【課題】離型剤を用いない場合であっても離型性が良好なモールド、その製造方法、表面に付着した樹脂を除去するとともに離型性を回復させるモールドの処理方法、および表面に欠陥の少ない物品を生産性よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】フッ化アルミニウムを含む表層を有するモールド；アルミニウム基材１０の表面に形成された酸化皮膜１４を有するモールド１８に、フッ素系ガスを含む処理ガスを用いたドライエッチング処理を施す工程を有するモールドの製造方法；酸化皮膜１４の表面に樹脂が付着したモールド１８に、フッ素系ガスを含む処理ガスを用いたドライエッチング処理を施して、樹脂を除去するモールドの処理方法；本発明のモールドを用い、該モールドの表面形状に対応した表面形状を有する物品を得る物品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】反りのある基板に容易に凹凸構造を形成可能な治具を提供する。
【解決手段】被加工物７０の上面に被覆された液状樹脂７６に凹凸構造６４を形成するための治具６２であって、中央に形成された円形凹部と、該円形凹部を囲繞する環状凸部５８と、該円形凹部の背面上に形成された凹凸構造６４とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高いパターン精度で微細パターンを形成し、モールドの作製時間を大幅に短縮化するモールド製造用マスクブランクス、モールド製造用レジスト付きマスクブランクス及びモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】元型モールド３０の表面に設けられている微細パターンをインプリントにより転写してサブマスターモールド２０を製造する際に用いられるマスクブランクスであって、化学式ＣｒＯ_ｘＮ_ｙＣ_ｚ（ただしｘ＞０）であるクロム化合物層を含むハードマスク層を基板１上に有する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された台座付きの基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。
【解決手段】本発明の基板作製方法は、光透過性の基板１の第１の主面上に、この基板１に形成すべきアライメントマーク５と台座の位置に応じたハードマスク２ａを形成する工程と、そのハードマスク２ａを用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面にアライメントマーク５を形成する工程と、基板１の第１の主面上にハードマスク２ａを覆う状態でレジスト層６を形成した後、このレジスト層６に基板１の第２の主面側から露光用の光を照射することにより、レジスト層６を露光する工程と、そのレジスト層６の露光部分を現像により除去して得られるレジストパターン６ａをマスクに用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面側に台座を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】表面に微細パターンが形成された熱可塑性樹脂材を熱インプリント法によって効率よく作製できる技術を提供する。
【解決手段】ガラス転移点以上の温度に加温した熱可塑性樹脂材の表面に微細な凹凸パターン形成を行うための耐熱性と強度を併せ持つモールドであって、アルミニウム材の陽極酸化によって形成される表面に規則的なホールアレー構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナ層を有することを特徴とする熱インプリント用モールド、およびその製造方法、並びにそのモールドを用いた樹脂材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。
【解決手段】パターン１７の角隅部にマイクロトレンチ１８を有するインプリントモールド１６を用いて、壁状の突起２６（微小突起）を有するパターン転写体２０を形成し、該壁状の突起２６を有するパターン転写体２０をエッチングマスクとして基材２１をエッチングすることによって、基材２１に微細なパターン２７を好適に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性を示しながら、良好なコントラストを発現し、「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生による視認性の低下を防止しうる防眩フィルムを製造するための金型を製造する。
【解決手段】防眩フィルム製造用金型の製造方法であって、第１めっき工程と、研磨工程と、感光性樹脂膜形成工程と、露光工程と、現像工程と、第１エッチング工程と、感光性樹脂膜剥離工程と、第２めっき工程とを含み、前記感光性樹脂膜形成工程において、感光性樹脂膜の膜厚の変動係数が１０％未満になるように感光性樹脂を塗布して感光性樹脂膜が形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】正面方向の輝度の低下を抑制しつつ光の拡散機能の向上を図ることができる拡散シートおよびこれを備えたバックライト、液晶表示装置ならびに拡散シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る拡散シート１は、基材１１の主面１１ａ上に凸形状の複数の構造体１２と平坦部１３とを有する。構造体１２は基材１１を透過する光の拡散機能および集光機能を有する。構造体１２は主面１１ａ上にランダムに形成されることで、モアレの発生を抑制する。また、平坦部１３は、０．６μｍ以下の表面粗度（Ｒａ）を有し、光の拡散機能を有する。したがって、上記拡散シート１によれば、正面方向の輝度の低下を抑制しつつ、光の拡散機能の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】反応性イオンエッチング法を用いたマスターモールドの製造において、広幅凹部および狭幅凹部を含む凹凸パターンの凹部の均一性の高いマスターモールドを製造することを可能とする。
【解決手段】反応性イオンエッチング法によって、幅が広い凹部Ｒ１および狭い凹部Ｒ２を含む凹凸パターンを表面に有するマスターモールド１０を製造する製造方法において、被加工層３と下地層２を備える原板１の下地層２をエッチストップ層として被加工層３に対しエッチングを行うメインエッチング工程と、メインエッチング工程を経て凹部（Ｒ１およびＲ２）の均一性が低い原板１に対し、凹部（Ｒ１およびＲ２）の均一性を向上させるように、堆積物を生成しかつ下地層２をエッチングすることが可能な第１ガスを含むエッチングガスを用い、１５Ｗ以下のバイアス電力の下でエッチングを行う追加エッチング工程とを実施する。 （もっと読む）

【課題】スタンパ製造時における微細パターンの局所的な変形を防止することであって、最終的に得られる成形品における微細パターンを当初の狙い通りに形成すること。
【解決手段】（ｉ）スタンパの微細パターンＡの反転形状に相当する微細パターンＢが形成されたレジストマスタを用意する工程、および、（ｉｉ）レジストマスタを母型とした電鋳を実施することによって、微細パターンＡが形成されたスタンパを得る工程を含んで成り、工程（ｉ）で用意されるレジストマスタの微細パターン形成面においては、微細パターンＢを取り囲むような包囲線に沿って凹部パターンを形成し、工程（ｉｉ）においては、電鋳に際して生じ得る応力を凹部パターンにより緩和することを特徴とするスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高精度のレジストパターンを得るとともに、レジストへの電子線の描画時間を短縮する。
【解決手段】ナノインプリントモールドの製造方法は、基材１０１上に、凹凸パターンが形成されるパターン領域１０１Ａと非パターン領域１０１Ｂとを設定し、少なくとも前記非パターン領域１０１Ｂ上にポジ型レジスト１０２からなるポジ型レジスト層を形成して、該ポジ型レジスト層に露光、現像を行いポジ型レジストパターン１０３を形成した後、前記パターン領域１０１Ａ上にネガ型レジスト１０４からなるネガ型レジスト層を形成して、該ネガ型レジスト層に電子線により露光、現像を行いネガ型レジストパターン１０５を形成し、前記ネガ型レジストパターン１０５及び前記ポジ型レジストパターン１０３をエッチングマスクとして、前記基材をエッチングして前記凹凸パターン１０８を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】結晶状態や表面形状が不均一である金属基体を用いても、陽極酸化法によって均一な微細孔が形成された反射防止フィルム製造用金型を作製することが可能な、反射防止フィルム製造用金型の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】アルミニウムを含有し、表面に結晶状態あるいは表面形状が不均一となっている不均一層を有する金属基体を用い、陽極酸化によって上記金属基体の表面に微細孔を形成する微細孔形成工程を有する、反射防止フィルム製造用金型の作製方法であって、上記微細孔形成工程が上記アルミナ膜の一部をエッチングするものであることを特徴とする、反射防止フィルム製造用金型の作製方法を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにて有機材料層に離間して転写される凹部の深さを異ならせる。
【解決手段】互いに高さの異なる凸部Ｔ１、Ｔ２がメサ領域に設けられたテンプレート１をマスク材３に押し当てることにより、互いに深さの異なる凹部Ｈ１、Ｈ２をマスク材３に形成し、互いに深さの異なる凹部Ｈ１、Ｈ２が形成されたマスク材３をマスクとして基板２のエッチングを行うことで、開口部Ｋ１、Ｋ２を形成する。 （もっと読む）

【課題】比較的簡易に、緻密な微細パターンを有するサブマスターモールドを提供する。
【解決手段】微細パターンに対応する溝が設けられたインプリント用の元型モールド３０からサブマスターモールド２０を製造する方法において、前記サブマスターモールド用の基板１上にはハードマスク層が形成され、前記ハードマスク層上に形成され且つ元型モールドの微細パターンが転写されたレジスト層４に対して、酸素ガスを用いたドライエッチングを行う微細パターン寸法変動工程を有する。 （もっと読む）

【課題】２つの連続するチップ間の距離を最小化する、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドを設計する。
【解決手段】本発明は、所定波長によって支援されるナノインプリントリソグラフィー用のモールドに関する。このモールドは、第１材料製の層を備え、この層は、第１面上に第２の剛体材料製の層を含み、第１面と反対側の面上に第３の剛体材料製の層を含み、第２の剛体材料製の層は、層内にマイクロメートルオーダー又はナノメートルオーダーのパターンを有するｎ個の構造ゾーン（ｎ≧１）が形成され、第３の剛体材料製の層は、層内に、ｎ個の構造ゾーンに対向するｎ個のくぼみが形成され、ｎ個のくぼみは第４材料で充填され、これによりｎ個の部分領域が形成され、所定波長λ_detにおける第３材料の層の透過率は、ｎ個の部分領域いずれの透過率よりも低く、第１、第２、及び第３材料の層の所定波長λ_detにおける透過率は、これらの層を通る所定波長λ_detの光の透過率が、ｎ個の部分領域の任意の１つ、第１材料製の層、及び第２材料製の層を通る光の透過率よりも小さいような透過率である。
本発明は、こうしたモールドを製造する２つの方法にも関する。 （もっと読む）

高コントラスト材料の位置合わせマークを有するテンプレートを形成するためのシステム及び方法を説明する。高コントラスト材料は、位置合わせマークの凹部内に位置することができる。 （もっと読む）

【課題】インプリントモールドの離型（剥離）を容易にするための凹部を精度良く形成でき、且つそのような加工の工程負荷が小さくて済み、さらに凹部を形成することによるモールドの強度や剛性の低下を抑えたインプリントモールドの作製に用いるマスクブランク用基板を提供する。
【解決手段】基板と該基板の表側主表面上に形成された薄膜とを有してなり、前記薄膜及び基板をエッチング加工してインプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いる基板である。この基板１は、所定の形状の孔２を穿設してなる基材１ａを含む少なくとも２枚の基材を接合することにより基板の裏側主表面にその少なくとも外周部を除く領域に上記孔２からなる凹部３を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】反射防止構造体を有するマスター型を用いて、レンズアレイ基材の光学面転写予定面のレジスト層に反射防止構造体を転写し、均一な反射防止構造体を成形可能として高精度なレンズアレイを得る。
【解決手段】光学面に反射防止構造体１４を有する複数のレンズを共通の基材に二次元的に配置したレンズアレイの製造方法であって、光学面形成面１２が形成されたマスター型１０を準備する工程（Ｓ１）と、マスター型１０の光学面形成面１２に反射防止構造体１４を形成する工程（Ｓ２）と、光学面転写予定面２４を有するレンズアレイ基材２３を準備する工程（Ｓ３）と、レンズアレイ基材２３の光学面転写予定面２４にマスター型１０を用いて反射防止構造体１４を転写する工程（Ｓ７）とを含む。 （もっと読む）

【課題】優れた光学的機能を発揮し得るとともに安定して製造され得る光学シートを提供する。
【解決手段】光学シート４０は、シート状の本体部４５と、本体部の一方の面４６上に配列された複数の第１単位形状要素５０と、本体部の一方の面上に配列され、本体部のシート面上の一方向と平行に延びる複数の第２単位形状要素５５と、一つの第１単位形状要素および当該一つの第１単位形状要素に前記一方向から接続する一つの第２単位形状要素の接続箇所の少なくとも一部分を覆う接続部４２と、を備える。複数の第１単位形状要素の各々は、複数の第２単位形状要素の各々および接続部よりも高い位置まで本体部の一方の面から突出している。 （もっと読む）

【課題】スリーブのマンドレルへの装着性が良好であり、かつスリーブのがたつきが抑えられたロールスタンパを提供する。
【解決手段】マンドレル１０と、マンドレル１０の先端側から基端側に向かってマンドレル１０の外周に着脱可能に装着されるスリーブ４０とを有し、スリーブ４０の外周面５０に形成された微細凹凸構造を被転写体に転写するロールスタンパ１であって、マンドレル１０が、マンドレル１０の先端側にあるスリーブ４０の開口部（小径開口部４２）に対応する部分（小径部１８）の外径よりも、マンドレル１０の基端側にあるスリーブ４０の開口部（大径開口部４６、フランジ受け部４８）に対応する部分（大径部２２、フランジ部２４）の外径が大きくされ、スリーブ４０とマンドレル１０との隙間が、スリーブ４０の両端の開口部よりも、これらの間のスリーブ中間部４４において広くされている。 （もっと読む）