【課題】光を散乱する粗い凹凸構造と、周期が可視光の波長以下である微細凹凸構造とからなるマルチ凹凸構造を陽極酸化によって表面に形成できるスタンパの製造方法及び該スタンパを用いた成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】平均結晶粒径が１００μｍ以下のアルミニウム基材１０を陽極酸化して、細孔１１を有し、厚さが３０μｍ以上の第１の酸化皮膜１２を形成する第１の酸化皮膜形成工程と、第１の酸化皮膜の全部を除去し、陽極酸化の細孔発生点１３を形成する酸化皮膜除去工程と、アルミニウム基材を陽極酸化して、細孔発生点に対応した細孔１４を有する第２の酸化皮膜１５を形成する第２の酸化皮膜形成工程と、第２の酸化皮膜の一部を除去し、細孔の孔径を拡大させる孔径拡大処理工程とを有し、粗い凹凸構造Ｓ１に、周期が可視光の波長以下である複数の細孔からなる微細凹凸構造Ｓ２を重ね合わせた構造を表面に形成するスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ステンレス鋼板からなる鋳型と分子中に少なくとも２個の(メタ)アクロイルオキシ基を有する単量体の硬化被膜との剥離性が良好で、かつ安全で、特定部の選択的処理が可能で、硝酸溶液の使用量も少ない板状成形物の製造方法を提供する。
【解決手段】１〜５０質量％濃度の硝酸溶液を含有する基材物質をステンレス鋼板に接触させて該硝酸溶液で処理する工程、前記処理後のステンレス鋼板からなる鋳型の表面に、分子中に少なくとも２個の(メタ)アクロイルオキシ基を有する単量体を含有する塗膜層を形成した後に塗膜層を硬化させて硬化被膜を形成する工程、硬化被膜の表面にビニル単量体層を形成した後にビニル単量体層を重合してビニル重合体層を形成する工程、及び鋳型の表面から硬化被膜が積層されたビニル重合体層を剥離する工程を有する板状成形物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた光の反射防止効果を有する成型品を効率良く簡便に提供することにある。更に、優れた光の反射防止効果や優れた光の透過性能を有する光の反射防止効果を有する成型品に要求される表面形状と物性を見出し、かかる特定の表面形状と物性を有する光の反射防止効果を有する成型品を提供すること。
【解決手段】表面に微細形状を有する型を用い、該型が表面に有する微細形状を熱可塑性樹脂に熱転写し成型してなる成型品であって、その表面に平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在していることを特徴とする成型品。 （もっと読む）

【課題】より微細なパターンを形成することができ、かつ安価に実施することができるナノインプリント用のスタンパの製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）基板の表面に金属薄膜を形成する工程と、（ｂ）金属薄膜の表面にレジスト層を形成する工程と、（ｃ）電子線リソグラフィー法を用いてレジスト層に凹凸パターンを形成する工程と、（ｄ）レジスト層の凹凸パターンにならって金属薄膜をエッチングして、パターン状の金属マスクを形成する工程と、（ｅ）金属マスクにならって、基板に凹凸パターンを形成する工程とを少なくとも有し、工程（ｄ）において金属薄膜をサイドエッチングすることによって、工程（ｅ）において基板中に形成される凸部の幅が、工程（ｃ）で形成される凹凸パターンの凹部の幅よりも縮小されることを特徴とする、ナノインプリント用のスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下を防止でき、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムの製造方法、ならびに、当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】２種以上のセグメントからなるブロック共重合体をモデルとして、計算機シミュレーションによりブロック共重合体のミクロ相分離構造を計算する工程と、該ミクロ相分離構造に基づいて、エネルギースペクトルが空間周波数０．０２５〜０．１２５μｍ^-1の範囲内において極大値を示すミクロ相分離パターンを作成する工程と、該ミクロ相分離パターンを用いて、透明基材上に凹凸表面を形成する工程とを含む防眩フィルムの製造方法、および当該製造方法において好適に用いられる金属金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】描画時間を短縮することが可能な描画方法を提供する。
【解決手段】第１照射条件を用いて、第１エネルギから計算される第１照射量で基板上のレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを描画するステップと、第１照射条件より高速に同一面積を描画できる第２照射条件を用いて、レジスト膜の現像による残膜率が変化を開始するエネルギより小さな第２エネルギから計算される第２照射量でレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを含む第２描画データのパターンを描画し、レジスト膜の第１描画データのパターン部を選択的に溶解可能とするステップとを含む。第１エネルギと第２エネルギの和は、残膜率の変化が完了するエネルギよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】 流動性樹脂の樹脂圧に起因する基板の変形によって発生する、チップ装着面に装着されたチップの割れ、チップ装着面からのチップのはく離等の問題を抑制する。
【解決手段】 下型１７と上型１２とからなる電子部品の樹脂封止用の成形型において、下型１７の型面に載置された基板１が有する複数の外部電極９に平面的に重ならないようにしてその型面に凸部１８を設ける。凸部１８は複数の外部電極９の厚さと実質的に等しい厚さを有する。これにより、下型１７と上型１２とが型締めした状態において流動性樹脂１４の樹脂圧が基板１に加えられることに起因して発生する、基板１がチップ非装着面８の側に凸になるような変形を、凸部１８が基板１を支えることによって防止する。 （もっと読む）

【課題】精度よく位置決めされて配列された多眼フレネルレンズから構成されるフレネルレンズシートを提供すること。
【解決手段】 各フレネルレンズ１０は多角形からなり、互いのフレネルレンズが隣接して配列されることによりフレネルレンズ群１００として配列される。少なくとも一つの領域におけるピッチＰ１が３００μｍ以下である細ピッチ領域１（Ｒ）を含み、細ピッチ領域１（Ｒ１）の半径内側に隣接する領域を領域２（Ｒ２）と、半径外側に隣接する領域を領域３（Ｒ３）とピッチがそれぞれ２０％以上異なっている。また、細ピッチ領域１のフレネルレンズを構成する円弧または円周の少なくとも一つは、多角形を構成する少なくとも１辺に内接するか又は多角形を構成する少なくとも一辺を横切っている（Ｔ）。 （もっと読む）

【課題】シリコンカーバイドからなる基材の表面に、良好な微細加工を施す加工方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面加工方法は、シリコンカーバイドからなる基材１に反応性イオンエッチングを行う表面加工方法であって、Ｎｉを含む元素群から少なくとも１つ選択されるエッチング抑制元素と、Ｗを含む元素群から少なくとも１つ選択されるエッチング促進元素とを含む膜３，４をエッチングマスクとするものである。そして、エッチング抑制元素又はエッチング促進元素の含有量を調整することにより、基材１に形成される凹凸形状の側壁のテーパ角を制御する。 （もっと読む）

【課題】電子線でレジストにパターンを描画する際に、基材の表面位置の検出を精度良く行なうためのナノインプリントモールド用基材の処理方法と、高精度の凹凸パターンを備えたナノインプリントモールドを製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】厚さが４ｍｍ以下の透明な基材の裏面側あるいは内部に、基材の表面側から入射した光が基材の裏面で反射して表面側に出射するのを防止する反射防止部を形成し、基材の表面上にレジスト膜を形成して電子線描画装置内のステージ上に基材裏面がステージと対向するように配置し、基材に対して高さ検出光を照射し基材表面で反射された反射光を検出して基材の高さを検出し、検出した基材の表面位置に適するように電子線のフォーカス位置を制御しながらレジスト膜に対して電子線を照射して所望のパターン潜像を形成し、このレジスト膜を現像して得たレジストパターンをマスクとして基材に凹凸パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】転写面に生じるマクロな凹凸や色ムラを視認しにくくすることができるスタンパを得ることができるアルミニウム基材を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有するスタンパ20の製造に用いられる、微細凹凸構造が形成される被加工面を有するアルミニウム基材10であって、被加工面には、該被加工面に露出した複数の金属間化合物が存在し、被加工面に露出した金属間化合物の合計の面積が、被加工面の面積（１００％）に対して、０．１４％超０．７％以下であり、被加工面の算術平均粗さＲａが、０．０５μｍ以下であるアルミニウム基材10を用いる。 （もっと読む）

【課題】光の散乱の原因となるマクロな凸部、結晶粒に由来するマクロな凹凸や色ムラを転写面に生じさせにくい、表面に微細凹凸構造を有するスタンパを得ることができるアルミニウム基材、スタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】微細凹凸構造を表面に有するスタンパ20の製造に用いられる、微細凹凸構造が形成される被加工面を有するアルミニウム基材10であって、被加工面に露出した金属間化合物の合計の面積が、被加工面の面積（１００％）に対して、０．１４％以下であり、被加工面における平均結晶粒径が、１ｍｍ以下であり、被加工面の算術平均粗さＲａが、０．０５μｍ以下であるアルミニウム基材10を用いる。 （もっと読む）

【課題】 成形型の成形面に微細な凹凸加工を大面積で容易に施すことができる光学部材成形用型を得ることができる光学部材成形用型の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明の光学部材成形用型の製造方法は、重合性モノマーを吸収可能なモノマー吸収層の少なくとも一方の面に、少なくとも重合性モノマー及び粒子から形成される粒子含有重合性組成物層を設けてから、重合に付して、粒子がモノマー吸収層と粒子含有重合性組成物層との界面とは反対側の界面又は該界面近傍に偏って分布している構造を有するポリマー部材を得る工程（ｉ）、及び、ポリマー部材のモノマー吸収層と粒子含有重合性組成物層との界面とは反対側の界面又は該界面近傍の粒子をマスクとして、粒子が存在しない部分のエッチングを行い、凹部を形成する工程（ｉｉ）を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サイズの均一なピラーが微細な所定の間隔で配列したピラーアレー構造体を有する生体関連分子等の分離用デバイスを、高スループットにて効率良く製造することが可能な方法、およびその方法により製造された分離用デバイス。
【解決手段】アルミニウム材の陽極酸化により形成される表面にホールアレー構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナ２２、またはそれを鋳型として作製した複製モールドを、繰り返し使用可能なモールドとして用いてナノインプリント法によりピラーアレー構造体を作製するとともに、作製されたピラーアレー構造体を所定形態の流路内に配置することを特徴とする、物質の分離を行うための分離用デバイスの製造方法、およびその方法により製造された分離用デバイス３２。 （もっと読む）

【課題】三次元のパターンを持つことができる密集する構造を形成する。
【解決手段】本発明は、三次元のナノインプリント装置であって、少なくとも、ａ）表面（Ｘ，Ｙ）を持つ基板（２）と、ｂ）この基板上に、２個ずつの平行な複数のナノトレンチ（６）であって、それぞれのナノトレンチが側壁によって規定され、そして基板に垂直な方向に、側壁の最上部に対して測られたそれぞれ深さｈ１とｈ２＞ｈ１の、少なくとも１つの第１および１つの第２のレベルを有する複数のナノトレンチと、を有し、ｃ）ナノトレンチの最後の深さレベル（ｈ１）における底は第１のタイプの材料に存在し、側壁は第２のタイプの材料に存在し、第１のタイプの材料は、ナノトレンチの壁を形成する第２のタイプの材料に対して選択的にエッチングされることが可能であることを特徴とする装置に関する。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときに、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現する防眩フィルムの製造方法、ならびに、防眩フィルムを得るための金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】ドット径の異なる複数種類のドットを多数ランダムに配置したパターンを用いた、透明支持体上に微細凹凸表面が形成されている防眩フィルムの製造方法であって、平均のドット径が６〜３０μｍであり、ドット径の変動係数が０．１〜０．５であり、かつ、パターンのエネルギースペクトルが０μｍ^-1より大きく０．０４μｍ^-1以下に極大値を持たないことを特徴とする防眩フィルムの製造方法、および防眩フィルム作製のための金型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高出力で大容量な固体二次電池及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の固体二次電池１は、一面上に複数の縦穴１２Ｈが形成された第１活物質層１２と、第１活物質層１２に形成された複数の縦穴１２Ｈの底面及び内壁面に接して形成された固体電解質層１３と、固体電解質層１３に接して形成された第２活物質層１４と、を備え、第１活物質層１２及び第２活物質層１４のいずれか一方は固体二次電池の正極側の活物質として機能し、いずれか他方は負極側の活物質として機能し、第１活物質層１２と第２活物質層１４とは接することなく、第１活物質層１２と第２活物質層１４との間に固体電解質層１３を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示しながら、白ちゃけによる視認性の低下が防止され、高精細の画像表示装置の表面に配置したときに、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現する防眩フィルムおよびその製造方法、ならびに、防眩フィルムを得るための金属金型の製造方法を提供する。
【解決手段】透明支持体上に、微細な凹凸表面を有する防眩層が形成されてなる防眩フィルムであって、前記微細凹凸表面の標高の空間周波数０．０１μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₁²と、空間周波数０．０４μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＨ₂²の比Ｈ₁²／Ｈ₂²が３〜１５の範囲内である防眩フィルム、およびその製造方法、ならびに金型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポジタイプのインプリントを作るために使われるリソグラフィ技術を提供する。
【解決手段】
本発明は三次元のインプリントモールドを形成する装置であって、少なくとも、・基板であって、該基板の平面に垂直な少なくとも１つの部分を持つ少なくとも１つの交互層を有する、互いに対して選択的にエッチングされうる第１のタイプの材料と第２のタイプの材料の、基板と、・表面形態であって、少なくとも、ａ）前記形態のいずれかの側に配置された基板の表面に対する第１のレベルにその最上部が存在するような第１のパターンであって、これらの第１のパターンが第１のタイプの材料にあるもの、ｂ）および、基板の前記表面に対して少なくとも第２のレベルを持ち、第１のレベルとは異なり、かつそれより低い第２のパターンであって、これらの第２のパターンが第２のタイプの材料にあるもの、を有する表面形態と、を有する装置に関する。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】３次元構造パターンを形成するパターン形成方法であって、基板にハードマスク層を形成する工程と、前記ハードマスク層をエッチングマスクとして、前記基板に第１の異方性エッチングを行う工程と、既に段差を備えた前記第１の異方性エッチングによって段差を備えた基板に第２のハードマスク層を形成する工程と、前記第２のハードマスク層をエッチングマスクとして、前記基板に第２の異方性エッチングを行う工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）