【課題】基板を安定して拘束搬送することを可能とし、かつ、装置構成を簡単でコンパクトな基板搬送装置を提供する。
【解決手段】タイミングベルト等からなる駆動機構にスライダ基体１１を固定し、スライダ基体１１を直線走行させる。このスライダ基体１１の走行動作をカム機構で回転動作に変換し、スライダ基体１１に設けられたプーリ１４を介して第１のベルト（搬送ステージ用ベルト２０）に伝達する。搬送ステージ用ベルト２０には、スライダ基体１１の走行軌道と平行に走行可能な基板搬送ステージ３が固定されている。駆動機構の駆動に伴うスライダ基体１１の走行と搬送ステージ用ベルト２０の移動との合成により、スライダ基体１１のストロークより長いストロークで基板搬送ステージ３が往復することができる。 （もっと読む）

【課題】残余被加工物を堅く真空吸着できる半導体製造工程用テーブルを提供する。
【解決手段】テーブル本体１１０には真空チャンバ１１２と真空ホール１１４が形成され、テーブル本体１１０の上部には、真空ホール１１４と連結される吸気孔１２２が形成された複数の吸着パッド１２０が設けられる。真空チャンバ１１２の真空力を一定に維持する真空補償装置１３０を含み、吸気孔１２２の直径が真空ホール１１４の直径より小さく構成されて、真空チャンバ１１２に真空損失が発生する場合、真空補償装置１３０がこのような真空損失量だけ補償するように制御する。吸着パッドの吸気孔の直径を従来より小さくし、オリフィス構造で設計してパッケージが１つずつピックアップされる度に発生される真空損失を減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】 物体の搬送先の装置の構成の簡略化を図りつつ、該搬送先の装置への物体の投入再現性に基づく誤差を解消できるようにする。
【解決手段】 第１ベース部材ＷＬＢと、第１ベース部材ＷＬＢ上に支持されており、且つ所定の受渡位置Ｐ４へ物体Ｗを保持して搬送する搬送部材１４３とを有し、受渡位置Ｐ４に位置された物体Ｗの周縁部の一部を、第１ベース部材ＷＬＢとは振動伝達が分離された第２ベース部材（ＭＣＬ）上に支持されている検出装置Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３と協働して計測するために該周縁部の一部を照明する照明装置ＥＬ１，ＥＬ２，ＥＬ３を、搬送部材１４３上に設けて構成される。 （もっと読む）

回転式チップ取り付けプロセスと製造の手法は、回転プロセスでチップ（例えば、集積回路（ＩＣ））をウェハから取り出すものである。位置決めユニットを備えたチップウェハは、スプロケットホイールの先端部の上方に配置する。この先端部は、ウェハから直接ＩＣをピックアップし、そのＩＣを半連続的にステッピング動作でＩＣを受け入れるウェブに移動させる。スプロケットホイールは、好適には、典型的なピックアンドプレースロボットシステムで使用されるのと同じタイプのチップを含み、（必要であれば）ウェハ平面の薄膜を貫通し、望みどおりにＩＣを取り込み、ＩＣを配置するように構成された真空ヘッドを備える。この位置決めシステムは、ＩＣの配置をウェブ上の正確な位置に保つ。これは、複数のホイールで連続的に位置決めユニットを定位置に移動させるためである。
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【課題】アーム旋回量に制限のない低コストの産業ロボットを提供する。
【解決手段】本体部側から第１アーム２０、第２アーム３０及びハンドアーム４０の順で連結され、そのハンドアーム４０が一定方向に伸縮するように回動駆動するアーム部１０と、そのアーム部１０の伸縮動作を行う中空回動軸３及びこの中空回動軸３内にあって前記第１アーム１０に連結して前記ハンドアーム４０の伸縮方向を変化させる中実回動軸２を備えた本体部１００とを有し、本体部１００は、中実回動軸２の原点位置を検出する第１センサ４を有する第１センサ機構と、その中実回動軸２に設けられて中実回動軸２と中空回動軸３との相対的な原点位置を検出する第２センサ５を有する第２センサ機構とを有しており、中実回動軸２には、ロータリージョイント６が電気接続され、第２センサ５がこのロータリージョイント６に接続されている。 （もっと読む）

【課題】不具合によるフレームの吸着不良が発生してもワークを落下させること無く、安全にワークの搬送をすることができるワーク搬送装置及びワーク搬送方法を提供すること。
【解決手段】フレームＦを吸着する吸着部５と、フレームＦが吸着部５により吸着されて搬送される際、フレームＦの下面近傍へ移動し、フレームＦの搬送が終了し、フレームＦの吸着が終了した後にフレームＦの下面近傍から退避する複数のフレームクランプ６とを備えることにより、装置の不具合等によるワークの落下を防ぎ、安全にワークを搬送することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ウエハのクランプ位置に無視し得ない大きさの欠損が存在する場合にのみ、不良基板として扱う欠損基板の検出方法及び検出装置を提供すること。
【解決手段】回転するウエハＷの周辺部の欠損の有無を検出する光電式の検出器８と、この検出器により基板外周部の基準位置から周方向に欠損情報を取得する欠損情報取得手段１８と、取得した欠損情報を、予めメモリ１９に格納してある基板周方向の既知のクランプ予定位置情報２６と対比する手段２８と、上記対比手段による対比の結果、各クランプ予定位置のクランプ範囲に欠損が在ると判断された場合に、その欠損の周方向長さがクランプ範囲より長いとき、又は、その欠損の数が同一クランプ範囲内に２以上あるときに基板不良（欠損基板）と判定する手段２９と、基板不良と判定された基板を抜き取る手段３５とを有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】板状部材を搬送する際の当該板状部材の外周部垂れ下がり打ち消して搬送することのできる搬送装置を提供すること。
【解決手段】先端にウエハＷの吸着アーム１４を備えた多関節型ロボットからなる搬送装置１０であり、当該搬送装置１０は、前記ウエハＷを保持したときの重さで吸着アーム１４が撓んでウエハＷが垂れ下がったときに、当該垂れ下がりを打ち消すように吸着アーム１４を角度調整してウエハＷを略水平姿勢に保つように構成されている。ウエハＷの垂れ下がり量は、第１及び第２の測長器４０，４１による測長によって求めることができる。 （もっと読む）

【課題】大型液晶基板等のカセットを搬送する場合において、スタッカクレーンの大型化、大重量化を回避するとともに、移載速度が速く作業効率の高いストッカを提供する。
【解決手段】垂直方向及び水平方向に複数並べてカセット３５を保管可能な棚本体７（保管棚）を備えるとともに、棚本体７と平行に敷設されたレール２８と、該レール２８上を走行可能なスタッカクレーン５と、カセット３５をストッカ６に対し入出庫するためのコンベアポート１７と、を備える。前記スタッカクレーン５は、垂直方向に昇降自在な昇降フレーム３２と、該昇降フレーム３２上に設置され前記棚本体７に対向して進退自在なリニアスライドフォーク３３とを備える移載手段３６と、この移載手段３６から前記カセット３５を受け継いで前記コンベアポート１７へ受渡しする、ローラ３０を有するコンベアテーブル３４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射ユニットを容易に取り付けることの可能な半導体ウェハの加工装置を提供する。
【解決手段】支持フレームに保護テープを介して支持された半導体ウェハを収容するためのカセット１０を載置するカセット載置台３５と，加工領域に搬送された半導体ウェハを加工する加工手段７と，カセット１０と加工領域との間で半導体ウェハＷを搬送する搬送手段５と，を備える。ここで，カセット載置台３５の内部には，半導体ウェハを載置して，載置された半導体ウェハを搬送手段側へ搬出入するウェハ搬出入機構と，搬送手段側から搬入された半導体ウェハを載置して，半導体ウェハが貼り付けられた保護テープに紫外線を照射する紫外線照射ユニットとが，選択的に着脱自在に配置される。 （もっと読む）

【課題】変動負荷が作用するロッドを、ダスト発生による清浄度の低下、軸受摩耗の進行を抑制しながら支持するようにした耐モーメント対策静圧気体軸受機構を提供する。
【解決手段】ロッド２をその軸線方向の２個所において支持する第１及び第２の静圧気体軸受３１，３２を備える。上記第１の静圧気体軸受３１は固定支持され、第２の静圧気体軸受３２は、可動支持機構３４を介して支持される。上記可動支持機構は、上記ロッド２に作用する負荷に応じて、二つの静圧気体軸受に支持されるロッドの表面の一部がそれらの静圧気体軸受と接触するのを抑止する方向に、第１の静圧気体軸受３１に対して第２の静圧気体軸受３２の軸心を相対的に変位させるアクチュエータ３５を備える。 （もっと読む）

本発明は、基板（２）を、半導体産業、ＭＳＴ（微細構造技術）産業、太陽光発電産業で使用されるウエハ状（例えばウエハ）に分離するための装置および方法に関し、これにより工程の信頼性が向上し、不良品発生率を抑えることができる。本発明によれば、この目的はウエハ状の基板と装置（１）との間に作用する付着力によって達成される。 （もっと読む）

【課題】チップを高速でダメージを与えることなくピックアップすることができるチップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法を提供することを目的とする。
【解決手段】シート５に貼り付けられたチップ６を取出しノズル２０によって吸着保持してピックアップするチップピックアップ装置において、剥離ツール２２の上面の当接支持面にゴムなどの可撓性の弾性体を球面状に成形したシート押上部材２４を装着し、取出しノズル２０の下降状態においてシート押上げ部材２４の押上面をシート５の下面に平面状に倣わせて当接させ、取出しノズル２０がチップ６とともに上昇する上昇動作において押上面を上に凸形の曲面状に変形させながらシート５の下面を押し上げる。これにより、シート５とチップ６とをチップ外縁側から剥離させることができる。 （もっと読む）

【課題】待機室内に澱みや滞留のない雰囲気の流れを確保し続け、自然酸化膜を防止するだけでなく、パーティクルや有機物が待機室内に留まるのを防止する。
【解決手段】ウエハ１をボート２１で保持しつつ処理する処理室２５と、ボート２１が処理室２５への搬入に待機する待機室１２と、ボート２１を待機室１２と処理室２５との間で昇降させるボートエレベータ１９と、待機室１２に窒素ガス３０とクリーンエア４０を供給するクリーンユニット４１とを備えている熱処理装置１０において、待機室１２に窒素ガスを循環させる循環路３１に、窒素ガスを供給する窒素ガス供給管４６と、新鮮なエアを供給する新鮮エア供給管４４と、窒素ガスおよびクリーンエアを排出する排出路４９とを設け、排出路４９にダンパ５２を設け、排出路４９にダンパ５２をバイパスするバイパス路５３を設ける。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅均一性をより向上させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】時刻ｔ１に露光ユニットにて露光処理が完了した基板は基板処理装置の洗浄処理ユニットに搬入される。洗浄処理ユニットにおける露光後基板の滞在時間（待機時間または洗浄時間）を調整して露光処理完了時刻ｔ１から洗浄処理終了時刻ｔ５までが一定となるように洗浄処理終了時点を調整することによって、露光処理完了時点から露光後加熱処理開始時点までの時間を一定とし、かつ洗浄処理完了時点から露光後加熱処理開始時点までの時間をも一定としている。これにより、化学増幅型レジストを使用した場合におけるパターンの線幅均一性をより向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】露光処理完了から露光後加熱処理開始までの時間を確実に一定にすることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】露光ユニットＥＸＰからインターフェイスブロック５が露光後の基板Ｗを受け取った時点から加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかにて当該基板Ｗの露光後加熱処理を開始するまでの規定時間ＲＴを決定する。加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかに基板Ｗが到達したときに、その基板Ｗを露光ユニットＥＸＰから受け取った時点から該基板Ｗが加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２に到達するまでに要した搬送時間を規定時間ＲＴから減じて待機時間を算定する。加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかに基板Ｗが到達した後、上記算定された待機時間が経過した時点で加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２による基板Ｗの露光後加熱処理を開始する。 （もっと読む）

【課題】搬送室内の搬送装置を設置場所の高さの制限にかかわらず基板処理装置外へ搬出することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、真空中で基板に所定の処理を施す処理室と、処理室に連結され、真空中に保持されるとともに、基板を搬送する搬送装置を備えた搬送室２０と、搬送室２０と大気側の基板収納容器との間に設けられたロードロック室３０とを具備し、ロードロック室３０の下方には空間が存在し、搬送装置は、上部構造と下部構造５００Ｂとに分割可能であり、上部構造は、搬送室２０の上方から基板処理装置外へ搬出可能であり、下部構造５００Ｂは搬送室２０の下側からロードロック室３０の下方の空間を通って装置外へ搬出可能である。 （もっと読む）

【課題】ロードロック室等の基板を収容する容器内において、基板周りのスペースを極力小さくして基板の位置合わせを行うことができる基板位置合わせ装置を提供すること。
【解決手段】基板位置合わせ装置は、基板Ｓの搬送方向に直交する一対の端面Ｓ１を押圧する一対の第１のポジショナー７と、基板Ｓの搬送方向に沿った一対の端面Ｓ２を押圧する一対の第２のポジショナー８とを具備し、第１および第２のポジショナー７、８はそれぞれ、シリンダ機構７１、８１、およびシリンダ機構７１、８１のピストン７４、８４の進出により端面Ｓ１、Ｓ２を押圧する押圧子７０、８０を有し、第１のポジショナー７は、ピストン７４の進出により、押圧子７０を、基板Ｓの搬送経路外に退避させる退避位置と基板Ｓを押圧可能な押圧可能位置との間で移動させ、かつ、押圧可能位置で押圧方向に移動させる駆動力変換機構部７２をさらに有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、半導体ウェーハを検査する走査型電子顕微鏡において、ウェーハの交換に要する時間をさらに短縮することにより、ウェーハ検査のスループットを向上させる装置の提供を課題にする。
【解決手段】 本発明の電子顕微鏡は、未検査ウェーハ及び検査済ウェーハを交換するために設けられるウェーハ交換部(40)が、長手方向にスライドして往復する第１アーム(41a)と、この第１アーム(41a)の先端に設けられウェーハを把持／解放する第１ウェーハ把持部(45a)と、長手方向にスライドして往復する第２アーム(41b)と、この第２アーム(41b)の先端に設けられウェーハを把持／解放する第２ウェーハ把持部(45b)と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で、試料の交換作業を短時間で行なえる真空搬送装置を実現し、しかも、占有面積が小さく、スループットを向上させた荷電粒子線検査装置を提供する。
【解決手段】２つの駆動源２，１０により回転および上下動作が可能なアーム１と、このアーム１の両端に、アーム１の回転に伴って回転するように支持されて試料を載置する第１のハンド２２と第２のハンド２３とを上下方向に離間させて配置して、アーム１の回転と上下動作の制御のみにより試料の搬送とその交換を可能した真空搬送装置２６を構成し、また、この真空搬送装置２６を荷電粒子線検査装置の予備排気室ではなく真空試料室内に配置した。 （もっと読む）