アライメント方法およびその装置
【課題】本発明は、種々の処理装置に組み込むことによって作業効率の向上および品質のばらつき抑制を実現するアライメント方法およびその装置を提供することである。
【解決手段】吸着テーブル４上に配設された複数の基板保持プレート１７の夫々にアライメントマーク２０を有する被処理基板１８を保持し、アライメントマーク撮像用カメラ１９で撮像して得られた被処理基板１８のアライメントマーク２０の位置データに基づいて吸着テーブル４の基板保持プレート１７に対応する両側に配設されたアライメント機構を制御し、夫々のアライメント機構に設けられた基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７をＸ、Ｙおよびθ方向に制御して被処理基板１８のアライメントを行なう。
【解決手段】吸着テーブル４上に配設された複数の基板保持プレート１７の夫々にアライメントマーク２０を有する被処理基板１８を保持し、アライメントマーク撮像用カメラ１９で撮像して得られた被処理基板１８のアライメントマーク２０の位置データに基づいて吸着テーブル４の基板保持プレート１７に対応する両側に配設されたアライメント機構を制御し、夫々のアライメント機構に設けられた基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７をＸ、Ｙおよびθ方向に制御して被処理基板１８のアライメントを行なう。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はアライメント方法およびその装置に関するものであり、詳しくは、ステージ上で被処理基板をアライメントする方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示パネル等に使用するガラス基板を切断する方法として、例えば、以下に示すような切断（以下、スクライブともいう）方法が提案されている。それは図５に示すように、アライメントマークが形成されたワーク（ガラス基板）Ｗを夫々Ｘ、Ｙおよびθの各方向に移動可能なテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置し、所定の位置に配置されたカメラ５０でワークＷのアライメントマークを撮像して、得られた画像をデータ処理することによってアライメントマークの位置を算出する。算出されたアライメントマークの位置データは予め正規の位置に対応するように設定された位置データと比較され、その差分に基づいてテーブルＴｘ、Ｔｙ、Ｔθの夫々をＸ、Ｙおよびθの夫々の方向に移動させることによってワークＷを所定の位置に位置させる。
【０００３】
その後、テーブルＴｘをＸ方向に往復移動させながらチップホルダー５１に回転自在に支持されたカッターホイールチップ５２によってワークＷをＸ方向にスクライブするものである。その際、スクライブ方向変更時にはチップホルダー５１がスクライブ間隔に対応した位置に補正されると共に、チップホルダー５１を１８０°回転させることによってチップホルダー５１に支持されたカッターホイールチップ５２がスクライブ方向に対応した方向に向けられる。
【０００４】
このようにしてワークＷに対するＸ方向のスクライブが完了するとテーブルＴθが９０°回転され、上述したＸ方向のスクライブと同様の手順によってワークＷにＹ方向のスクライブが行なわれて１枚のワークＷに対するスクライブ工程が完了するというものである（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２０００−１１９０３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記ガラススクライブ方法で複数のワーク（ガラス基板）Ｗをスクライブする場合は、ワークＷを１枚毎にテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置してスクライブする方法とテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置した複数のガラス基板を順次スクライブする方法が考えられる。
【０００６】
前者の場合は１枚毎のワークＷの交換作業に伴う労力・時間の浪費が作業効率を低下させるものであり、それに対し後者の場合は前者に比べて作業効率は良好ではあるが、スクライブするワークＷ１枚毎にスクライブ加工前にテーブルをＸ、Ｙおよびθ方向に移動させてアライメントする必要があり、そのためにアライメント時のテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθの機械的な移動による時間的な損失が発生することになる。
【０００７】
そこで、本発明は上記問題に鑑みて創案なされたもので、その目的とするところは、種々の処理装置に組み込むことによって作業効率の向上および品質のばらつきの抑制を実現するアライメント方法及びその装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載された発明は、テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント方法であって、
（１）テーブル上に載置された複数の基板保持プレートの夫々にアライメントマークが形成された被処理基板を保持するステップと、
（２）前記被処理基板に形成されたアライメントマークをアライメントマーク撮像用カメラで撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいてアライメント機構を制御することによって該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置を調整して前記位置データの差を縮小するステップと、
（３）前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで前記ステップ（２）を繰り返すステップと、
（４）前記テーブル上に載置された前記全ての基板保持プレートについて前記ステップ（２）および（３）を施すステップを有することを特徴とするものである。
【０００９】
また、本発明の請求項２に記載された発明は、請求項１の前記ステップ（１）において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明の請求項３に記載された発明は、請求項２において、前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々について前記ステップ（３）終了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の請求項４に記載された発明は、請求項１〜３のいずれか１項において、前記テーブルは前記複数の基板保持プレートが載置された方向に直線的に移動可能であり、前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の請求項５に記載された発明は、テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント装置であって、
直線的に移動可能なテーブルと、
前記テーブル上の該テーブルの移動方向に載置された、夫々被処理基板を保持する複数の基板保持プレートと、
前記夫々の基板保持プレートを挟んで前記テーブルの移動方向と略直角方向の前記テーブルの両側に配設された、前記基板保持プレートを連動して動かす複数の一対のアライメント機構と、
前記テーブルの上方に配置された、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークを撮像する一対のアライメントマーク撮像用カメラを備え、
前記夫々の基板保持プレートに保持された被処理基板について、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークの夫々を前記一対のアライメントマーク撮像用カメラの夫々で撮像し、撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいて前記一対のアライメント機構を制御して該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置が調整されて前記位置データの差が縮小され、前記位置データの縮小が前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで繰り返されることによってアライメントが完了することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の請求項６に記載された発明は、請求項５において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の請求項７に記載された発明は、請求項６において、前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々についてアライメント完了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とするものである。
【００１５】
また、本発明の請求項８に記載された発明は、請求項５〜７のいずれか１項において、前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のアライメント装置は、ステージ上に載置された複数の基板保持プレートの夫々に保持された被処理基板をステージ上で正規の位置にアライメントするようにした。
【００１７】
その結果、種々の処理装置に本発明のアライメント装置を組み込むことによって処理速度の高速化が図られるために作業効率が向上し、且つ処理の均一性が確保できるために品質のばらつきが低減できる等の優れた効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、この発明の実施形態を図１〜４を参照しながら、詳細に説明する（同一部分については同じ符号を付し、説明は省略する）。尚、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
【００１９】
図１は本実施形態に係わるアライメント装置を示す斜視図である。なお、以下の説明の中に表記するＸ、Ｙ、Ｚおよびθの夫々の方向は、図中に矢印で示した方向に対応する。
【００２０】
アライメント装置１は、床面あるいは装置等に固定された架台２の上に一対の第1のガイドレール３が平行に並設され、架台２の上方には前記第1のガイドレール３に該ガイドレール３の延長方向（Ｙ方向）に摺動自在に支持された吸着テーブル４が配置されている。
【００２１】
吸着テーブル４には多数の吸着孔（図示せず）が設けられていると共に、該吸着孔は吸着テーブル４上に載置される基板保持プレート（後述する）に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっている。
【００２２】
そして、吸着テーブル４の両側の対向する位置に、夫々互いの方向（Ｘ方法）に向かって延びた第２のガイドレール５ａ、５ｂが配設され、第２のガイドレール５ａ、５ｂに該ガイドレール５ａ、５ｂの延長方向（Ｘ方向）に摺動自在に支持された第１のスライダ６ａ、６ｂが配置されている。
【００２３】
また、第１のスライダ６ａ、６ｂ上には、該第1のスライダ６ａ、６ｂを摺動自在に支持する第２のガイドレール５ａ、５ｂに直角な方向（Ｙ方向）に向かって延びる第３のガイドレール７ａ、７ｂが配設され、第３のガイドレール７ａ、７ｂに該第３のガイドレール７ａ、７ｂの延長方向（Ｙ方向）に摺動自在に支持された第２のスライダ８ａ、８ｂが配置されている。
【００２４】
そして、夫々の第１のスライダ６ａ、６ｂ上には第１のアクチュエータ９ａ、９ｂが配設されていると共に夫々の第２のスライダ８ａ、８ｂには吸着テーブル４に垂直な方向（Ｚ方向）に延びた基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂが設けられており、第１のアクチュエータ９ａ、９ｂの各ロッド１１ａ、１１ｂは夫々基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂに連結されている。
【００２５】
また、吸着テーブル４の第１のスライダ６ａが配置された側には第２のアクチュエータ１２が配設されており、第２のアクチュエータ１２のロッド１１ｃは第１のスライダ６ａに連結されている。
【００２６】
吸着テーブル４上には図２に示すような、両端部にピン嵌挿孔１３ａ、１３ｂが設けられると共に中央部に窓孔１４が設けられた板状部材１５の一方の面に前記窓孔１４を塞ぐように基板載置用シート１６が取り付けられた基板保持プレート１７が載置され、ピン嵌挿孔１３ａ、１３ｂの夫々には基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂが嵌挿されている。
【００２７】
板状部材１５は金属、非金属あるいは高分子材料等のうちから選択されたもの、あるいはそれらを組み合わせたものからなり、例えば、ガラスエポキシ樹脂等も使用できる。また、基板載置用シート１６は金属、非金属あるいは高分子材料等のうちから選択されたもの、あるいはそれらを組み合わせたものからなり、後述するように被処理基板１８が基板載置用シート１６を介して吸着テーブル４に吸着固定できるように加工されたものであればよい。例えば、多孔質シート、吸着孔を設けたガラスエポキシ樹脂等も使用できる。
【００２８】
なお、アライメントが施される被処理基板は図１および図２に示すように、板状部材１５の窓孔１４を通して基板載置用シート１６上に保持される。このとき、被処理基板１８の基板載置用シート１６に保持された面と反対側の面は板状部材１５の面よりも突出している。つまり、基板保持プレート１７の板状部材１５はアライメントが施される被処理基板１８よりも薄くなるように設定されている。
【００２９】
更に、吸着テーブル４の上方には一対のアライメントマーク撮像用カメラ１９が略基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂ同士を結ぶ方向（Ｘ方向）に移動自在に配設されており、各基板保持プレート１７に保持された被処理基板１８に形成された一対のアライメントマーク２０を撮像してその画像からアライメントマーク２０の所定の位置からのずれを算出するものである。
【００３０】
なお、第２のガイドレール５ｂ、第３のガイドレール７ｂ、第２のスライダ８ｂおよびロッド１１ｂの夫々は吸着テーブル４の第１のスライダ６ｂが配置された側に位置するが、吸着テーブル４の陰に隠れているために図面には記載していない。
【００３１】
以上説明したような、吸着テーブル４の両側に配設された一対のアライメント機構は、吸着テーブル４の該吸着テーブル４の架台２に対する摺動方向（Ｙ方向）に複数並設されており、吸着テーブル４に並設されるアライメント機構の数は、吸着テーブル４上に載置される基板保持プレート１７の数と同一またはそれより多く、また、アライメントが施される被処理基板の形状・寸法、アライメント装置の形状・寸法、作業性、設備投資額等の種々の条件を考慮して総合的に判断される。
【００３２】
また、基板保持プレート１７が載置される吸着テーブル４には多数の吸着孔（図示せず）が設けられており、それら吸着孔は載置される各基板保持プレート１７に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能なように複数の吸着孔群からなっている。
【００３３】
次に、上述のアライメント装置を使用して被処理基板のアライメントを行なう方法について図１および図３を参照して詳細に説明する。図３はアライメント機構の動きを説明するための模式図である。
【００３４】
まず、吸着テーブル４上に載置された夫々の基板保持プレート１７の基板載置用シート１６上にアライメントマーク２０が形成された被処理基板１８を載せてそのまま保持する。このとき、各被処理基板１８は、被処理基板１８の隣接する２辺の端面を基板保持プレート１７の板状部材１５に設けられた窓孔１４の隣接する２辺の端面に突き当てた状態で保持されている。
【００３５】
つまり、各被処理基板１８は、被処理基板１８を保持する夫々の基板保持プレート１７に対して予備的な位置決めがなされたことになる。また、夫々の基板保持プレート１７は予め位置および方向が大まかに揃えられており、基板保持プレート１７についても同様に予備的な位置決めが施されているものである。従って、夫々の被処理基板１８は基板保持プレート１７に保持された時点で粗いアライメントが施された状態にあることになる。
【００３６】
また、一対のアライメントマーク撮像用カメラ１９も、予め被処理基板１８の一対のアライメントマーク２０の正規の位置に対応する位置に移動させてある。
【００３７】
そして、アライメント装置１の始動操作を行なうと、架台２上に配設された第１のガイドレール３に沿って吸着テーブル４が摺動され、最初の基板保持プレート１７に保持された被処理基板１８の一対のアライメントマーク２０がカメラ１９に捕らえられて、得られたアライメントマーク２０のいずれか一方または両方の画像の位置データが正規の位置データに対して所定の範囲内に入ったときに吸着テーブル４の摺動が停止する。
【００３８】
すると、この時点から被処理基板１８に対する高精度のアライメントが開始される。それは、カメラで撮像されて得られた被処理基板１８の一対のアライメントマーク２０の夫々の画像の位置データと、アライメントマーク２０の夫々の正規の位置に対応するように予め設定された位置データとの差を、Ｘ方向およびＹ方向に分けて算出する。
【００３９】
そして、算出されたＸ方向の差およびＹ方向の差の夫々に基づいて第1のアクチュエータ９ａ、９ｂと第２のアクチュエータ１２の３つのアクチュエータを個別に制御し、基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７の位置・方向を調整して被処理基板１８の位置を正規の位置に近づける。
【００４０】
ここで、第1のアクチュエータ９ａ、９ｂと第２のアクチュエータ１２の３つのアクチュエータの作動と基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂの移動方向および被処理基板の制御方向の関係を説明する（図３参照）。
【００４１】
第１のアクチュエータ９ａを作動させると第１のアクチェータ９ａのロッド１１ａはＹ方向に伸縮する。すると、ロッド１１ａは第１のアクチュエータ９ａが配設された第１のスライダ６ａ上にＹ方向に摺動自在に支持された第２のスライダ８ａに設けられた基板保持プレート用支持ピン１０ａに接続されており、第１のアクチュエータ９ａが作動してロッド１１ａが伸縮すると基板保持プレート用支持ピン１０ａはＹ方向に移動する。
【００４２】
同様に、第１のアクチュエータ９ｂを作動させると第１のアクチュエータ９ｂのロッド１１ｂはＹ方向に伸縮する。すると、ロッド１１ｂは第１のアクチュエータ９ｂが配設された第１のスライダ６ｂ上にＹ方向に摺動自在に支持された第２のスライダ８ｂに設けられた基板保持プレート用支持ピン１０ｂに接続されており、第１のアクチュエータ９ｂが作動してロッド１１ｂが伸縮すると基板保持プレート用支持ピン１０ｂはＹ方向に移動する。
【００４３】
従って、第１のアクチュエータ９ａ、９ｂを作動させることによって、基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７をＹ方向に移動したりθ方向に回転することが可能となる。その結果、基板保持プレート１７に載置された被処理基板１８のＹ方向およびθ方向の制御が可能となる。
【００４４】
また、第２のアクチュエータ１２を作動させると第２のアクチュエータ１２のロッド１１ｃはＸ方向に伸縮する。すると、ロッド１１ｃは吸着テーブル４に配設された第２のガイドレール５ａにＸ方向に摺動自在に支持された第１のスライダ６ａに接続されており、第２のアクチュエータ１２が作動してロッド１１ｃが伸縮すると第１のスライダ６ａはＸ方向に移動する。
【００４５】
このとき、第１のスライダ６ａには第１のアクチェータ９ａと共に基板保持プレート用支持ピン１０ａが設けられた第２のスライダ８ａが配設されており、よって第２のアクチュエータ１２ａが作動してロッド１１ｃが伸縮すると第１のスライダ６ａがＸ方向に移動することによって基板保持プレート用支持ピン１０ａがＸ方向に移動する。
【００４６】
すると、基板保持プレート用支持ピン１０ａが嵌挿された基板保持プレート１７が基板保持プレート用支持ピン１０ａのＸ方向の移動に伴って同様にＸ方向に移動する。このとき、基板保持プレート１７に嵌挿された他方の基板保持プレート用支持ピン１０ｂも基板保持プレート１７を介してＸ方向に移動する。
【００４７】
従って、第２のアクチュエータ１２を作動させることによって、基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７をＸ方向に移動することが可能となる。その結果、基板保持プレート１７に載置された被処理基板１８のＸ方向の制御が可能となる。
【００４８】
このように、カメラで撮像されて得られたアライメントマーク２０の画像の位置データと、アライメントマーク２０の夫々の正規の位置に対応するように予め設定された位置データによって算出されたＸ方向の差およびＹ方向の差の夫々に基づいて第1のアクチュエータ９ａ、９ｂと第２のアクチュエータ１２の３つのアクチュエータを適宜制御することによって被処理基板１８の位置を正規の位置に近づけることができる。
【００４９】
以上説明したアライメント機構によって被処理基板１８の位置調整が行なわれた後、同様にカメラによるアライメントマーク２０の撮像、位置データの算出、被処理基板１８の位置修正を繰り返すことによって被処理基板１８を正規の位置に限りなく近づける。
【００５０】
そして、各アライメントマーク２０の位置と正規の位置の差が設定値の範囲内に達した時点でアライメント処理が完了する。
【００５１】
被処理基板１８のアライメントが完了すると、吸着テーブル４に設けられた吸着孔のうち、その被処理基板１８が保持された基板保持プレート１７に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引され、被処理基板１８が基板保持プレート１７の板状部材１５に取り付けられた基板載置用シート１６を介して吸着テーブル４に吸着固定される。
【００５２】
このような工程を経てアライメントが完了した被処理基板１８が吸着テーブル４上の正規の位置に固定されると、架台２上に配設された第１のガイドレール３に沿って吸着テーブル４が摺動され、次の基板保持プレート１７に保持された被処理基板１８がアライメントされる。
【００５３】
このような工程を経て順次被処理基板１８がアライメントされることによって、全ての被処理基板１８が吸着テーブル４上の正規の位置に固定されてアライメント作業が完了する。
【００５４】
上記アライメント工程の流れを、夫々被処理基板１８を保持した２枚の基板保持プレート１７と吸着テーブル４とアライメントマーク撮像用カメラ１９とによって示したものが図４である。
【００５５】
まず、（ａ）のように吸着テーブル４上に配設された２枚の基板保持プレート１７の夫々に被処理基板１８を保持する。そしてアライメント装置の始動操作を行なうと、（ｂ）のように吸着テーブル４が摺動して最初の被処理基板１８がカメラ１９の下でアライメントされる。最初の被処理基板１８のアライメントが完了すると、（ｃ）のように再度吸着テーブル４が摺動して次の被処理基板がカメラ１９の下でアライメントされる。すると、（ｄ）のように２枚の被処理基板１８が吸着テーブル４上の正規の位置に固定されてアライメント作業が完了する。
【００５６】
上述したような、複数の被処理基板を吸着テーブル上で正規の位置にアライメントするアライメント装置は、種々の処理装置に組み込むことによって有効に活用できる。例えば、被処理基板を切断するためのスクライブ装置に組み込んだ場合、吸着テーブル上の全ての被処理基板はアライメントが完了して正規の位置に固定されており、スクライブ装置のカッタと吸着テーブルとの相対的な直線運動によって複数の被処理基板に連続的にスクライブラインを形成することができる。
【００５７】
その結果、スクライブ速度が上がって作業効率が向上するため、製造コストの低減に繋がる。また、複数の被処理基板において均一なスクライブラインが形成できるため、スクライブ後に切断して小片化された被処理基板同士の品質のばらつきを抑制することが可能となる。なお、レーザ光によるスクライブ装置に組み込んだ場合も同様の効果を奏する。
【００５８】
このように、本発明のアライメント装置は、種々の処理装置に組み込むことによって処理等の高速化が図られるために作業効率が向上し、且つ処理の均一性が確保できるために品質のばらつきが低減できる等の優れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明のアライメント装置の斜視図である。
【図２】本発明のアライメント装置を構成する基板保持プレートの斜視図である。
【図３】本発明のアライメント装置に係わるアライメント機構の動きを示す模式図である。
【図４】本発明のアライメントの流れを示す概略図である。
【図５】従来例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００６０】
１ アライメント装置
２ 架台
３ 第1のガイドレール
４ 吸着テーブル
５ａ、５ｂ 第２のガイドレール
６ａ、６ｂ 第1のスライダ
７ａ、７ｂ 第３のガイドレール
８ａ、８ｂ 第２のスライダ
９ａ、９ｂ 第1のアクチュエータ
１０ａ、１０ｂ 基板保持プレート用支持ピン
１１ａ、１１ｂ、１１ｃ ロッド
１２ 第２のアクチュエータ
１３ａ、１３ｂ ピン嵌挿孔
１４ 窓孔
１５ 板状部材
１６ 基板載置用シート
１７ 基板保持プレート
１８ 被処理基板
１９ カメラ
２０ アライメントマーク
【技術分野】
【０００１】
本発明はアライメント方法およびその装置に関するものであり、詳しくは、ステージ上で被処理基板をアライメントする方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示パネル等に使用するガラス基板を切断する方法として、例えば、以下に示すような切断（以下、スクライブともいう）方法が提案されている。それは図５に示すように、アライメントマークが形成されたワーク（ガラス基板）Ｗを夫々Ｘ、Ｙおよびθの各方向に移動可能なテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置し、所定の位置に配置されたカメラ５０でワークＷのアライメントマークを撮像して、得られた画像をデータ処理することによってアライメントマークの位置を算出する。算出されたアライメントマークの位置データは予め正規の位置に対応するように設定された位置データと比較され、その差分に基づいてテーブルＴｘ、Ｔｙ、Ｔθの夫々をＸ、Ｙおよびθの夫々の方向に移動させることによってワークＷを所定の位置に位置させる。
【０００３】
その後、テーブルＴｘをＸ方向に往復移動させながらチップホルダー５１に回転自在に支持されたカッターホイールチップ５２によってワークＷをＸ方向にスクライブするものである。その際、スクライブ方向変更時にはチップホルダー５１がスクライブ間隔に対応した位置に補正されると共に、チップホルダー５１を１８０°回転させることによってチップホルダー５１に支持されたカッターホイールチップ５２がスクライブ方向に対応した方向に向けられる。
【０００４】
このようにしてワークＷに対するＸ方向のスクライブが完了するとテーブルＴθが９０°回転され、上述したＸ方向のスクライブと同様の手順によってワークＷにＹ方向のスクライブが行なわれて１枚のワークＷに対するスクライブ工程が完了するというものである（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２０００−１１９０３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記ガラススクライブ方法で複数のワーク（ガラス基板）Ｗをスクライブする場合は、ワークＷを１枚毎にテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置してスクライブする方法とテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθ上に載置した複数のガラス基板を順次スクライブする方法が考えられる。
【０００６】
前者の場合は１枚毎のワークＷの交換作業に伴う労力・時間の浪費が作業効率を低下させるものであり、それに対し後者の場合は前者に比べて作業効率は良好ではあるが、スクライブするワークＷ１枚毎にスクライブ加工前にテーブルをＸ、Ｙおよびθ方向に移動させてアライメントする必要があり、そのためにアライメント時のテーブルＴｘ、ＴｙおよびＴθの機械的な移動による時間的な損失が発生することになる。
【０００７】
そこで、本発明は上記問題に鑑みて創案なされたもので、その目的とするところは、種々の処理装置に組み込むことによって作業効率の向上および品質のばらつきの抑制を実現するアライメント方法及びその装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の請求項１に記載された発明は、テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント方法であって、
（１）テーブル上に載置された複数の基板保持プレートの夫々にアライメントマークが形成された被処理基板を保持するステップと、
（２）前記被処理基板に形成されたアライメントマークをアライメントマーク撮像用カメラで撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいてアライメント機構を制御することによって該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置を調整して前記位置データの差を縮小するステップと、
（３）前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで前記ステップ（２）を繰り返すステップと、
（４）前記テーブル上に載置された前記全ての基板保持プレートについて前記ステップ（２）および（３）を施すステップを有することを特徴とするものである。
【０００９】
また、本発明の請求項２に記載された発明は、請求項１の前記ステップ（１）において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とするものである。
【００１０】
また、本発明の請求項３に記載された発明は、請求項２において、前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々について前記ステップ（３）終了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とするものである。
【００１１】
また、本発明の請求項４に記載された発明は、請求項１〜３のいずれか１項において、前記テーブルは前記複数の基板保持プレートが載置された方向に直線的に移動可能であり、前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とするものである。
【００１２】
また、本発明の請求項５に記載された発明は、テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント装置であって、
直線的に移動可能なテーブルと、
前記テーブル上の該テーブルの移動方向に載置された、夫々被処理基板を保持する複数の基板保持プレートと、
前記夫々の基板保持プレートを挟んで前記テーブルの移動方向と略直角方向の前記テーブルの両側に配設された、前記基板保持プレートを連動して動かす複数の一対のアライメント機構と、
前記テーブルの上方に配置された、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークを撮像する一対のアライメントマーク撮像用カメラを備え、
前記夫々の基板保持プレートに保持された被処理基板について、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークの夫々を前記一対のアライメントマーク撮像用カメラの夫々で撮像し、撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいて前記一対のアライメント機構を制御して該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置が調整されて前記位置データの差が縮小され、前記位置データの縮小が前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで繰り返されることによってアライメントが完了することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明の請求項６に記載された発明は、請求項５において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とするものである。
【００１４】
また、本発明の請求項７に記載された発明は、請求項６において、前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々についてアライメント完了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とするものである。
【００１５】
また、本発明の請求項８に記載された発明は、請求項５〜７のいずれか１項において、前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のアライメント装置は、ステージ上に載置された複数の基板保持プレートの夫々に保持された被処理基板をステージ上で正規の位置にアライメントするようにした。
【００１７】
その結果、種々の処理装置に本発明のアライメント装置を組み込むことによって処理速度の高速化が図られるために作業効率が向上し、且つ処理の均一性が確保できるために品質のばらつきが低減できる等の優れた効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、この発明の実施形態を図１〜４を参照しながら、詳細に説明する（同一部分については同じ符号を付し、説明は省略する）。尚、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
【００１９】
図１は本実施形態に係わるアライメント装置を示す斜視図である。なお、以下の説明の中に表記するＸ、Ｙ、Ｚおよびθの夫々の方向は、図中に矢印で示した方向に対応する。
【００２０】
アライメント装置１は、床面あるいは装置等に固定された架台２の上に一対の第1のガイドレール３が平行に並設され、架台２の上方には前記第1のガイドレール３に該ガイドレール３の延長方向（Ｙ方向）に摺動自在に支持された吸着テーブル４が配置されている。
【００２１】
吸着テーブル４には多数の吸着孔（図示せず）が設けられていると共に、該吸着孔は吸着テーブル４上に載置される基板保持プレート（後述する）に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっている。
【００２２】
そして、吸着テーブル４の両側の対向する位置に、夫々互いの方向（Ｘ方法）に向かって延びた第２のガイドレール５ａ、５ｂが配設され、第２のガイドレール５ａ、５ｂに該ガイドレール５ａ、５ｂの延長方向（Ｘ方向）に摺動自在に支持された第１のスライダ６ａ、６ｂが配置されている。
【００２３】
また、第１のスライダ６ａ、６ｂ上には、該第1のスライダ６ａ、６ｂを摺動自在に支持する第２のガイドレール５ａ、５ｂに直角な方向（Ｙ方向）に向かって延びる第３のガイドレール７ａ、７ｂが配設され、第３のガイドレール７ａ、７ｂに該第３のガイドレール７ａ、７ｂの延長方向（Ｙ方向）に摺動自在に支持された第２のスライダ８ａ、８ｂが配置されている。
【００２４】
そして、夫々の第１のスライダ６ａ、６ｂ上には第１のアクチュエータ９ａ、９ｂが配設されていると共に夫々の第２のスライダ８ａ、８ｂには吸着テーブル４に垂直な方向（Ｚ方向）に延びた基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂが設けられており、第１のアクチュエータ９ａ、９ｂの各ロッド１１ａ、１１ｂは夫々基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂに連結されている。
【００２５】
また、吸着テーブル４の第１のスライダ６ａが配置された側には第２のアクチュエータ１２が配設されており、第２のアクチュエータ１２のロッド１１ｃは第１のスライダ６ａに連結されている。
【００２６】
吸着テーブル４上には図２に示すような、両端部にピン嵌挿孔１３ａ、１３ｂが設けられると共に中央部に窓孔１４が設けられた板状部材１５の一方の面に前記窓孔１４を塞ぐように基板載置用シート１６が取り付けられた基板保持プレート１７が載置され、ピン嵌挿孔１３ａ、１３ｂの夫々には基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂが嵌挿されている。
【００２７】
板状部材１５は金属、非金属あるいは高分子材料等のうちから選択されたもの、あるいはそれらを組み合わせたものからなり、例えば、ガラスエポキシ樹脂等も使用できる。また、基板載置用シート１６は金属、非金属あるいは高分子材料等のうちから選択されたもの、あるいはそれらを組み合わせたものからなり、後述するように被処理基板１８が基板載置用シート１６を介して吸着テーブル４に吸着固定できるように加工されたものであればよい。例えば、多孔質シート、吸着孔を設けたガラスエポキシ樹脂等も使用できる。
【００２８】
なお、アライメントが施される被処理基板は図１および図２に示すように、板状部材１５の窓孔１４を通して基板載置用シート１６上に保持される。このとき、被処理基板１８の基板載置用シート１６に保持された面と反対側の面は板状部材１５の面よりも突出している。つまり、基板保持プレート１７の板状部材１５はアライメントが施される被処理基板１８よりも薄くなるように設定されている。
【００２９】
更に、吸着テーブル４の上方には一対のアライメントマーク撮像用カメラ１９が略基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂ同士を結ぶ方向（Ｘ方向）に移動自在に配設されており、各基板保持プレート１７に保持された被処理基板１８に形成された一対のアライメントマーク２０を撮像してその画像からアライメントマーク２０の所定の位置からのずれを算出するものである。
【００３０】
なお、第２のガイドレール５ｂ、第３のガイドレール７ｂ、第２のスライダ８ｂおよびロッド１１ｂの夫々は吸着テーブル４の第１のスライダ６ｂが配置された側に位置するが、吸着テーブル４の陰に隠れているために図面には記載していない。
【００３１】
以上説明したような、吸着テーブル４の両側に配設された一対のアライメント機構は、吸着テーブル４の該吸着テーブル４の架台２に対する摺動方向（Ｙ方向）に複数並設されており、吸着テーブル４に並設されるアライメント機構の数は、吸着テーブル４上に載置される基板保持プレート１７の数と同一またはそれより多く、また、アライメントが施される被処理基板の形状・寸法、アライメント装置の形状・寸法、作業性、設備投資額等の種々の条件を考慮して総合的に判断される。
【００３２】
また、基板保持プレート１７が載置される吸着テーブル４には多数の吸着孔（図示せず）が設けられており、それら吸着孔は載置される各基板保持プレート１７に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能なように複数の吸着孔群からなっている。
【００３３】
次に、上述のアライメント装置を使用して被処理基板のアライメントを行なう方法について図１および図３を参照して詳細に説明する。図３はアライメント機構の動きを説明するための模式図である。
【００３４】
まず、吸着テーブル４上に載置された夫々の基板保持プレート１７の基板載置用シート１６上にアライメントマーク２０が形成された被処理基板１８を載せてそのまま保持する。このとき、各被処理基板１８は、被処理基板１８の隣接する２辺の端面を基板保持プレート１７の板状部材１５に設けられた窓孔１４の隣接する２辺の端面に突き当てた状態で保持されている。
【００３５】
つまり、各被処理基板１８は、被処理基板１８を保持する夫々の基板保持プレート１７に対して予備的な位置決めがなされたことになる。また、夫々の基板保持プレート１７は予め位置および方向が大まかに揃えられており、基板保持プレート１７についても同様に予備的な位置決めが施されているものである。従って、夫々の被処理基板１８は基板保持プレート１７に保持された時点で粗いアライメントが施された状態にあることになる。
【００３６】
また、一対のアライメントマーク撮像用カメラ１９も、予め被処理基板１８の一対のアライメントマーク２０の正規の位置に対応する位置に移動させてある。
【００３７】
そして、アライメント装置１の始動操作を行なうと、架台２上に配設された第１のガイドレール３に沿って吸着テーブル４が摺動され、最初の基板保持プレート１７に保持された被処理基板１８の一対のアライメントマーク２０がカメラ１９に捕らえられて、得られたアライメントマーク２０のいずれか一方または両方の画像の位置データが正規の位置データに対して所定の範囲内に入ったときに吸着テーブル４の摺動が停止する。
【００３８】
すると、この時点から被処理基板１８に対する高精度のアライメントが開始される。それは、カメラで撮像されて得られた被処理基板１８の一対のアライメントマーク２０の夫々の画像の位置データと、アライメントマーク２０の夫々の正規の位置に対応するように予め設定された位置データとの差を、Ｘ方向およびＹ方向に分けて算出する。
【００３９】
そして、算出されたＸ方向の差およびＹ方向の差の夫々に基づいて第1のアクチュエータ９ａ、９ｂと第２のアクチュエータ１２の３つのアクチュエータを個別に制御し、基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７の位置・方向を調整して被処理基板１８の位置を正規の位置に近づける。
【００４０】
ここで、第1のアクチュエータ９ａ、９ｂと第２のアクチュエータ１２の３つのアクチュエータの作動と基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂの移動方向および被処理基板の制御方向の関係を説明する（図３参照）。
【００４１】
第１のアクチュエータ９ａを作動させると第１のアクチェータ９ａのロッド１１ａはＹ方向に伸縮する。すると、ロッド１１ａは第１のアクチュエータ９ａが配設された第１のスライダ６ａ上にＹ方向に摺動自在に支持された第２のスライダ８ａに設けられた基板保持プレート用支持ピン１０ａに接続されており、第１のアクチュエータ９ａが作動してロッド１１ａが伸縮すると基板保持プレート用支持ピン１０ａはＹ方向に移動する。
【００４２】
同様に、第１のアクチュエータ９ｂを作動させると第１のアクチュエータ９ｂのロッド１１ｂはＹ方向に伸縮する。すると、ロッド１１ｂは第１のアクチュエータ９ｂが配設された第１のスライダ６ｂ上にＹ方向に摺動自在に支持された第２のスライダ８ｂに設けられた基板保持プレート用支持ピン１０ｂに接続されており、第１のアクチュエータ９ｂが作動してロッド１１ｂが伸縮すると基板保持プレート用支持ピン１０ｂはＹ方向に移動する。
【００４３】
従って、第１のアクチュエータ９ａ、９ｂを作動させることによって、基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７をＹ方向に移動したりθ方向に回転することが可能となる。その結果、基板保持プレート１７に載置された被処理基板１８のＹ方向およびθ方向の制御が可能となる。
【００４４】
また、第２のアクチュエータ１２を作動させると第２のアクチュエータ１２のロッド１１ｃはＸ方向に伸縮する。すると、ロッド１１ｃは吸着テーブル４に配設された第２のガイドレール５ａにＸ方向に摺動自在に支持された第１のスライダ６ａに接続されており、第２のアクチュエータ１２が作動してロッド１１ｃが伸縮すると第１のスライダ６ａはＸ方向に移動する。
【００４５】
このとき、第１のスライダ６ａには第１のアクチェータ９ａと共に基板保持プレート用支持ピン１０ａが設けられた第２のスライダ８ａが配設されており、よって第２のアクチュエータ１２ａが作動してロッド１１ｃが伸縮すると第１のスライダ６ａがＸ方向に移動することによって基板保持プレート用支持ピン１０ａがＸ方向に移動する。
【００４６】
すると、基板保持プレート用支持ピン１０ａが嵌挿された基板保持プレート１７が基板保持プレート用支持ピン１０ａのＸ方向の移動に伴って同様にＸ方向に移動する。このとき、基板保持プレート１７に嵌挿された他方の基板保持プレート用支持ピン１０ｂも基板保持プレート１７を介してＸ方向に移動する。
【００４７】
従って、第２のアクチュエータ１２を作動させることによって、基板保持プレート用支持ピン１０ａ、１０ｂを介して基板保持プレート１７をＸ方向に移動することが可能となる。その結果、基板保持プレート１７に載置された被処理基板１８のＸ方向の制御が可能となる。
【００４８】
このように、カメラで撮像されて得られたアライメントマーク２０の画像の位置データと、アライメントマーク２０の夫々の正規の位置に対応するように予め設定された位置データによって算出されたＸ方向の差およびＹ方向の差の夫々に基づいて第1のアクチュエータ９ａ、９ｂと第２のアクチュエータ１２の３つのアクチュエータを適宜制御することによって被処理基板１８の位置を正規の位置に近づけることができる。
【００４９】
以上説明したアライメント機構によって被処理基板１８の位置調整が行なわれた後、同様にカメラによるアライメントマーク２０の撮像、位置データの算出、被処理基板１８の位置修正を繰り返すことによって被処理基板１８を正規の位置に限りなく近づける。
【００５０】
そして、各アライメントマーク２０の位置と正規の位置の差が設定値の範囲内に達した時点でアライメント処理が完了する。
【００５１】
被処理基板１８のアライメントが完了すると、吸着テーブル４に設けられた吸着孔のうち、その被処理基板１８が保持された基板保持プレート１７に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引され、被処理基板１８が基板保持プレート１７の板状部材１５に取り付けられた基板載置用シート１６を介して吸着テーブル４に吸着固定される。
【００５２】
このような工程を経てアライメントが完了した被処理基板１８が吸着テーブル４上の正規の位置に固定されると、架台２上に配設された第１のガイドレール３に沿って吸着テーブル４が摺動され、次の基板保持プレート１７に保持された被処理基板１８がアライメントされる。
【００５３】
このような工程を経て順次被処理基板１８がアライメントされることによって、全ての被処理基板１８が吸着テーブル４上の正規の位置に固定されてアライメント作業が完了する。
【００５４】
上記アライメント工程の流れを、夫々被処理基板１８を保持した２枚の基板保持プレート１７と吸着テーブル４とアライメントマーク撮像用カメラ１９とによって示したものが図４である。
【００５５】
まず、（ａ）のように吸着テーブル４上に配設された２枚の基板保持プレート１７の夫々に被処理基板１８を保持する。そしてアライメント装置の始動操作を行なうと、（ｂ）のように吸着テーブル４が摺動して最初の被処理基板１８がカメラ１９の下でアライメントされる。最初の被処理基板１８のアライメントが完了すると、（ｃ）のように再度吸着テーブル４が摺動して次の被処理基板がカメラ１９の下でアライメントされる。すると、（ｄ）のように２枚の被処理基板１８が吸着テーブル４上の正規の位置に固定されてアライメント作業が完了する。
【００５６】
上述したような、複数の被処理基板を吸着テーブル上で正規の位置にアライメントするアライメント装置は、種々の処理装置に組み込むことによって有効に活用できる。例えば、被処理基板を切断するためのスクライブ装置に組み込んだ場合、吸着テーブル上の全ての被処理基板はアライメントが完了して正規の位置に固定されており、スクライブ装置のカッタと吸着テーブルとの相対的な直線運動によって複数の被処理基板に連続的にスクライブラインを形成することができる。
【００５７】
その結果、スクライブ速度が上がって作業効率が向上するため、製造コストの低減に繋がる。また、複数の被処理基板において均一なスクライブラインが形成できるため、スクライブ後に切断して小片化された被処理基板同士の品質のばらつきを抑制することが可能となる。なお、レーザ光によるスクライブ装置に組み込んだ場合も同様の効果を奏する。
【００５８】
このように、本発明のアライメント装置は、種々の処理装置に組み込むことによって処理等の高速化が図られるために作業効率が向上し、且つ処理の均一性が確保できるために品質のばらつきが低減できる等の優れた効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明のアライメント装置の斜視図である。
【図２】本発明のアライメント装置を構成する基板保持プレートの斜視図である。
【図３】本発明のアライメント装置に係わるアライメント機構の動きを示す模式図である。
【図４】本発明のアライメントの流れを示す概略図である。
【図５】従来例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００６０】
１ アライメント装置
２ 架台
３ 第1のガイドレール
４ 吸着テーブル
５ａ、５ｂ 第２のガイドレール
６ａ、６ｂ 第1のスライダ
７ａ、７ｂ 第３のガイドレール
８ａ、８ｂ 第２のスライダ
９ａ、９ｂ 第1のアクチュエータ
１０ａ、１０ｂ 基板保持プレート用支持ピン
１１ａ、１１ｂ、１１ｃ ロッド
１２ 第２のアクチュエータ
１３ａ、１３ｂ ピン嵌挿孔
１４ 窓孔
１５ 板状部材
１６ 基板載置用シート
１７ 基板保持プレート
１８ 被処理基板
１９ カメラ
２０ アライメントマーク
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント方法であって、
（１）テーブル上に載置された複数の基板保持プレートの夫々にアライメントマークが形成された被処理基板を保持するステップと、
（２）前記被処理基板に形成されたアライメントマークをアライメントマーク撮像用カメラで撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいてアライメント機構を制御することによって該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置を調整して前記位置データの差を縮小するステップと、
（３）前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで前記ステップ（２）を繰り返すステップと、
（４）前記テーブル上に載置された前記全ての基板保持プレートについて前記ステップ（２）および（３）を施すステップを有することを特徴とするアライメント方法。
【請求項２】
前記ステップ（１）において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とする請求項１に記載のアライメント方法。
【請求項３】
前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々について前記ステップ（３）終了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とする請求項２に記載のアライメント方法。
【請求項４】
前記テーブルは前記複数の基板保持プレートが載置された方向に直線的に移動可能であり、前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とする請求項１〜３に記載のアライメント方法。
【請求項５】
テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント装置であって、
直線的に移動可能なテーブルと、
前記テーブル上の該テーブルの移動方向に載置された、夫々被処理基板を保持する複数の基板保持プレートと、
前記夫々の基板保持プレートを挟んで前記テーブルの移動方向と略直角方向の前記テーブルの両側に配設された、前記基板保持プレートを連動して動かす複数の一対のアライメント機構と、
前記テーブルの上方に配置された、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークを撮像する一対のアライメントマーク撮像用カメラを備え、
前記夫々の基板保持プレートに保持された被処理基板について、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークの夫々を前記一対のアライメントマーク撮像用カメラの夫々で撮像し、撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいて前記一対のアライメント機構を制御して該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置が調整されて前記位置データの差が縮小され、前記位置データの縮小が前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで繰り返されることによってアライメントが完了することを特徴とするアライメント装置。
【請求項６】
前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とする請求項５に記載のアライメント装置。
【請求項７】
前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々についてアライメント完了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とする請求項６に記載のアライメント装置。
【請求項８】
前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とする請求項５〜７に記載のアライメント方法。
【請求項１】
テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント方法であって、
（１）テーブル上に載置された複数の基板保持プレートの夫々にアライメントマークが形成された被処理基板を保持するステップと、
（２）前記被処理基板に形成されたアライメントマークをアライメントマーク撮像用カメラで撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいてアライメント機構を制御することによって該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置を調整して前記位置データの差を縮小するステップと、
（３）前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで前記ステップ（２）を繰り返すステップと、
（４）前記テーブル上に載置された前記全ての基板保持プレートについて前記ステップ（２）および（３）を施すステップを有することを特徴とするアライメント方法。
【請求項２】
前記ステップ（１）において、前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とする請求項１に記載のアライメント方法。
【請求項３】
前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々について前記ステップ（３）終了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とする請求項２に記載のアライメント方法。
【請求項４】
前記テーブルは前記複数の基板保持プレートが載置された方向に直線的に移動可能であり、前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とする請求項１〜３に記載のアライメント方法。
【請求項５】
テーブル上に複数の被処理基板を夫々正規の位置に揃えるアライメント装置であって、
直線的に移動可能なテーブルと、
前記テーブル上の該テーブルの移動方向に載置された、夫々被処理基板を保持する複数の基板保持プレートと、
前記夫々の基板保持プレートを挟んで前記テーブルの移動方向と略直角方向の前記テーブルの両側に配設された、前記基板保持プレートを連動して動かす複数の一対のアライメント機構と、
前記テーブルの上方に配置された、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークを撮像する一対のアライメントマーク撮像用カメラを備え、
前記夫々の基板保持プレートに保持された被処理基板について、前記被処理基板に形成された一対のアライメントマークの夫々を前記一対のアライメントマーク撮像用カメラの夫々で撮像し、撮像した画像から得られた位置データと、予め正規の位置に対応するように設定された位置データとの差に基づいて前記一対のアライメント機構を制御して該アライメント機構に連動して動く前記基板保持プレートの位置が調整されて前記位置データの差が縮小され、前記位置データの縮小が前記位置データの差が予め設定された範囲内に至るまで繰り返されることによってアライメントが完了することを特徴とするアライメント装置。
【請求項６】
前記テーブルには多数の吸着孔が設けられていると共に、前記基板保持プレートは窓孔を有する板状部材の一方の面に前記窓孔を塞ぐように基板載置用シートが取り付けられており、前記被処理基板は前記板状部材の窓孔を通して前記基板載置用シート上に保持されることを特徴とする請求項５に記載のアライメント装置。
【請求項７】
前記テーブルに設けられた前記吸着孔は、載置される前記基板保持プレートの夫々に対応する領域毎に独立して真空吸引制御が可能な複数の吸着孔群からなっており、前記被処理基板の夫々についてアライメント完了後に該被処理基板に対応する位置の吸着孔群から空気が吸引されて前記被処理基板が前記基板保持プレートの板状部材に取り付けられた基板載置用シートを介して前記吸着テーブルに吸着固定されることを特徴とする請求項６に記載のアライメント装置。
【請求項８】
前記夫々の基板保持プレートは該基板保持プレートに保持された前記被処理基板がアライメントを施される位置まで前記テーブルの移動によって搬送されることを特徴とする請求項５〜７に記載のアライメント方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００８−８５２７５（Ｐ２００８−８５２７５Ａ）
【公開日】平成２０年４月１０日（２００８．４．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２６６７８２（Ｐ２００６−２６６７８２）
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（３９９０４１５６１）常陽工学株式会社 (36)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年４月１０日（２００８．４．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月２９日（２００６．９．２９）
【出願人】（３９９０４１５６１）常陽工学株式会社 (36)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]