【課題】再生ガラスモールドの表面にそのモールドに関する情報を容易に付与する。
【解決手段】本発明のモールド再生方法は、形状評価工程と、形状補正加工工程と、再マーク処理工程とを有する。形状評価工程では、使用後の成形型から回収されたガラスモールドの形状を評価する。形状補正加工工程では、形状評価工程で形状の補正が必要と判断されたガラスモールドを研磨して再生ガラスモールドを生成する。再マーク処理工程は、貫通孔形成工程と、貼付工程と、ブラスト処理工程と、剥離工程とを含む。貫通孔形成工程では、保護シートに再生ガラスモールドに関する情報を示すマークの形状の貫通孔を形成し、貼付工程では、貫通孔が形成された保護シートを再生ガラスモールドの表面に貼り付ける。ブラスト処理工程では、再生ガラスモールドの保護シートが貼り付けられた面にブラスト処理を施し、剥離工程では、再生ガラスモールドから保護シートを剥離する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反射防止層における微細凹凸パターンの凸部先端の割れ等に対する機械強度、スティッキング耐性および型抜き性に優れた反射防止フィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、光透過性基板と、上記光透過性基板上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された凹凸形状を有する反射防止層とを有する反射防止フィルムであって、上記反射防止層が、上記光透過性基板上に形成された基底部と、上記基底部上に形成され、上記凹凸形状からなる微細凹凸とを有し、かつ上記微細凹凸における凸部が、上記光透過性基板に対してテーパー状に立ち上がる錐台形状の本体部と、上記本体部の頂面を覆うように形成された曲面構造を有する先端部とから構成されてなることを特徴とする反射防止フィルムを提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、基板１１に酸化膜１２を形成する第１の工程と、第１の工程後に、感光性樹脂１４を基板１１に形成し、感光性樹脂１４は酸化膜１２を被覆する第２の工程と、感光性樹脂１４をマスクにして基板１１を選択的に除去して、基板１１に第１凹部パターン１５を形成する第３の工程と、感光性樹脂を除去した後、酸化膜１２をマスクにして基板１１を選択的に除去して、基板１１に第２凹部パターン１６を形成する第４の工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多段構造の寸法精度を向上したインプリントモールドの製造方法およびインプリントモールドを提供することを課題とする。
【解決手段】３次元の多段構造パターンを有するインプリントモールドの製造方法において、第１基板１１を選択的に除去して第１凹部パターン１４を形成する工程と、この工程で第１凹部パターン１４が形成された第１基板１１に、第２基板１５を貼り合わせる工程と、第２基板１５を選択的に除去して第２凹部パターン１６を形成する工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】継ぎ目のない単粒子膜がロールを被覆した単粒子膜被覆ロールを簡便に製造できる単粒子膜被覆ロールの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の単粒子膜被覆ロールの製造方法は、ロール１１を水中に浸漬させる浸漬工程と、水面Ａに単粒子膜１２を形成する単粒子膜形成工程と、ロール１１を、その中心軸が鉛直方向に向いた状態で水面Ａ上に引き上げて、単粒子膜１２をロール１１の周面１１ａに移行させる移行工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】転写パターンの不良を低減するテンプレートの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態のテンプレートの製造方法は、主面１１に凹凸を有するパターン１３０が形成され、パターン１３０をウエハ４上に形成されたレジスト材５に接触させてパターン１３０をレジスト材５に転写するインプリント処理に用いるテンプレート１であって、テンプレート１の少なくとも凹部１３２の底部１３２ａに荷電粒子を打ち込む工程を含む。 （もっと読む）

【課題】外観の秀麗なデザインを具現すると共に反射防止機能を持つ反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法、及び、反射防止用ディスプレーウインドウパネルを提供する。
【解決手段】ガラスまたはシリコーンウエハー基板上に光を照射して微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階（Ｓ１０）と、マスターに電解メッキ工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレート製作段階（Ｓ２０）と、ニッケルコアプレートを下部金型コアに附着させ微細ナノパターンが形成された一面が露出する金型の準備段階（Ｓ３０）と、上部金型と下部金型との間に溶融樹脂を入れ込み急加熱及び急冷させて微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルを成型する射出成型段階（Ｓ５０）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されるアライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。
【解決手段】台座付き基板を作製する方法として、アライメントマーク５が形成された台座形成領域１ａと台座非形成領域１ｂを覆う状態でネガ型のレジスト層６を形成する第１工程と、均し基板１０の平坦面１０ａをレジスト層６の表面に密着させて均す第２工程と、均し基板１０側から露光光を照射してレジスト層６を露光する第３工程と、露光後のレジスト層６を現像して得られるレジストパターンをマスクに用いて基板１をエッチングすることにより台座を形成する第４工程とを有する。そして、第２工程でレジスト層６を均すことにより、台座形成領域１ａ上のレジスト層６と台座非形成領域１ｂ上のレジスト層６との間に、不溶化するのに必要な露光量の差を生じさせ、第４工程にて台座形成領域１ａにレジストパターンが形成されるように、第３工程にて露光光の露光条件を設定する。 （もっと読む）

【課題】親テンプレートからインプリント法により個別識別マークを備えたテンプレートを容易に作製する。
【解決手段】第１のテンプレートからインプリント法により第２のテンプレートを作製するテンプレート作製方法であって、第１のテンプレート上に形成された転写を希望する凹凸パターンに対応する被処理基板上のパターン形成領域に第１のレジストを塗布し、第１のテンプレート上のパターンの形成されていない領域に対応する被処理基板上のマーク形成領域に、所望するパターンとなるように第２のレジストを選択的に塗布する。レジストが塗布された被処理基板上に第１のテンプレートを密着させて、第１のテンプレートの凹部に第１のレジストを浸透させる。第１及び第２のレジストを硬化させ、硬化されたレジストをマスクに用いて被処理基板を加工する。 （もっと読む）

【課題】ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。
【解決手段】実施形態のテンプレート１０は、第１凹凸パターンに硬化剤を充填して硬化させることにより第１凹凸パターンを硬化剤に転写して硬化剤からなる第２凹凸パターンを被加工層上に形成するインプリントに用いるテンプレートである。このテンプレート１０は、基板の一面側に第１凹凸パターンを備える。第１凹凸パターンは、凹部の底面の高さ位置が略同一であり、凹部の底面からの高さが異なる２種類以上の凸部１１ｐａ、１１ｐｂを有する。 （もっと読む）

【課題】基板表面にナノオーダーの微細な凹凸面の反射防止構造を有する光学素子用成形型、及び同反射防止構造を有する光学素子を実現する。
【解決手段】基板２上に１層以上のエッチング転写層３を形成し、このエッチング転写層３上に半球状の微粒子生成用の薄膜４を形成し、熱反応、光反応、ガス反応のいずれか、またはそれらの複合反応を用いて、薄膜４に、その物質の凝集作用、分解作用、または核形成作用を生じさせて、半球状の島状微粒子５を複数、形成し、複数の島状微粒子５を保護マスクとしてエッチング転写層３及び前記基板２を反応ガスによって順次エッチングして、基板２の微細な表面に錐形状のパターンを形成して、基板２表面に微細な凹凸面（反射防止構造型面）１’を有する光学素子用成形型１を製造する。 （もっと読む）

【課題】非対称の形状をしたレンズを有するマイクロレンズシートの製造に用いられる成形型を製造する方法を提供する。
【解決手段】
母材５１にレジストを塗布して、マスク６５を形成する（ステップＳ２）。マスク６５に形成される開口６６の形状を設定する形状設定工程が行われる（ステップＳ３）。レーザが、設定された形状に基づいてマスク６５に照射され、複数の開口６６がマスク６５に形成される（ステップＳ４，Ｓ５）。ステップＳ３において設定される開口６６は、仮想分割線６６ｙにより分割される第１領域６６Ｒ及び第２領域６６Ｌを有する。仮想分割線６６ｙは、開口６６を線対称に分割する仮想二等分線６６ｘに直交する。第１領域６６Ｒの面積は、第２領域６６Ｌの面積よりも小さい。第１領域６６Ｒにおけるエッチング速度が、第２領域６６Ｌにおけるエッチング速度よりも小さくなるため、左右非対称の凹部６２が、銅めっき層６４に形成される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて、実用的な生産性で、２００ｎｍ前後の円形パターンが規則的に配列したレジストパターンを形成し、前記レジストパターンからナノ凹凸構造体を形成することができるナノインプリントモールドの製造方法、光学素子の製造方法、およびレジストパターンの形成方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 電子線の有するビームぼけの現象を積極的に利用することにより、直径１００ｎｍ〜２５０ｎｍの円形パターンを、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて１ショットの矩形ビームで描画し、さらに、この描画方法により形成したレジストパターンをマスクに用いて所望の３次元構造を有するナノインプリントモールドを製造することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント技術に用いるモールドを高い精度で製造する方法と、このモールドの製造を簡便に行うことができるドライエッチング用のトレーとその製造方法、および、このトレーを用いたドライエッチング方法を提供する。
【解決手段】ドライエッチング用のトレー１を、基体２と、この基体の一つの面２ａに位置する被エッチング体嵌合用の凹部３と、この凹部３の周囲の面２ａである開口面積率調整面４と、この開口面積率調整面４を０〜１００％の範囲で被覆する開口面積率調整層５と、を備えたものとし、基体２と開口面積率調整層５は、一方をドライエッチング可能な材質とし、他方をドライエッチングされない材質とする。 （もっと読む）

【課題】光学シートの製造時に生じるムラを解消し、輝度向上を図る。
【解決手段】型基材２１の表面に形成した表面層２２上に耐エッチング層２４を形成し、この型基材２１を精密切削機にセットし、耐エッチング層２４に、表面層２２に達する複数の微細な開口部２５を耐エッチング層２４の表面に沿い切削加工により形成する。その後、各開口部２５を通して表面層２２をエッチングして各開口部２５の大きさに対応する径と深さを有する凹部２６を形成した後、耐エッチング層２４を除去し凹部２６を有する金型２０を作製する。この金型２０の凹部２６と逆の形状を光透過性基材に転写することにより凸状の単位レンズを有する光学シートを製造する。 （もっと読む）

【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を軽減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板の製造方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１における所定の領域を第２の主表面ＳＦ２の方向に研削して、凹部ＳＣＶを形成する研削工程と、凹部ＳＣＶの底面ｂｆ１に対し、第２の主表面ＳＦ２の方向に所定量のエッチングをさらに行い、所定深さの凹部ＣＶを形成するエッチング工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】凹レンズ面への面転写性を向上させ、成形型自体の長寿命化を図ることのできるウェハレンズ用成形型及びウェハレンズ用成形型の製造方法を提供する。
【解決手段】レンズ用基板（ガラス基板１２）の少なくとも一方の面に、複数の光硬化性樹脂製の凹レンズ部２２aが形成されたウェハレンズ５１を成形するためのウェハレンズ用成形型（サブサブマスター２３０）であって、一方の面に複数の凸部２４０が形成された成形型用基板２３４と、記成形型用基板２３４の前記一方の面で、複数の凸部２４０を覆うようにして形成されて、凹レンズ部２２aの光学面形状に対応したネガ形状の樹脂成形部２３２と、を備え、成形型用基板２３４の厚さ１ｍｍのときの波長３６５ｎｍの光に対する光透過率が９０％以上で、かつ、樹脂成形部２３２の厚さ１ｍｍのときの波長３６５ｎｍの光に対する光透過率が２０〜８０％である。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク記録媒体の磁気情報の記録および再生の精度が低下しないスタンパまたは磁気転写マスターの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）表面にレジスト膜を有する円環状基板を提供する工程と、（ｂ）電子線リソグラフィー法を用いて前記レジスト膜中にダミーパターンを有する凹凸パターンを形成する工程と、（ｃ）前記レジスト膜を現像して、前記描画パターンとダミーパターンを有するレジスト原盤を形成する工程と、（ｄ）前記レジスト原盤に電鋳を行い、ダミーパターンを有する電鋳マスターを形成する工程と、（ｅ）前記電鋳マスターからダミーパターンを除去して、円環状磁気ディスク記録媒体製造用のインプリントスタンパを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面に離型層が形成された母材の欠損部分を補修することができるテンプレート補修方法、パターン形成方法及びテンプレート補修装置を提供する。
【解決手段】実施の形態のテンプレート補修方法は、母材と前記母材のパターン面に形成された第１の離型層とを備えたテンプレートの補修方法であって、前記パターン面に前記母材に対して親和性を有し、かつ、前記離型層に対して非親和性を有する材料を供給する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、正確なドットパターンを有したインプリントモールドの製造方法、およびそれを利用した、正確なドットパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、第１の壁面および第２の壁面を有するガイドであって、少なくとも一方の前記壁面と前記基板の露出した表面とによって規定される角度が１３１°以下であるガイドを複数形成し、前記第１の壁面、前記第２の壁面および前記基板表面によって規定されるガイド溝領域に、スフェアを形成して相分離する自己組織化材料を塗布し、前記自己組織化材料を自己組織化させてドットパターンを形成し、前記ドットパターンをマスクとして、前記基板をエッチングして前記ドットパターンを転写し、前記ドットパターンが転写された前記基板を型としてインプリントモールドを形成することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 （もっと読む）