及びビアホール内に露出する内層回路パターンの変形・貫通を起こさずに、可及的に少ないショット数でビアホールを形成する。
【解決手段】表面にコンフォーマルマスク7,8aが設けられた可撓性の絶縁ベース1と、この下に設けられた、加工用レーザの波長域において絶縁ベース材1よりも高い吸光度、及び絶縁ベース材1よりも低い分解温度を有する接着剤層12とを含む被加工層を除去することにより、ビアホール23,24を形成するレーザ加工方法であって、導電膜2Aの変形及び貫通を引き起こさず、かつ絶縁ベース材1を1ショットで除去可能な第1のエネルギー密度を有するパルス光を1ショット照射した後、第1のエネルギー密度より小さく、導電膜2Aの変形および貫通を引き起こさずに残りの被加工層を所定のショット数で除去可能な第2のエネルギー密度を有するパルス光を照射する。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、耐湿性、耐溶剤性及び耐薬品性が良好で、かつ印刷配線板の薄形・軽量化と高密度化に有効なビルドアップ積層方式に適した絶縁フィルムであって、高周波帯域での誘電率と誘電正接が低く高周波回路の低損失性を実現でき、しかも耐クラック性及び回路充填性などの成形性が良好な変性シアネートエステル系硬化性樹脂組成物を用いた絶縁ワニス及びフィルムの製造法を提供する。
【解決手段】(A)シアネートエステル化合物、(B)フェノール類化合物、(C)ポリフェニレンエーテル樹脂、(D)充填材及び(E)エポキシ樹脂を必須成分として含有する樹脂組成物からなる絶縁ワニス。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ディップ式による絶縁層の表面粗化において、A3サイズ以上の大きな面積の基板の両面に形成された絶縁層を、同時に均一に低コストで粗化処理を行うことが可能な、ビルドアップ基板絶縁層の表面粗化装置を提供することを課題とする。
【解決手段】エッチング液を循環させながら粗化処理を行う表面粗化装置であって、第1供給管、第1排出管、第2供給管、第2排出管を挿入し、基板の処理中は該第1供給管と該第1排出管からなる第1循環路と、該第1供給管と該第2排出管からなる第2循環路とを交互に使用することによりエッチング液を循環させ、基板処理後は該第2供給管と該第2排出管からなる第3循環路を使用することによりエッチング液を循環させることを特徴とする、ビルドアップ基板絶縁層の表面粗化装置である。 (もっと読む)


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