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Fターム[4F202CD24]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 型の製造 (4,718) | 型の製造の補助操作 (1,698) | 表面処理 (1,471) | 微細模様のための (934) | エッチングによるもの (397)

Fターム[4F202CD24]に分類される特許

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【課題】表面に多層膜等のコーティングを施すことなく、表面での光の反射を抑制して光の透過効率を向上できる厚さ1mm以上の照明デバイス用カバーを提供する。また本発明は前記照明デバイス用カバーの製造方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂より成り、照明デバイスより発せられた光が透過する厚さ1mm以上の照明デバイス用カバー100であって、少なくとも一方の表面に前記照明デバイスより発せられる光の波長のうち最も短い波長よりも短い間隔Pで配置された凸部10を有し、該凸部10は前記照明デバイス用カバー100の残りの部分と同じ前記熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂により一体で形成されていることを特徴とする照明デバイス用カバー100である。 (もっと読む)


【課題】シリコンエッチングマスタを用いることによる微細パターン形状の自由度の高さを活かしつつ、インプリント等の方法で樹脂複製版を作製するのが困難な場合に、樹脂層にパターンを複製して金属モールドを形成するナノインプリント用モールドの製造方法を提供すること。
【解決手段】シリコン基板表面に所望の形状を有するシリコン微細パターンを形成した、シリコンエッチングマスタを製造し、シリコンエッチングマスタの表面に樹脂層を形成し、樹脂層の表面を部分的に除去することによって、シリコンエッチングマスタの微細パターンの表面を露出し、露出したシリコン微細パターンをエッチングすることによって、シリコン基板上の樹脂層に所望の形状の樹脂層微細パターンを形成した複製版を製造し、複製版を用いて電鋳を行い、金属製のモールドを製造することを特徴とするナノインプリント用モールドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】金型ロールによりナノ構造が転写された被転写膜の厚みが不均一になることを防止することができ、また、金型ロールを容易に交換することができるローラー型ナノインプリント装置を提供する。
【解決手段】金型ロールを回転させることで被転写膜の表面にナノメートルサイズの突起を連続的に形成するローラー型ナノインプリント装置であって、上記金型ロールは、外周面にナノメートルサイズの窪みが形成された円筒体であり、上記ナノインプリント装置は、上記金型ロールの内周面に囲まれた領域に、流体の注入により膨張可能な弾性膜を備える流体容器を有し、上記弾性膜を収縮させた状態で金型ロールの着脱を行い、上記弾性膜を膨張させた状態で金型ロールを内側から保持するローラー型ナノインプリント装置である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、複雑な立体形状を有する金型であっても、密着性のよいフォトマスクが容易に作成でき、しかも繰り返し露光を可能とする再現性の高い位置決め精度を有する露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】熱間プレス成形用金型の表面に成膜したレジスト膜に、露光により所定のパターンを転写する真空圧空成形露光装置であって、レジスト膜が表面に成膜された成形用金型を気密に収容する気密容器と、前記成形用金型を載置する台座と、所定のパターンが形成されたシートを加熱して軟化する加熱機構と、軟化したシートを金型に被せた際にシート下面を台座に吸着させる吸引部と、前記吸引部に接続された吸引機構と、軟化したシートを前記成形用金型に吸着させた状態で当該シートにおける前記パターンをレジスト膜に露光する露光機構と、前記気密容器内を加圧する気体を供給する気体供給部と、を有していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】パターン化メディア用テンプレートおよびテンプレート作製方法を得る。
【解決手段】第1の材料層上にレジスト・パターンが形成され、レジスト・パターン上に第2の材料の等方層が堆積されてレジスト構造の上部および側壁を覆う。第1の材料は第2の材料よりもイオン・ミリングに高い耐性を有し、また第2の材料よりもプラズマ・エッチングに低い耐性を有する。第1の材料はアモルファス・カーボンでよく、また第2の材料は酸化アルミニウムでよい。第2の材料が上部から除去され側壁上に残される。レジスト構造と第2の材料を支えていない第1の層の部分とがプラズマによって除去される。残された構造はレジスト・パターンよりも2倍の高密度を有する。第2の材料の等方堆積およびイオン・ミリングを反復すれば、第2の材料から形成されたものの4倍の高密度ピッチのパターン構造を得ることも可能である。 (もっと読む)


【課題】露光量不足を生じさせずに模様を描画し得る描画方法を提供する。
【解決手段】非露光領域Abのうちの1つが非露光領域Abに対して回転半径方向で接する2つの露光領域Aa1と回転方向で接する2つの露光領域Aa2とで囲まれ、露光領域Aa1の回転方向に沿った長さL1よりも露光領域Aa2の回転方向に沿った長さL2を短くすべき部位が存在する露光パターンPA(模様)の描画時に、露光領域Aa1とすべき第1領域への照射回数をN回、露光領域Aa2とすべき第2領域への照射回数をM回としたときに、第1領域の回転半径方向に沿った第3の長さL3を(N+1)で除した値よりも、M回のうちの最内周側への照射時におけるビーム中心と最外周側への照射時におけるビーム中心との間の回転半径方向に沿った第4の長さL4を(M−1)で除した値の方が小さくなるように照射する。 (もっと読む)


【課題】石英基板をドライエッチングする場合に必要な、フォトリソグラフィーによるマスクの形成工程、その後の石英基板のドライエッチング工程などが不要で、経済的に光インプリント用モールドを製造することが可能な方法を提供する。
【解決手段】
所望のパターンを有する凹凸部3を備えた成型用型4を形成し、この成型用型の凹凸部の形状を光透過性樹脂11b(基材11a)に転写し、光透過性樹脂(基材)に形成された凹凸部の凸部13aの表面に遮光膜5を形成する。
光透過性樹脂の凸部表面に遮光膜を形成するにあたっては、遮光膜となるインクを付着させる、めっき膜を形成する、あるいは、蒸着膜を形成することにより行う。 (もっと読む)


【課題】優れた光学特性を有する光学部材の表面加工用の成形型調製に用いられるエッチングレジスト、該エッチングレジストを用いて得られる成形型の製造方法、及び該製造方法により得られる成形型を提供すること。
【解決手段】金属化合物として金属窒化酸化物を含有してなるエッチングレジスト。本発明のエッチングレジストの一態様としては、金属窒化酸化物が層を形成し、該金属窒化酸化物の層に加えて第1発熱層及び第2発熱層を含有し、これらが第1発熱層、金属窒化酸化物層、及び第2発熱層がこの順に積層されている態様が例示される。 (もっと読む)


【課題】記録ヘッドなどの形状に応じてトラック幅などを最適に設計し得るパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に、ジブロックコポリマーを含有する組成物膜を形成する工程と、前記ジブロックコポリマーを含有する組成物膜を第1の方向にシリンダー状またはラメラ状に相分離させて、第1の方向に延びる第1の相の成分を含む易エッチング領域を形成する工程と、前記相分離したジブロックコポリマーを含有する組成物膜の上に、レジスト膜を形成する工程と、電子線描画または光露光により、前記レジスト膜に、前記第1の方向に交差する第2の方向に延びるパターンを形成する工程と、電子線または光露光によりパターン形成したレジスト膜と前記第2の相の成分を含む耐エッチングパターンとをマスクとして前記基板をエッチングする工程とを具備することを特徴とするパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】
光学基板の射出成形における温度サイクルや樹脂充填時の圧力保持時間などを長くすることなく、光学基板に反射防止用の微細構造を高精度で転写形成できるように、モールド及び当該モールドの製造方法を工夫すること。
【解決手段】
転写されて作成される光学基板の表面に反射防止用の微細構造体を形成する凸形状及び凹形状のうちの少なくとも一方の形状をなす微細構造型体が複数形成されたモールドにおいて、前記微細構造型体間には、隣接する凸形状の微細構造型体を連結する凸形状の連結型部又は隣接する凸形状の微細構造型体間を連結する凹形状の連結型部が形成されており、前記凸形状の連結型部の高さ寸法は前記凸形状の微細構造型体の高さ寸法より小さく、前記凹形状の連結型部の深さ寸法は前記凹形状の微細構造型体の深さ寸法より小さく形成されていることを特徴とするモールド。 (もっと読む)


【課題】寸法の変動を低減し、コストの増大を抑制するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜が形成された基板上に定義されるパターン領域に複数の第1露光区画を互いに隣接させて配列し、パターン領域の全面にわたり第1露光量で、マスクパターンを第1露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。第1露光区画と同一の大きさの第2露光区画を複数配列し、マスクパターンが有する繰り返し図形のピッチに対応する幅の任意の整数倍で第1露光区画に対して行方向及び列方向にずらして互いに部分的に重畳するように設定して、パターン領域よりも広い領域にわたり第2露光量で、マスクパターンを第2露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。第1及び第2露光量の合計が、パターン領域内ではレジスト膜の描画像が所望の寸法範囲の寸法で形成され、パターン領域外では描画像が形成されないようにする。 (もっと読む)


【解決手段】 高スループット且つ低コストのサブミクロン3D構造製品を製造するための3D鋳型を製造するプロセスが開示される。このプロセスは、2光子レーザリソグラフィと3D書き込み技術との使用を統合して、3D構造製品の各層の3D鋳型を作り、次に、ナノインプリントを使用して、その層の上記3D鋳型から3D構造の各層のポリマー薄膜シートを形成する。次に、ポリマー薄膜シートの各層は、サブミクロン3D構造製品に製造される。高スループット且つ低コストのサブミクロン3D構造製品の各層の3D鋳型がさらに使用されて、マスタ鋳型が作られ、次に、マスタ鋳型を使用して、3D構造の各層のポリマー薄膜シートが形成されて、サブミクロン3D構造製品が製造される。このプロセスを使用する適用例も開示される。 (もっと読む)


【課題】複数の段差を備えたインプリントモールドの製造に好適なインプリントモールド製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリントモールド製造方法は、「基板の第1番目の凹パターンが形成された側に、順に、第2番目から第N番目の凹パターンまで形成し、前記第N番目の凹パターンの線幅は第(N−1)番目の凹パターンよりも大きいこと」により、多段構造パターンの中で最も微細なパターンから順に形成することが出来る。このため、線幅の小さい凹パターンを覆うようにレジストを塗布しても、該凹パターンのレジストが埋まる容積が小さいため、平坦となるレジスト膜の厚みを抑制することが出来る。 (もっと読む)


【課題】微粒子径のばらつきに起因したスタンパ凸部の高さのばらつきを抑制すると共に、スタンパ凸部の径のばらつきを低減し、成型加工品の品質を向上する。
【解決手段】凹凸パターンを備えたスタンパの製造方法であって、基板上に微粒子を配列する微粒子配列工程と、基板上に配列された微粒子を覆うように、樹脂層を基板上に形成する樹脂層形成工程と、樹脂層を、微粒子と共に基板から剥離する剥離工程と、基板から剥離された樹脂層の当該基板からの剥離面に対して、エッチング処理を施すことによって、樹脂層の剥離面側から微粒子の一部を、凹凸パターンの凸部として露出させる微粒子露出工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】ナノパターニングされた製品の製造に関し、改善されたライフタイムを有し低コストのモールドの製造方法を提供する。
【解決手段】保護膜4とダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜5とを金属支持体2上に堆積し、以下にてダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜5ナノパターニングする。ハードマスク8を用いドライ・フェーズ中の選択的化学エッチングにより行われ、エッチングはダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜5と保護膜4との間の界面で停止する。ハードマスク8は、あらかじめ自由表面上に堆積されたナノ粒子10によって輪郭が定められているボイド・ラティス11である。保護膜4とナノパターニングされたダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜5とで形成された積層コーティングは、約100nmから約10μmの厚さを有する。 (もっと読む)


【解決手段】 ナノ成形パターンを作成する方法を述べる。この手法は、基板を直接パターニングしおよび/またはインプリント・リソグラフィ・モールドを作成するために使用され、インプリント・リソグラフィ・モールドは、後で他の基板にナノ成形パターンを高歩留まりのプロセスで直接複製するために使用され得る。
(もっと読む)


【課題】微小うねりが小さく、微細構造の形状崩れがない金型部材及び成形品を提供する。
【解決手段】微細溝21または穴により構成された微細構造22を有し、押圧部材に固定され、磁気記録媒体用基板を含む成形品に前記微細構造22を形成するための金型部材20であって、前記押圧部材に固定される固定面25と、該固定面25と反対側の面であって、前記成形品に面する形成面26との両面が研磨されたガラス基板23と、前記ガラス基板23の前記形成面26を底とする前記微細溝21または穴が形成されたSi薄膜24と、を有する。 (もっと読む)


【課題】高分子フィルム面に所望の反射防止膜を効率的に形成可能な陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型スタンパ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記の工程を有する、陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型の製造方法。(1)アルミニウム基材2の表面に陽極酸化を施してアルミナ層3を形成する工程。(2)前記アルミナ層3を除去する工程。(3)前記工程(2)の後、再び陽極酸化を施して細孔を形成する工程。(4)細孔に孔径拡大処理を施す工程。 (もっと読む)


【課題】本発明は、凹凸パターン部へのチッピング等の付着や腐食の少ないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、表面に凹凸パターン部を有する被加工体を用意し、少なくとも上記凹凸パターン部上に、窒化クロムを含むクロム系材料を主成分とする保護層を形成する保護層形成工程と、上記保護層により保護された凹凸パターン部以外の、上記被加工体の部分を加工する加工工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】一枚で十分な光学特性を有し、かつ生産性が良好でコストメリットが得られる光学部品を提供する。
【解決手段】基材上に耐エッチング層を形成し、前記耐エッチング層に対してレーザービームを照射し、レーザービーム照射部分で生じるアブレーションにより前記耐エッチング層に開口部を形成し、この際に隣接する開口部の配置の周期を、周期Lを基準としてL±L/10の範囲でランダムに調整し、前記耐エッチング層に形成された開口部を通して前記基材をエッチングして、前記基材に凹部を形成し、前記耐エッチング層を除去して凹部を有する型を作製し、前記型の形状を光学材料に転写することにより凸部を有する光学部品を製造することを特徴とする光学部品の製造方法。 (もっと読む)


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