【課題】半導体装置等の製造における簡易なパターン形成方法を提供する。
【解決課題】基板上に、第一のセグメントと第二のセグメントを有する高分子共重合体を塗布する工程と、前記高分子共重合体に凹部を有するテンプレートを接触させ、前記テンプレートの凹部に前記高分子共重合体を充填する工程と、充填された前記高分子共重合体を第一のセグメントを有する相と第二のセグメントを有する相に相分離させる工程と、前記テンプレートを前記高分子共重合体から離型する工程と、前記高分子共重合体の第一のセグメントを有する相又は第二のセグメントを有する相を除去する工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】光学素子製造用ナノインプリントモールドを高い精度で製造でき、かつ、大面積化にも対応できる製造方法を提供する。
【解決手段】基板１の一方の面に感光性レジスト４を塗布し、この感光性レジス４トにレーザ描画を行い、その後、現像を施して、所望の開口パターン５ａを有するマスクパターン５を形成し、このマスクパターン５を介して基板１を所望の深さまでエッチングしてモールド１１とする。 （もっと読む）

【課題】サーボエリアおよびデータエリアの微細パターンの描画が基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に実行でき、一定ドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、電子ビームＥＢの照射をブランキング手段２４に対するオン・オフ信号によって制御し、ビーム偏向動作を偏向手段２２に対する偏向信号の出力によって制御し、サーボエレメント１３およびグルーブパターン１６またはドットパターンを走査して描画する際に、パターン形状を描画するためのパターン形状偏向信号に加えて、ビームスポットの周方向の相対線速度を調整する相対線速度偏向信号を偏向手段に出力し、サーボエリアでの相対線速度＞基板線速度＞データエリアでの相対線速度に設定して描画する。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィに使用するモールドの凹部の深さを均一にしつつ、モールド面内の任意位置の一定面積におけるモールド凹部の容積を均一化し、製造コストを低減した上で、優れたモールド特性を実現する。
【解決手段】インプリントリソグラフィに使用するモールドを、マスクを用いたエッチングにより製作するモールド製作方法において、モールド面上に所望のパターンを形成するための第１マスクと、第１マスクを覆う第２マスクとを用いてエッチングを行い、第２マスクは、一定の面積内において、モールド面上に形成するパターンの開口率が高いほど、第１マスク開口部を覆う第２マスクの厚みが大きくなるよう設定され、エッチング時、第１マスクによるモールドのエッチングが開始時期を遅延することにより、パターンの開口率が高いほど、エッチングにより形成されるモールド凹部を一定領域内で均一に浅くし、前記一定面積におけるモールド凹部の容積を均一化する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大型サイズの円筒表面に、直接ナノメートル大きさのパターンを大面積で刻むための円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置に関する。
【解決手段】本発明は、磁気浮上原理で円筒を浮上し、非接触で回転及び軸方向に移送しながら円筒表面に直接ナノメートル大きさのパターンを刻むことができる新しい形態のステージと、円筒表面に光を照射する光源とを具現することにより、ナノメートル大きさの誤差で位置を能動制御できるなど、機械加工による誤差及び外乱を実時間的に補正することができて、結局、大型サイズの円筒表面にナノメートル大きさのパターンを効率的に加工できると共に、ステージと組み合わされ、光源と円筒表面との間を、部分的に真空環境が保持されるようにする差動真空手段を具現することにより、Ｘ線や電子ビーム、極紫外線(EUV)のような光源を適用することができる円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】加工性に優れたインプリント用ブランクス、インプリント用テンプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のインプリント用ブランクス１０は、下地層１１と、下地層１１上に積層され、ｓｐ^２混成軌道を形成する炭素とｓｐ^３混成軌道を形成する炭素との混合比が、積層方向に隣接する層間で異なる複数のダイヤモンドライクカーボン層１２、１３と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】金型表面の凹凸を所望の形状に精度良く、かつ再現性良く形成することができ、もって、高い防眩性能を示す防眩フィルムの製造に有用な金型の製造方法および当該方法によって得られる金型を用いた防眩フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】金型用基材２の表面１に対して鏡面加工を施す工程と、鏡面加工された面上に感光性樹脂膜３を形成する工程と、感光性樹脂膜上にパターンを露光する工程と、パターンが露光された感光性樹脂膜４を現像する工程と、現像された感光性樹脂膜を融解させることにより、感光性樹脂膜の表面形状を調整する工程と、表面形状が調整された感光性樹脂膜６上に保護膜７を形成する工程とを含む防眩フィルム製造用金型の製造方法および当該方法によって得られる金型を用いた防眩フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】患部に直接薬剤を打ち込む治療を行うための生体内適合性針状体を再現性良く高精度に製造する方法を提供する。
【解決手段】
複数のエッチング工程によって形成したマスターモールドを反転転写して形成したマスターモールドの針状体の形状を反転転写した微細孔２１ａを備えた針状体成型用モールド２１に溶融した生体内適合性材料を充填する。生体内適合性材料が固化した後、針状体成型用モールド２１取り外すことによって、先端に向かって細径化したテーパ状をなす先端部と該先端部に連なる長手方向にわたって同一径、あるいは径が小さくなる支柱部を有する生体溶解性針状体２２ｂを製造する。
マスターモールドのエッチングにおいて、ボッシュプロセスによって任意の微細形状の支柱部を形成し、酸化シリコン膜の形成の除去を繰り返しによって、先端部の鋭角化を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 保護層を有する金型を形成する方法を提供する。
【解決手段】 保護層を有する金型を形成する方法が、少なくとも１つの実質的に平坦な面を有する金型基板を形成することと、少なくとも１つの実質的に平坦な面の上に金型保護材料の層を堆積させることと、金型保護層を通って、少なくとも１つの実質的に平坦な面内に複数のキャビティをエッチングすることとを含む。 （もっと読む）

【課題】ハードマスク層に対するドライエッチングの進行をスムーズに行うことができ、高いパターン精度で微細パターンを形成するインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】溝により形成されるパターンを有する基板上1の少なくとも一部に、Ｔａを主成分とする化合物またはＨｆとＺｒの少なくとも一方の元素もしくはその化合物を含む材料からなる導電層2と、前記導電層上に設けられた導電層用の酸化防止層3と、を含むハードマスク層が形成された残存ハードマスク層除去前モールド10からインプリント用モールド20を製造するために、還元性ガスを用いたドライエッチングにより前記ハードマスク層を除去する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 コンピュータを用いて擬似的に、充分な深さを持ち、皺やよれのない、特に綾織りの布地調シートを自由なデザインで作成する。
【解決手段】 布領域のサイズ、基本糸幅、基本糸を構成する微細糸の幅等のパラメータを入力する（Ｓ１１）。各画素について、どのブロックに属するかを特定する（Ｓ１２）。各画素の特定されたブロック内における相対位置を算出する（Ｓ１３）。その糸領域がどのような糸領域であるかを確認し（Ｓ１４）、横糸領域である場合は変数を入れ替え（Ｓ１５）、縦糸領域である場合は、糸方向の位置をずらす（Ｓ１６、Ｓ１７）ことにより、糸領域内における相対位置を算出する。さらに画素の高さを算出する（Ｓ１８）。ステップＳ１２〜Ｓ１８の処理を全画素に対して行って布地立体形状を作成し、これを二値化または多値化した後、エッチングまたは彫刻を行ってエンボスシリンダを作成する。 （もっと読む）

【課題】微細領域を有する３次元形状物のプラスチック成形に用いられる金型中子を製造するために、ある程度の厚さを有するレジスト母型を製作する。
【解決手段】３次元形状物の平面投影形状に対応する形状の遮光マスク２を光透過性の基板１に形成する。基板１の一方の面に遮光マスク２を覆ってレジスト層４を形成する。グレースケールマスクを用いてレジスト層４を露光して現像することにより、３次元形状物に対応する本体部４ａおよび本体部４ａの周囲に形成された平板状部４ｂを有する立体形状にレジスト層４を加工する。レジスト層４に対して基板１を通して露光し、レジスト層４を現像することにより、レジスト層４の平板状部４ｂを除去して、レジスト層４の本体部４ａを残すようにレジスト層４を加工する。 （もっと読む）

【課題】より微細な転写パターンを形成するのに適したインプリント方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリト方法によれば、複数回のインプリントモールドの押圧にあたり、既に凸部を用いて押圧された部位同士に挟まれた位置に対応する部位に、インプリントモールドの凸部を押圧する。これにより、インプリントモールドに形成された凹凸パターンのパターン幅よりも微細な転写パターンを得ることが出来る。よって、用いるインプリントモールドの製造時の加工精度の限界よりも更に微細な転写パターンを得ることが出来る。 （もっと読む）

【課題】微細領域を有する３次元形状物の成形に際して、その成形に用いられる金型中子を効率よく製作する。
【解決手段】３次元形状物の平面投影形状に対応する形状の遮光マスク２を光透過性の基板１に形成し、基板１の一方の面に遮光マスク２を覆ってレジスト層４を形成する。グレースケールマスクを用いてレジスト層４を露光して現像することにより、本体部４ａおよび平板状部４ｂを有する立体形状にレジスト層４を加工する。レジスト層４に対して基板１を通して露光し、レジスト層４を現像することにより、本体部４ａの近傍を除くレジスト層４の平板状部４ｂを除去して、本体部および平板部を有する立体形状のレジスト母型を製作する。このレジスト母型を用いて、レジスト母型の立体形状を反転させた立体形状の凹部を有する電鋳スタンパーを製作する。電鋳スタンパーのパターン面を削ることにより、レジスト母型の平板部に対応する部位を除去する。 （もっと読む）

【課題】 管理及び識別を容易に行うことが可能なテンプレートの製造方法等を提供する。
【解決手段】 デバイスパターン及び複数の識別パターンを有する第１のテンプレート１０を用意する工程と、デバイスパターン及び少なくとも１つの所望の識別パターンをテンプレート基板３０に転写して第２のテンプレートを形成する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】撮像レンズの製造コストをさらに低減することが可能な、レンズアレイ等を実現する。
【解決手段】レンズアレイＬは、複数のレンズとして、第１レンズＬ１と、第１レンズＬ１と異なる形状を有している第２レンズＬ２と、が成形されたものである。 （もっと読む）

【課題】高い防眩機能を示す防眩フィルムの製作に有用な、表面に微細な凹凸形状を有する金型の製造方法を提供し、その防眩フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】金型用基材の表面に銅めっきまたはニッケルめっきを施すめっき工程と、該めっき工程によって銅めっきまたはニッケルめっき３が施された表面を切削加工および／または研磨加工することによって表面粗さが０．１μｍ以下の鏡面とする鏡面加工工程と、鏡面加工された面に複数の微細凹部１８を切削加工によって形成する微細凹部形成工程と、微細凹部１８が形成された面に保護膜１９を形成する保護膜形成工程とを含む、金型の製造方法であって、上記微細凹部形成工程における切削加工が、切削される微細凹部間の平均最隣接距離、切削深さが特定の条件を満たす金型の製造方法、およびそれで得られた金型を用いた防眩フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた防眩性能を示し、白ちゃけによる視認性の低下を防止することができるとともに、高精細の画像表示装置に適用した場合においても、ギラツキを発生せずに高いコントラストを発現することができる防眩フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明支持体上に積層された、凹凸表面を有する防眩層とを備え、空間周波数０．０１６μｍ^-1における該防眩フィルムの複素透過関数のエネルギースペクトルＴ₁²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₁²／Ｔ₂²が６０００以下であり、空間周波数０．１０８μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₃²と、空間周波数０．１５５μｍ^-1におけるエネルギースペクトルＴ₂²との比Ｔ₃²／Ｔ₂²が３以上２０以下である防眩フィルム、その製造方法および当該防眩フィルムの製造方法に好適に用いられる金型の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】モールド作成に好適なネガ型化学増幅レジスト組成物、特にネガ型電子線用化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）酸の作用により樹脂（Ａ）を架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。 （もっと読む）

【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Ａｌ_２Ｏ_３基板２０上に非晶質炭素材料のＤＬＣから成る被エッチング層２１を形成する第１の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層２１上に薄膜パターン２２を形成する第２の工程と、薄膜パターン２２をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層２１をエッチングし、複数のナノ凸パターン２００が形成された成型転写面を形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）